JP2012002703A - 変位検出装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】変位検出装置1では、対物レンズ3が光源2からの出射光を被測定面101に向けて集光する。被測定面101からの反射光の光路は、分離光学系4により光源2から出射光の光路と分離される。分離光学系4を通った反射光は、集光手段7により集光され、非点収差発生手段8により非点収差が発生した状態で受光部9に入射する。位置情報生成部10は、受光部9で検出した光量から得られるフォーカスエラー信号を用いて被測定面101の位置情報を生成する。そして、集光手段7、非点収差発生手段8又は受光部9は、対物レンズ3により集光された出射光の焦点が被測定面101の奥側に位置するときに、フォーカスエラー信号の値が0になるように光軸上の位置が設定されている。
【選択図】図1
Description
まず、変位検出装置の第1の実施の形態について、図1を参照して説明する。
図1は、変位検出装置の第1の実施の形態を示すブロック図である。
図2は、変位検出装置1の受光部9に照射される照射像の例を示す説明図である。図3は、受光部9によって検出された光量から得られるフォーカスエラー信号の特性を示す図である。
(数1)SFE=(A+C)−(B+D)
本実施の形態では、照射スポットが円形になっている状態の受光部9(受光素子21〜24)を光軸に沿って非点収差発生手段8に接近する方向に移動させると、照射スポットが受光素子21,23側に延びた楕円形になる(図2(a)参照)。
しかし、非点収差発生手段として基板を用いる場合は、非点収差発生手段の光軸上の位置を調整しても、受光部9の4つの受光素子21〜24に照射される反射光の照射スポットは変化しない。したがって、非点収差発生手段として基板を用いる場合は、受光部又は集光手段の光軸上の位置を調整して、焦点位置fを変位させる。
図4は、被測定面上のビーム径と発散光(収束光)の角度との関係を示すグラフである。
次に、変位検出装置の第2の実施の形態について、図5を参照して説明する。
図5は、変位検出装置の第2の実施の形態を示すブロック図である。
対物レンズ3の基準位置を被測定面101から遠ざけて焦点位置fを被測定面101の手前側に設定する場合は、例えば、受光部9(受光素子21〜24)の設置位置を非点収差発生手段8に近づける。これにより、設定前の受光部9の位置では円形であった照射スポットが受光素子22,24側に延びた楕円形になる。
次に、変位検出装置の第3の実施の形態について、図6を参照して説明する。
図6は、変位検出装置の第3の実施の形態を示すブロック図である。
また、非点収差発生手段として基板を用いる場合は、4つの受光素子21〜24に照射される反射光の照射スポットは変化しないため、受光部又は集光手段を光軸方向に移動させるスライド機構を設ける。
これにより、熱源となる光源2を筐体11から切り離すことができ、筐体11内の温度上昇を防止することができる。また、光源2を光ファイバに着脱可能に取り付ける構造にすることにより、筐体11から離れた場所で光源2の交換を行うことができるようになり、メンテナンス性を向上させることができる。
これにより、熱源となる光源2を筐体11から切り離すことができると共に、光ファイバ等の筐体11に接続される部材が削除され、筐体11に振動が伝わらないようにすることができる。
これにより、受光部9の設置位置を自由に設定することができるため、受光部9と位置情報生成部10(フォーカスエラー信号生成部)に近接して配置することができる。その結果、電気通信距離の短縮化を図ることができ、応答速度を高速化することができる。
例えば、被測定面101上の異物や凹凸による回折光が迷光として受光部9へ入射されることをアパーチャにより防止する。その結果、対物レンズ3のデフォーカス量に対する受光素子21〜24の受光量の和信号の制御を高精度に行うことができる。
これにより、受光部9に入射する反射光の光軸方向に垂直な断面内において均一な光強度分布が得られ、被測定面101の面粗度の影響をより低減することができる。
また、こうした光散乱体を例えば1KHz以上で振動させ、散乱方向を様々に変化させると、受光素子21〜24上でのスペックルが平均化され、スペックルコントラストが低減される。
また、被測定面を有する被測定物に光源2から出射される出射光と同一の波長の光を反射させる回折格子を形成してもよい。このような被測定面に対しては、上述した実施の形態の変位検出装置と、回折光を受光して面方向の位置を検出するいわゆるリニアスケールとを組み合わせた変位検出装置を構成することが好ましい。これにより、3次元方向の変位検出が可能となる。
Claims (2)
- 光源と、
前記光源からの出射光を被測定面に向けて集光する対物レンズと、
前記被測定面からの反射光の光路を前記光源から出射光の光路と分離する分離光学系と、
前記分離光学系によって前記出射光の光路と分離された前記反射光を集光する集光手段と、
前記集光手段によって集光された前記反射光に非点収差を発生させる非点収差発生手段と、
前記非点収差発生手段により非点収差が発生した前記反射光の光量を検出する受光部と、
前記受光部により検出された光量から得られるフォーカスエラー信号を用いて前記被測定面の位置情報を生成する位置情報生成部と、を備え、
前記集光手段、前記非点収差発生手段又は前記受光部は、前記対物レンズによって集光された前記出射光の焦点が前記被測定面の手前側又は奥側に位置するときに、前記フォーカスエラー信号の値が0になるように光軸上の位置が設定されていることを特徴とする変位検出装置。 - 前記集光手段、前記非点収差発生手段又は前記受光部のいずれかを光軸方向に移動させる移動機構を備える請求項1に記載の変位検出装置。
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