JP2012004600A - 偏光性を有する半導体発光素子 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 158
- 230000010287 polarization Effects 0.000 title claims abstract description 27
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 36
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 3
- 239000004038 photonic crystal Substances 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000002050 diffraction method Methods 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 238000000609 electron-beam lithography Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 230000036632 reaction speed Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/1336—Illuminating devices
- G02F1/13362—Illuminating devices providing polarized light, e.g. by converting a polarisation component into another one
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/02—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
- H01L33/08—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a plurality of light emitting regions, e.g. laterally discontinuous light emitting layer or photoluminescent region integrated within the semiconductor body
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01L33/02—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
- H01L33/20—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a particular shape, e.g. curved or truncated substrate
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Abstract
【解決手段】半導体発光素子40は、第1導電型半導体層44、活性層46及び第2導電型半導体層48が積層された半導体構造物を含む半導体発光素子において、上記半導体構造物は上記第2導電型半導体層から少なくとも活性層に至るまでの深さを有するように一定方向に沿って配列された複数の溝領域により形成された複数の光ガイド部Gを含み、上記複数の光ガイド部は長さ方向に該当する偏光成分が選択的に放出されるようにその幅より大きい長さを有する。
【選択図】 図4
Description
34、44 第1導電型半導体層
36、46 活性層
38、48 第2導電型半導体層
G 光ガイド部
H 溝構造
Claims (15)
- 第1導電型半導体層、活性層及び第2導電型半導体層が積層された半導体構造物を含む半導体発光素子において、
前記半導体構造物は、前記第2導電型半導体層から少なくとも活性層に至るまでの深さを有するように一定方向に沿って配列された複数の溝領域により形成された複数の光ガイド部を含み、
前記複数の光ガイド部は長さ方向に該当する偏光性分が選択的に放出されるようにその幅より大きい長さを有することを特徴とする半導体発光素子。 - 前記複数の光ガイド部は、各々その幅より少なくとも3倍大きい長さを有するように形成されたことを特徴とする請求項1に記載の半導体発光素子。
- 前記複数の光ガイド部は、一定周期を有するように形成されたことを特徴とする請求項1に記載の半導体発光素子。
- 前記溝領域は、前記半導体構造物の屈折率より低い屈折率を有する物質で充填されたことを特徴とする請求項1に記載の半導体発光素子。
- 前記第1導電型半導体層、前記活性層及び前記第2導電型半導体層が順次に積層された絶縁性基板をさらに含み、
前記半導体構造物は、前記第1導電型半導体層の一領域が露出されるようにメサエッチングされた構造を有し、前記第1導電型半導体層の前記露出された一領域と前記第2導電型半導体層の一領域に各々形成された第1及び第2電極をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の半導体発光素子。 - 前記複数の溝領域は、各々前記第2電極の隣接した位置から前記第1電極に向かって延長され形成されたことを特徴とする請求項5に記載の半導体発光素子。
- 前記第2導電型半導体層、前記活性層及び前記第1導電型半導体層が順次に積層された導電性基板と、前記第1導電型基板の上面の一領域と前記導電性基板の下面に各々形成された第1及び第2電極をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の半導体発光素子。
- 前記複数の溝領域は、各々前記半導体構造物の一側面から対向する他の側面まで開放されるように延長され形成されたことを特徴とする請求項7に記載の半導体発光素子。
- 前記複数の溝領域は、2個以上の列方向に配列されたことを特徴とする請求項1に記載の半導体発光素子。
- 前記複数の光ガイド部は、前記第2導電型半導体層により相互連結されるように形成されたことを特徴とする請求項9に記載の半導体発光素子。
- 前記半導体構造物は、前記活性層を介して前記活性層から発生する光の半波長の整数倍に該当する間隔で形成された第1及び第2反射層構造からなり、
前記第2反射層構造は光放出方向に位置し、前記第2反射層構造は前記第1反射層構造より前記活性層から発生する光の波長に対して低い反射率を有することを特徴とする請求項1に記載の半導体発光素子。 - 前記第1反射層構造は、前記活性層から発生する光の波長に対して80%以上の反射率を有し、前記第2反射層構造は前記活性層から発生する光の波長に対して20〜60%の反射率を有することを特徴とする請求項11に記載の半導体発光素子。
- 前記第1導電型半導体層、前記活性層及び前記第2導電型半導体層が順次に積層された絶縁性基板をさらに含み、
前記第2反射層構造は前記第2導電型半導体層の上面に位置し、前記第1反射層は前記第1導電型半導体層の内部に位置することを特徴とする請求項11に記載の半導体発光素子。 - 前記第2導電型半導体層、前記活性層及び前記第1導電型半導体層が順次に積層された導電性基板をさらに含み、
前記第1反射層構造は前記第1導電型半導体層の内部に位置し、前記第2反射層構造は前記導電性基板であるか前記導電性基板と前記第1導電型半導体層との間に位置した金属反射層であることを特徴とする請求項11に記載の半導体発光素子。 - 前記第1反射層構造は、相異する屈折率を有する半導体層が複数で交互に積層されて成るDBR構造であることを特徴とする請求項12または請求項13に記載の半導体発光素子。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060061789A KR100818451B1 (ko) | 2006-07-03 | 2006-07-03 | 편광성을 갖는 반도체 발광 소자 |
KR10-2006-0061789 | 2006-07-03 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007156212A Division JP4903089B2 (ja) | 2006-07-03 | 2007-06-13 | 偏光性を有する半導体発光素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012004600A true JP2012004600A (ja) | 2012-01-05 |
JP5294280B2 JP5294280B2 (ja) | 2013-09-18 |
Family
ID=38948358
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007156212A Expired - Fee Related JP4903089B2 (ja) | 2006-07-03 | 2007-06-13 | 偏光性を有する半導体発光素子 |
JP2011217900A Expired - Fee Related JP5294280B2 (ja) | 2006-07-03 | 2011-09-30 | 偏光性を有する半導体発光素子 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007156212A Expired - Fee Related JP4903089B2 (ja) | 2006-07-03 | 2007-06-13 | 偏光性を有する半導体発光素子 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7964877B2 (ja) |
JP (2) | JP4903089B2 (ja) |
KR (1) | KR100818451B1 (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102007053297A1 (de) * | 2007-09-13 | 2009-03-19 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Polarisierte Lichtquelle |
JP2009239217A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-15 | Nikon Corp | 発光ダイオード素子 |
JP5341446B2 (ja) * | 2008-09-19 | 2013-11-13 | パナソニック株式会社 | 半導体発光素子 |
KR101471859B1 (ko) | 2008-11-27 | 2014-12-11 | 삼성전자주식회사 | 발광 다이오드 |
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KR102654925B1 (ko) | 2016-06-21 | 2024-04-05 | 삼성디스플레이 주식회사 | 디스플레이 장치 및 이의 제조 방법 |
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-
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- 2006-07-03 KR KR1020060061789A patent/KR100818451B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2007
- 2007-06-13 JP JP2007156212A patent/JP4903089B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-07-03 US US11/822,186 patent/US7964877B2/en not_active Expired - Fee Related
-
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- 2011-09-30 JP JP2011217900A patent/JP5294280B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7964877B2 (en) | 2011-06-21 |
JP4903089B2 (ja) | 2012-03-21 |
KR100818451B1 (ko) | 2008-04-01 |
US20080012028A1 (en) | 2008-01-17 |
JP2008016836A (ja) | 2008-01-24 |
KR20080003486A (ko) | 2008-01-08 |
JP5294280B2 (ja) | 2013-09-18 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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A711 | Notification of change in applicant |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121023 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R250 | Receipt of annual fees |
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