JP2011517326A - トリブロックポリマーおよびポリマーコーティング - Google Patents

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Abstract

本発明は、トリブロックポリマーを含む、新規のポリマーを、そのポリマーおよびそのようなポリマーを含む化合物を調製する方法と共に提供する。ポリマーは、少なくとも3つのブロック、ポリ(スチレン)を含む第1のブロック、ポリ(エチレン)およびポリ(ブチレン)のランダム配置を含む第2のブロック、ならびに機能化されたポリ(イソプレン)を含む第3のブロックを含む。機能化されたポリ(イソプレン)ブロックの単位は、水酸基および本明細書中で定義されるような、R、R、R、R、R、Rまたはこれらの組み合わせを含む1つ以上のエーテル結合側鎖を含み得る。そのポリマーは、たとえば海洋船舶に対する防汚コーティングを与えるために用いられ得る。

Description

(関連出願)
本出願は、35 U.S.C.§119(e)の下、2008年3月4日に出願された米国仮特許出願第61/033,664号の優先権を主張し、この出願は参照によりその全体が本明細書中に組み込まれる。
(政府支援)
本発明は、合衆国国防軍の戦略的環境調査および開発プログラム(SERDP)によって授与された許可番号WP−1454、ならびに海軍研究局(ONR)によって授与された許可番号N00014−02−1−0170の下での政府支援を用いてなされた。合衆国政府はこの発明に一定の権利を有する。
海洋生物汚損は、海水に浸されるあらゆる表面上の、微生物スライム、植物、および動物の蓄積物である。生物汚染は、世界を股に掛ける航行の運転費用の上積みをする。生物汚損によって生じる海洋船舶上の追加のドラッグ(邪魔な物体)は、動作コストおよび保守コストを大きく増大させる。たとえば、生物汚損は燃料消費を30%程度増やすことがある。金属から誘導される殺生物剤を含む多くの伝統的な防汚(汚れ止め)コーティングは、目標としない生物体への有害な効果と結び付けられてきたので、環境に優しい代替物が探されている。
スズおよび銅殺生物剤を含む防汚塗料が現在、使われており、それはそれらが海洋生物汚損のほとんどに対して有効であるからである。これらの殺生物性有機金属化合物の多くは、環境的に分解されにくいものである。それらは生態系に損害をもたらし、食物連鎖に入り込む。世界中の多くの国で、船体上のトリブチルスズ防汚剤の存在を制限または禁止する対策を受け入れているし、銅ベースのコーティングは近い将来、同様の制限に直面すると予想されている。
非毒性“汚損防止”または“汚損忌避”コーティングは、殺生物性コーティングに対する代替の一つのクラスである。シリコンベースの塗料は市販で入手可能であるが、多くの望まれる性能特性を満たさないことがある。ソフトシリコンも、他の多くの市販で入手可能なコーティングシステムは、海洋環境の厳しい要求に耐えることが要求される強靭さが欠けていたり、十分におよびしっかりと自己浄化しなかったり、またはポリマー再構成もしくは他の分解経路によって、時間と共におよび海洋有機体に晒されると共に、所望の表面特性の多くは失われたりする。
したがって、汚損有機体と表面、たとえば海洋表面との間の接着の強度を弱める物質を現在、政府および船舶業界を含む産業界で探している。海洋生物汚損、たとえば遊走子および珪藻(単細胞藻)のような海洋有機体による汚損に耐性がある表面がまた、探されている。汚損有機体および環境条件の多様性によって、世界中で、汚損への耐性のあるコーティングの開発は挑戦的な仕事となっている。よって、生物汚損の問題への新規な非毒性の解決法が要求されている。
両親媒性海洋防汚/汚損防止コーティングが、トリブロック共重合体(コポリマー)の化学的修飾によって開発された。ポリスチレン−ブロック−ポリ(エチレン−ランダム−ブチレン)−ブロック−ポリイソプレンABCトリブロック共重合体は、親水性PEG550、疎水性F10H10、および両親媒性エトキシ化フルオロアルキル側鎖などの、様々な側鎖を用いてポリイソプレンブロックを機能化することによって修飾された。結果として得られるポリマーは、1)基板、たとえばスチール;2)プライマー、たとえばエポキシ;3)プライマーに接着するために選択された機能ブロックポリマー層、たとえばマレイン化ブロック共重合体;4)厚く、強靭な弾性層、たとえばポリスチレン−ブロック−ポリ(エチレン−ランダム−ブチレン)−ブロック−ポリスチレン;および5)本明細書に記載されているような側鎖機能性表面活性ブロック共重合体の薄い層、の1つ以上を含む多層コーディングを形成するために用いられ得る。
本発明は、本明細書に記載されている新規のポリマー、そのポリマー、およびそのポリマーを含む化合物を調製する方法提供する。そのポリマーは、防汚コーティングを形成するために用いられ得る。
ある態様では、ポリマーは少なくとも3つのブロック、ポリ(スチレン)を含む第1のブロック、ポリ(エチレン)およびポリ(ブチレン)のランダム配置を含む第2のブロック、ならびに機能化されたポリ(イソプレン)を含む第3のブロックを含む。機能化されたポリ(イソプレン)ブロックの繰り返し単位は、水酸基およびR、R、R、R、R、Rまたはこれらの組み合わせを含む1つ以上のエーテル結合側鎖を含み得る。Rは、−(OCHCHOCHであって、ここで各nは独立に8〜16であって良い。Rは、−O(CH(CFFであって、ここで各xおよびyは独立に2〜12であって良く;Rは、−(OCHCH(CFCFFであり、ここで各qは独立に1から約25であり、各rは独立に0から約18であって良く;Rは、−(OCHOCHOC(CHCHであって、ここで各nは独立に6〜16であって良く;Rは、−(OCHOCH(CHCHであって、ここで各nは独立に8〜16であって良く;ならびに/またはRは、−(OCHOCH(CHSi(CH)(OSi(CHであって、ここで各nは独立に8〜16であって良い。
ある実施形態では、本明細書で記載されているポリマーのポリ(スチレン)ブロックは約4,000から約12,000の分子量を有し、ポリ(エチレン)ランダムポリ(ブチレン)ブロックは約15,000から約50,000の分子量を有しても良く、および機能化されたポリ(イソプレン)ブロックは、約5,000から約25,000の分子量のポリ(イソプレン)ブロックから誘導されていても良い。分子量は、平均重さ分子量であっても良い。
別の実施形態では、1つ以上のエーテル結合側鎖は、少なくともRおよびRを有し、且つ少なくとも5%の機能化ポリ(イソプレン)ブロックの繰り返し単位はR側鎖を有し、少なくとも3%は機能化ポリ(イソプレン)ブロックの繰り返し単位はR側鎖を有する。
さらに別の実施形態では、1つ以上のエーテル結合側鎖は少なくともRを有し、Rのnは約12である。別の実施形態では、1つ以上のエーテル結合側鎖は少なくともRを有し、Rの各xおよび各yは約10である。別の実施形態では、1つ以上のエーテル結合側鎖は少なくともRを有し、Rの各xおよび各yは独立に約2、4、6、8、または10である。別の実施形態では、1つ以上のエーテル結合側鎖は少なくともRを有し、Rの各qおよび各rは約3から約15である。さらに別の実施形態では、1つ以上のエーテル結合側鎖は少なくともR、R、およびRを有し、Rの各nは約7から約10、Rの各nは約10から約15、およびRの各nは約10である。
ある実施形態では、機能化されたポリ(イソプレン)ブロックの繰り返し単位の約5%から約40%はR側鎖を有する。別の実施形態では、機能化されたポリ(イソプレン)ブロックの繰り返し単位の約3%から約60%はR側鎖を有する。
ある実施形態では、1つ以上のエーテル結合側鎖は少なくともRおよびRを有し、機能化されたポリ(イソプレン)ブロックはR側鎖より高いパーセンテージのR側鎖を有し、コーティングは海洋環境中でコーティングからアオサ芽胞体の脱離を促進する。別の実施形態では、1つ以上のエーテル結合側鎖は少なくともRおよびRを有し、機能化されたポリ(イソプレン)ブロックは、約8,000から約22,000の分子量のポリ(イソプレン)ブロックから誘導され、機能化されたポリ(イソプレン)ブロックはR側鎖より高いパーセンテージのR側鎖を有し、コーティングは、ポリ(ジメチルシロキサン)コーティングより広くアオサ胞子の着生を阻止する。
さらなる実施形態では、1つ以上のエーテル結合側鎖は少なくともRおよびRを有し、機能化されたポリ(イソプレン)ブロックはR側鎖より高いパーセンテージのR側鎖を有し、およびコーティングは、海洋環境中でコーティングからナビクラ珪藻の脱離を促進する。別の実施形態では、上述のポリマーを有する防汚コーティングは、海洋環境中で、ポリ(スチレン−エチレン−ブチレン−スチレン)ポリマー表面またはポリ(ジメチルシロキサン)表面より少ないフジツボキプリス幼生の着生をもたらす。
別の態様では、本発明はまた、式I:
を含むポリマーを提供する。ここで、
は約50から約120であり;
nおよびnは、ブロックmが約15,000から約50,000の分子量を有するように選択され;
は約75から約375であり;
rは、ブロックm内の個々のnおよびn単位の配列がランダムであることを示し;
は、個々のn単位およびm単位の配列は可逆的で、エチル側基はn単位の炭素上に存在しても良く、およびRはm単位の内部炭素のいずれかの上に存在しても良いことを示し;
各独立な部分単位はm中で、RおよびRの一つは−OHであり、他のものはR、R、R、R、R、R、H、またはOHであり、ここでR、R、R、R、R、およびRは上で定義されたようなものである。少なくともRおよびRのいつくかは、R、R、R、R、R、およびRの1つ以上である。様々な実施形態で、化合した、少なくとも1%のRおよびR基は、R、R、R、R、R、R、またはそれらの組み合わせである。他の実施形態では、化合した、約2%、約3%、約4%、または約5%のRおよびR基は、R、R、R、R、R、およびRの1つ以上である。
別の態様では、本発明は、少なくとも3つのブロック、ポリ(スチレン)を含む第1のブロック、ポリ(エチレン)およびポリ(ブチレン)のランダム配置を含む第2のブロック、ならびに機能化されたポリ(イソプレン)を、−OH(水酸基)およびエーテル結合側鎖RおよびRを含む機能化されたポリ(イソプレン)ブロックの繰り返し単位と共に含む第3のブロックを含むポリマーを提供する。Rは、−(OCHCHOCHであって、各nは独立に8〜16であるものであり、Rは、−O(CH(CFFであって、各xおよびyは独立に4〜12であるものである。実施形態によっては、1つ以上のエーテル結合側鎖は、少なくともRおよびRを含み、少なくとも約5%の機能化されたポリ(イソプレン)ブロックの繰り返し単位は、R側鎖を有し、少なくとも約3%の機能化されたポリ(イソプレン)ブロックの繰り返し単位は、R側鎖を有する。
別の態様では、本発明は、式II:
を含むポリマーであって、mが約50から約120であるものを提供する。nおよびnは、ブロックmが約15,000から約50,000の分子量を有するように選択される。mは約75から約375である。rは、ブロックm内の個々のnおよびn単位の配列がランダムであることを示す。zは、個々のn単位およびm単位の配列は可逆的であり、エチル側基はn単位の炭素上に存在しても良く、Rはm単位の内部炭素のいずれかの上に存在しても良いことを示す。各独立な部分単位m中で、RおよびRの一つは−OH(水酸基)であり、他のものはR、R、H、またはOHである。Rは、−(OCHCHOCHであって、各nは独立に8〜16であり、Rは、−O(CH(CFFであって、xおよびyは各々独立に2〜12である。実施形態によっては、1つ以上のエーテル結合側鎖は、少なくともRおよびRを含み、少なくとも5%のm単位はR側鎖を有し、少なくとも3%のm単位はR側鎖を有する。
ある態様では、本発明はまた、少なくとも3つのブロック、ポリ(スチレン)を含む第1のブロック、ポリ(エチレン)およびポリ(ブチレン)のランダム配置を含む第2のブロック、ならびに機能化されたポリ(イソプレン)を含む第3のブロックを含むポリマーを提供する。機能化されたポリ(イソプレン)ブロックの繰り返し単位は、水酸基およびエーテル結合側鎖Rを含む。Rは、−(OCHCH(CFCFFであって、各qは独立に1から約25であり、ここで各rは独立に1から約18である。少なくとも3%の機能化されたポリ(イソプレン)ブロックの繰り返し単位はR側鎖を有する。
別の態様では、本発明は、式III:
を含むポリマーであって、mが約50から約120であるものを提供する。nおよびnは、ブロックmが約20,000から約30,000の分子量を有するように選択される。mは約75から約375である。rは、ブロックm内の個々のnおよびn単位の配列がランダムであることを示す。zは、個々のn単位およびm単位の配列は可逆的であって、エチル側基はn単位のいずれかの炭素上に存在しても良く、Rはm単位のいずれかの内部炭素の上に存在しても良いことを示す。各独立な部分単位m中で、RおよびRの一つは−OHであり、他のものはR、H、またはOHである。Rは、−(OCHCH(CFCFFであって、各qは独立に1から約25であり、各rは独立に1から約18である。少なくとも3%のm単位はR側鎖を有する。
ある態様では、本発明は、上述のポリマーのいずれか1つを含む表面層、およびサーモプラスチックエラストメリックポリマー、たとえば、約5MPaより小さいヤング率を有するエラストメリックポリマーを含む基礎層を含む防汚コーティングを含む。加えて、上述のポリマーのような、本明細書中で記載されるポリマーは、防汚コーティングを提供するために用いられ得る。コーティングは、単一層、二重層、または多重層コーティングであり得る。コーティングは、本発明のポリマーの表面層およびサーモプラスチックエラストメリックポリマーである基礎層、ならびにオプションとして、たとえば基礎層を汚損から保護する表面に接着するために、他の層または接着剤を含み得る。防汚コーティングは、たとえば、コーティングが海洋環境中にあるとき、海洋藻、藻胞子または藻芽胞体、細菌細胞、珪藻、原生動物、フジツボ、またはこれらの組み合わせなどの海洋有機体に対して防汚性能を示し得る。
以下の図面は明細書の一部をなし、本発明の特定の実施形態の様々な態様または性質をさらに記載するために含まれている。
図1乃至図8に対して、線およびバーのラベルは、例1の表1−1中に記載されている、対応するポリマーを指す。
一実施形態に従う、0°の入射角で取得されたPS8K−b−P(E/B)25K−b−PI20K前駆体ポリマーから誘導された両親媒性SABCの表面のX線光電子分光(XPS)スペクトルを示している。 G1652M SEBS、PDMSeおよびPS8K−b−P(E/B)25K−b−PI20K誘導両親媒性SABC上のアオサ胞子の着生を示している。各点は3つの複製スライド上の90カウントからの平均である。バーは、95%信頼限界を示している。 G1652M SEBS、PDMSeおよびPS8K−b−P(E/B)25K−b−PI20K誘導両親媒性SABC上のアオサ芽胞体の成長を示している。各点は蛍光プレートリーダを用いて測定された6つの複製スライドからの平均生物量である。バーは平均の標準誤差を示している。 G1652M SEBS、PDMSeおよびPS8K−b−P(E/B)25K−b−PI20K誘導両親媒性SABC上のアオサ芽胞体の除去を示している。スライドはある圧力領域でウォータージェットに晒された。1つのスライドが各圧力に対して用いられた。 PS8K−b−P(E/B)25K−b−PI10K誘導SABC上のアオサ胞子の着生濃度を示している。各点は3つの複製スライド上の90カウントからの平均である。バーは、95%信頼限界を示している。 PS8K−b−P(E/B)25K−b−PI10K誘導SABC上のアオサ胞子の除去を示している。各点は3つの複製スライド上の90カウントからの平均である。バーは、95%信頼限界を示している。 7日後のPS8K−b−P(E/B)25K−b−PI10K誘導SABC上のアオサ芽胞体の成長を示している。各点は蛍光プレートリーダ(FPU;相対蛍光単位)を用いて測定された6つの複製スライドからの平均生物量である。バーは平均の標準誤差を示している。 PS8K−b−P(E/B)25K−b−PI10K誘導SABC上からのアオサ芽胞体の脱離を示している。コーティングされたスライドはある圧力領域でウォータージェットに晒された。1つのスライドが各圧力に対して用いられた。 PS8K−b−P(E/B)25K−b−PI20K誘導両親媒性SABC上のナビクラ珪藻の穏やかな洗浄の後の初期付着を示している。各点は3つの複製スライド上の90カウントからの平均である。バーは、95%信頼限界を示している。 23Paの剪断(シア)圧力に晒した結果としての、PS8K−b−P(E/B)25K−b−PI20K誘導両親媒性SABC上のナビクラ珪藻の脱離を示している。各点は3つの複製スライド上の90カウントからの平均である。バーは、95%信頼限界を示している。 ガラス、SEBSおよびPDMS制御と比較した、2つの混合SABCコーティング上の、相対的なフジツボキプリス幼生の着生の平均を示している。着生“率”は、検査表面上に存在する(分析物中で用いられる幼生懸濁液中に存在する)幼生の割合である。 チャンネルトロン電子検出器において50°のX線入射角度と−150Vの入力グリッド電圧で得られたPS−b−P(E/B)−b−PI−AMP(上)およびPS−b−P(E/B)−b−PI−PEG550(下)のC1s NEXAFSスペクトルを示している。PS−b−P(E/B)−b−PI−AMPは、PS−b−P(E/B)−b−PIポリマーであって、PIブロックがエトキシ化フルオロアルキル側鎖(たとえば、ゾニール(登録商標)FSO−100)から誘導された側鎖)で機能化されているものを指す。PS−b−P(E/B)−b−PI−PEG550は、PS−b−P(E/B)−b−PIポリマーであって、IブロックがPEG550側鎖で機能化されているものを指す。 ガラス、PDMSおよびPDMS制御に相対的な、SABC上のアオサ胞子の着生を示している。各点は3つの複製スライド上の90カウントからの平均である。バーは、95%信頼限界を示している。ラベルAMP,F10H10、およびPEG550は、例2中に記載されているポリマーを指す。 ガラス、PDMSおよびPDMS制御に相対的な、SABCからのアオサ芽胞体の脱離を示している。スライドはある圧力領域でウォータージェットに晒された。1つのスライドが各圧力に対して用いられた。ラベルAMP,F10H10、およびPEG550は、例2中に記載されているポリマーを指す。 図10乃至図14に対して、K3A、K3F、およびK3Pはそれぞれ、10Kイソプレンブロックを有する、両親媒性、フッ素化、およびペグ化PS−b−P(E/B)−b−PIトリブロックポリマーを指す。K4Aは、20Kイソプレンブロックを有する両親媒性PS−b−P(E/B)−b−PIトリブロックポリマーを指す。これらのポリマーの各々は、例3中に記載されている。 表面活性トリブロック共重合体コーティング上のアオサ胞子の着生を示している。各点は3つの複製スライド上の90カウントからの平均である。バーは、95%信頼限界を示している。 7日後の表面活性トリブロック共重合体コーティング上のアオサ芽胞体の成長を示している。各点は蛍光プレートリーダ(FPU;相対蛍光単位)を用いて測定された6つの複製スライドからの平均生物量である。バーは平均の標準誤差を示している。 表面活性トリブロック共重合体コーティングからアオサ芽胞体の脱離を示している。コーティングされたスライドはある圧力領域でウォータージェットに晒された。1つのスライドが各圧力に対して用いられた。 ナビクラの穏やかな洗浄の後の表面活性トリブロック共重合体コーティング上への初期付着を示している。各点は3つの複製スライド上の90カウントからの平均である。バーは、95%信頼限界を示している。ラベルSは、SEBベースコーティングを指す。 表面活性トリブロック共重合体コーティングからナビクラの脱離を示している。各点は3つの複製スライド上の90カウントからの平均である。バーは、逆正弦変換されたデータから導出された95%信頼限界を示している。 図15乃至図26に対して、線およびバーのラベルは、例3の表3−4中に記載されている、対応するポリマーを指す。 表4−5のスプレイコーティングの接触角を示している。データは図18−図20と比較できるようにプロットされた。 フッ素化およびペグ化されたトリブロック共重合体コーティング上のアオサ胞子の着生濃度を示している。各点は3つの複製スライド上の90カウントからの平均である。バーは、95%信頼限界を示している。 フッ素化およびペグ化されたトリブロック共重合体コーティングからのアオサ胞子の解離を示している。各点は3つの複製スライド上の90カウントからの平均である。バーは、逆正弦変換されたデータから導出された95%信頼限界を示している。 7日後のフッ素化およびペグ化されたトリブロック共重合体コーティング上のアオサ芽胞体の成長を示している。各点は蛍光プレートリーダ(FPU;相対蛍光単位)を用いて測定された6つの複製スライドからの平均生物量である。バーは平均の標準誤差を示している。 フッ素化およびペグ化されたトリブロック共重合体コーティングからアオサ芽胞体の脱離を示している。コーティングされたスライドはある圧力領域でウォータージェットに晒された。1つのスライドが各圧力に対して用いられた。 図16中の曲線から導出された芽胞体バイオフィルム(WP50)の50%解離に対する臨界表面水圧を示している。文字PDMSeの下の線は、PDMSeから芽胞体の50%を解離するための臨界表面水圧を表す。 7日後のフッ素化およびペグ化されたトリブロック共重合体コーティング上のアオサ芽胞体の典型的な成長に対するデータを示している。左から、ガラス、PDMSe、MD、100F、80F、60F、50F、40F、20F、0Fである。 42kPaの水圧に晒した後にフッ素化およびペグ化されたトリブロック共重合体コーティングからのアオサ芽胞体の解離のデータを示している。左から、ガラス、PDMSe、MD、100F、80F、60F、50F、40F、20F、0Fである。
(海洋生物汚損)
船舶表面は、コロニーを作る有機体を急速に蓄積する傾向を有するが、そのような有機体は、微視的バクテリア、シアノバクテリア、珪藻などの藻および単細胞真核生物の胞子から、脊椎動物の大きめの幼虫まで及んでいても良い。コロニー形成は、表面の水への没入の数分から数時間内に開始し得て、引き続き、コロニー形成は強く付着した細胞からなるバイオフィルムの形成が起こり得る。付着した藻の胞子および無脊椎動物の幼虫は、巨視的な成体まで急速に成長し得る。船体上へのバイオマスの蓄積は、海洋移動にかなり有害であって、低い動作スピードおよび/または増大した燃料消費をもたらす高い流体抗力を生む。
生物汚損を防ぐために用いられるある有毒な塗料は、環境についての関心を提起してきた。塗料中の生物蓄積金属は、海洋環境中にリーチ(浸出)し得て、海洋エコシステム(環境系)に有害な影響を及ぼす。より環境にやさしいアプローチは、有機体を汚損することによってコロニー形成を阻止する、または表面に付着し成長するこれら有機体の接着の力を最小化することができる非毒性コーティングを用いることである。
遊走子の着生はポリ(ジメチルシロキサン)(PDMS)表面によって促進され得るが、胞子および芽胞体の両方の接着力は親水性ガラス基板上より弱いことがあるが、このことは現在用いられているPDMS防汚コーティングの好ましい特性である。PDMSエラストマーは、低い表面エネルギー、低い微視的乱雑さ、および低いモジュラスなどのその特性により、市販の汚損防止コーティング中で用いられている。アオサ芽胞体は一般に、PDMSからたやすく解離する。対照的に、珪藻(単細胞藻)は、PDMSへの強い接着を示す。よって、珪藻が支配的な海洋バイオフィルムは、PDMSベースの汚損防止コーティングから容易に解離されない。したがって、海洋防汚研究の目標は、両方の有機体による汚損を阻止する表面を見出すことである。
最近、疎水性、低表面エネルギーフッ素化部分をたんぱく質耐性親水性PEG含有基と組み合わせた、いくつかの両親媒性の汚損防止コーティングが報告されている。Gudipatiらは、PDMS制御よりアオサ芽胞体をより多くの解離を示した、線形PEG部分と組み合わせたハイパーブランチフルオロポリマー基の両親媒性ネットワークからなるコーティングの開発について報告した(Langmuir、2005、21、3044)。加えて、2つの別々の研究で、Krishnanら(Langmuir、2006、22、5075)およびMartinelliら(Langmuir、2008、24、13138)は、緑藻アオサおよびナビクラ珪藻の両方の芽胞体の容易な解離が可能であったグラフトエトキシ化フルオロアルキル基を含む側鎖ブロックコポリマーについて報告した。このことは、両親媒性の汚損防止コーティングは、現在使われている他のコーティングより広い範囲の有機体によって着生および接着を阻止する能力を有することを示唆する。海洋汚損制御への実際上の解決に対する多くの大局的要請により、この分野での追加の研究が要求されている。
(ポリマーとコーティング)
両親媒性トリブロック表面活性ブロック共重合体(SABC)は、ポリスチレン−ブロック−ポリ(エチレン−ランダム−ブチレン)−ブロック−ポリイソプレンABCトリブロック共重合体前駆体の化学的修飾を介して合成された。数平均分子量約500kDa(PEG550)を有するポリ(エチレン グリコール)メチルエーテルおよび部分フッ素化デシルアルコール(F10H10OH)は、疎水性基および親水性基の両方をポリマー骨格のポリ(イソプレン)ブロックに付与するために異なるモル比で付着させた。実質的に均一なエトキシ化フルオロアルキル側鎖を混合した両親媒性コーティング(たとえば、ゾニール(登録商標)界面活性剤)もまた評価された。
改質されたポリマー表面は、赤外分光法、H NMR分光法および成分分析の組み合わせを用いて特徴づけされ、広い領域の異なる相対量側鎖の混合を確認した。ポリマーの表面は、十分な再構成が可能な動的表面であることを示す大きな水接触角ヒステリシスを示した。F10H10側鎖のポリマーへの混合の増加は、C1s XPS解析に関しては−CF−および−CFピーク強度の増大およびC1s NEXAFS測定に対しては、1s→σ C−F共鳴の増大をもたらし、この低エネルギー部分の偏析(セグレゲーション)を示した。同様の性質は、両親媒性エトキシ化フルオロアルキル側鎖を含むポリマーに対しても観測された。
ポリスチレン−ブロック−ポリ(エチレン−ランダム−ブチレン)−ブロック−ポリ(スチレン)(“SEBS”)の厚めの層の上に配置された両親媒性SABCの薄い層からなる、ガラススライド上の二重コーティングが、生物汚損分析物として調製された。付着側鎖の組成を変化させると、表面構造の明らかな違いが確認された。
本明細書中に開示されているポリマーは、アオサ胞子/芽胞体およびナビクラ珪藻の着生への耐性を示し、アオサ胞子/芽胞体およびナビクラ珪藻の解離を促進した。生物汚損分析物では、緑藻アオサの胞子着生のわずかな増加が、親水性F10H10側鎖を多めに混合した表面上で見出され、その一方、PEG550側鎖は着生を抑制した。一般に、アオサ胞子に対する最も低い着生は、大量のF10H10側鎖混合を有するコーティングに対して見られた。アオサ芽胞体解離分析物は、同様の傾向は示さなかった。しかしながら、PEG550およびF10H10側鎖の混合物を混合した両親媒性SABCは、驚くべきことに良い性質を持つ。フローチャンネルを用いたアオサ胞子解離およびウォータージェットを用いたアオサ芽胞体解離の分析は、PEG550を大多数の混合物とする方向に指向された、疎水性および親水性側鎖の最適混合が達成され得ることを示した。
ナビクラ珪藻、単細胞藻の着生は、これら2組のコーティングの間では顕著な差異はなかったが、それは恐らくそれらが重力的着生の機構によっているためであろう。しかしながら、汚損防止分析物では、ナビクラ珪藻の解離は、以前の報告とは対照的に、疎水性F10H10側鎖の比率を増加させるにつれて増加した。コーティングシステムの性能はよって、公知の汚損防止物質であるPDMSの汚損防止性能より良い汚損防止性能を得られるように最適化され得る。
加えて、エトキシ化フルオロアルキル側鎖を含むSABC上への胞子の付着の強度は、PDMSeスタンダード上より低かった。珪藻付着強度はまた、これら両親媒性エトキシ化フルオロアルキルSABC上では非常に低かった。よって、両方のタイプの両親媒性ポリマーコーティングの例外的な汚損防止性能は、これらのポリマーを防汚コーティングとして用いる有用性を立証している。
(定義)
本明細書で用いられているように、以下の用語は規定された意味を有する。本明細書中で用いられるあらゆる他の用語およびフレーズは、当業者が理解するであろうように、通常の意味を有する。そのような通常の意味は、R.J.LewisによるHawley’s Condensed Chemical Dictionary第14版、John Wiley&Sons、New York、N.Y.、2001のような技術辞典の参照によって得られるだろう。
明細書中で“一実施形態”、“ある実施形態”、“ある実施形態例”などへの参照は、記載された実施形態が、特定の態様、特徴、構造、部分、または特性を含んでも良いが、どの実施形態も必ずその態様、特徴、構造、部分、または特性を含んだりはしないことを示す。さらに、そのようなフレーズは、必然的ではないが、明細書の他の部分中に参照されている同じ実施形態を参照する。さらに、特定の態様、特徴、構造、部分、または特性がある実施形態に関連して記載されるときは、明示的に記載されているか否かにかかわらず、他の実施形態に関連するそのような態様、特徴、構造、部分、または特性に影響を及ぼすことは当業者の知識の範囲内である。
用語“および/または”は、この用語に関連する用語のいずれか一つ、この用語に関連する用語のあらゆる組み合わせ、またはこの用語に関連する用語の全てを意味する。
単数形“a(たとえば、ある、一つの)”、“an(たとえば、ある、一つの)”、および“the(たとえば、前記)”は、文脈が明らかにそうでないことを示さない限り、複数参照を含む。つまり、たとえば、“あるポリマー”の参照は、そのようなポリマーの複数を含み、よってポリマーXは、複数のポリマーXを含む。
用語“約”は、記載された値の±5%、±10%、±20%、または±25%の変動を指しても良い。たとえば、“約50”パーセントは、実施形態によっては、45から55パーセントまでの変動を伴い得る。整数領域に対しては、用語“約”は、明示された整数より大きいおよび/または小さい、1つまたは2つの整数を含み得る。本明細書中で特に断らなければ、用語“約”は、個々の構成要素、構成物、または実施形態の機能に関して等価である特定の領域のすぐ近くの値、たとえば重量パーセント、を含むことが意図されている。加えて、本明細書中で特に断らなければ、記載された領域(たとえば、重量パーセントまたは炭素基)は、領域内の各特定の値、整数、少数、または恒等関数を含む。
フレーズ“1またはそれ以上(1以上)”は、当業者には、特にその使用の文脈で読むときには、難なく理解される。たとえば、フェニル環上の1以上の置換は、1つから5つ、またはもしフェニル環が2個の置換原子を有するならば、1つから4つを指す。ポリマーの1つ以上の部分単位は、約5から約5,000、またはその領域内の約100または約1,000のいかなる増分を指し得る。他の実施形態では、1以上は、1から約50、1から約30、1から約20、1から約12、1から約10、1から約8、1から約5、1から約3、または2、または本明細書中で参照されたいかなる領域を指す。
ポリマーの分子量を参照するときは、本明細書中で特に断らなければ、特定の量は典型的には重量平均分子量である。実施形態によっては、記載された重量は、数平均分子量を指し得る。
当業者には認識されるであろうが、発明のいくつかの実施形態の、カイラル中心を有する化合物またはポリマーは光学活性でラセミ体の形態で存在し単離されていても良い。本発明の態様は、本発明の化合物の、いかなるラセミ体の、光学活性で、多形の、もしくは立体異性の形式、またはそれらの混合物であって、本明細書に記載されている有用な特性を有し、(たとえば、光学活性開始物質から合成によって、再結晶化技術により形成されたラセミ体の形態の分割を用いることによって、またはカイラル定常相を用いてクロマトグラフ的に分離することによって)光学活性な形態を如何に調製するのかが技術的によく知られているものを包含する。よって、本明細書中に開示される化合物およびポリマーは、これらの化合物の様々な構造的変化から生じる全ての立体化学的な異性体を含む。
“置換(置換される)”とは、“置換”を用いた表式中に示された原子の標準の原子価を超えず、置換によって安定な化合物がもたらされるならば、示された基の1つ以上の水素が、選択適合基で置き換えられ得ることを示すことが意図されている。適合基は、たとえば、アルキル、アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アリール、ヘテロアルキル、複素環、環状アルキル、アミノ、アルキルアミノ、ニトロ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、カルボキシ、カルボキシアルキル、ケト、チオキソ、シアノ、アセトキシ、アセチル、ベンゾイル、ベンゾイルアミノ、ベンゾイルオキシ、ベンジル、ベンジルオキシ、ベンジルオキシカルボニル、エチレングリコール、NRNRおよび/またはCOORであって、各RまたはRは独立に水素、アルキル、アルケニル、アリール、ヘテロアリール、複素環、環状アルキル、もしくはヒドロキシを含む。当業者には容易に理解されるだろうが、置換基がケト(すなわち、=O)またはチオキソ(すなわち、=S)等であるときはよって、置換された原子上で2つの水素原子が置換されている。置換基は、アルキル鎖またはエチレングリコール鎖によって、置換された原子から分離され得るし、アルキル基によって終端され得る。
ラジカル、置換基、および範囲に対して記載された特定の値、ならびに本明細書中で記載された本発明の特定の実施形態は、例示を目的としたものであり、当業者には認識されるであろうように、他の限定された値または定義域内の他の値を排除しない。
本明細書中で用いられるように、用語“アルキル”は、たとえば1から約20の炭素原子、およびしばしば1から約15または1から約12の炭素原子を有する分岐、不分岐、または環状炭化水素を指す。例は、限定はしないが、メチル、エチル、1−プロピル、2−プロピル、1−ブチル、2−メチル−1−プロピル、2−ブチル、2−メチル−2−プロピル、1−ペンチル、2−ペンチル、3−ペンチル、2−メチル−2−ブチル、3−メチル−2−ブチル、3−メチル−1−ブチル、2−メチル−1−ブチル、1−ヘキシル、2−ヘキシル、3−ヘキシル、2−メチル−2−ペンチル、3−メチル−2−ペンチル、4−メチル−2−ペンチル、3−メチル−3−ペンチル、2−メチル−3−ペンチル、2,3−ジメチル−2−ブチル、および、3,3−ジメチル−2−ブチル、ヘキシル、オクチル、デシル、またはドデシルを含む。アルキルは、置換型であっても、または非置換型であっても良い。アルキルはまた、オプションとして、部分的にまたは完全に不飽和であっても良い。したがって、アルキル基の列挙には、アルケニル基およびアルキニル基の両方を含む。アルキルは上で記載され、例示されているように、一価の炭化水素ラジカルであっても良いし、または二価の炭化水素ラジカルであっても良い。
アルコキシは、たとえば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、iso−ブトキシ、sec−ブトキシ、ペントキシ、3−ペントキシ、ヘキシルオキシ、またはオクチルオキシなどの(C−C12)アルコキシであり得る。アルキルまたは(“アルコキシ”−カルボニルを含む)アルコキシの可能性のあるあらゆる炭素原子がオプションとして、不置換型または置換型であり得る。
用語“ヘイロ”または“ハライド”は、フルオロ、クロロ、またはヨードを指す。
本明細書中で用いられているように、用語“単位(ユニット)”、“マー”、または“複数のマー”は、特定のモノマーから誘導されたポリマーの部分を指す。ポリスチレン、たとえば、スチレンのマーは、ポリスチレン、たとえばエチル基が1,2ラジカルであるフェネチル基を形成するためにスチレンから調製されたポリマーのセグメントを指す。したがって、マーは、不飽和モノマーから誘導された特定の部分を指し得て、よってたとえば、重合鎖内のフェネチルジラジカルを示す。
用語“エトキシル”は、1つ以上のエトキシ(−O−CH−CH−)基、たとえば、2から約24、約3から約12、約6から約12、約8から約12、または約10のエトキシ基を含む基を指す。2つ以上のエトキシまたはエトキシルグリコール基を有するエトキシル基は、ポリエチレングリコール、またはPEG基として参照され得る。エトキシルまたはPEG基は、オプションとして置換されたアルキル、たとえばメチル中で終端されていても良いし、または水素ならびにヒドロキシ、たとえば2−ヒドロキシエトキシ基で終端されても良い。
用語“半フッ素化”および“少なくとも部分的なフッ素化”は、フッ素原子によって置換された少なくとも1つの水素原子を有するアルキル基を指す。半フッ素化基は、1つ以上のフッ素原子を含むあらゆる炭素鎖、または1つ以上のヘテロ原子(たとえば酸素)によって中断された炭素鎖を含む。典型的には、半フッ素化基は1つ以上の−CF−基を有するだろうし、オプションとして−CF基によって終端され得る。たとえば、半フッ素化基は、式:
の基であって、各xは独立に約2から約20、または約2から約12であり、および各yは独立に0から約20、典型的には1から約15、または約2から約12である基であり得る。別の実施形態では、xは約2または約4から約10または約12であり得て、yは約2または約4から約10または約12であり得る。
ゾニール(登録商標)界面活性剤は、基の一端に酸素またはヒドロキシルを有するエトキシルフルオロアルキル鎖を指す。これらの界面活性剤は、ヒドロキシル基を介して、またはヒドロキシル基を置換したヘイロ基を介して、適切に機能化されたブロック共重合体に付着され得る。したがって、エトキシルフルオロアルキル側鎖を有するポリマーは、いかなる適切なゾニール(登録商標)界面活性剤を用いて調製され得る。エトキシルフルオロアルキル側鎖含有ブロック共重合体を調製するために用いられ得る、適当なゾニール(登録商標)界面活性剤の一例は、ゾニール(登録商標)FSO−100[CAS#122525−9−99]である。他の適当なゾニール(登録商標)界面活性剤は、ゾニール(登録商標)FSN、ゾニール(登録商標)FNS−100、およびゾニール(登録商標)FSOを含む。ゾニール(登録商標)は、デュポン社(ウィルミングトン、デラウエアー)から入手することができる。
本発明の様々な実施形態で用いられ得るエトキシルフルオロアルキル基は、式Z:
の部分を含み、各qは独立に0から約25であり、各rは独立に0から約18であり、式Zの部分は、エーテル結合を介してポリマー鎖または鎖置換基に付着される。
用語“接触する”は、触れる、接触させる、または分子レベルで、たとえば溶液もしくは他の反応混合物中で、もしくは接触表面中において化学反応もしくは物理的変化をもたらすことを含み、隣接したもしくは間近に近接させる行為を指す。
用語“コーティング”は、接着層を、製造工程にあるものまたは基板ウェブに付与するための製造プロセスまたは調製を指す。コーティングはまた、たとえばボートの船体、ポンツーン、またはコーティングを必要とする他の表面のような、船体の表面または基板のようなその下にある表面または基板を少なくとも部分的に覆う物質の層であっても良い。コーティングはまた、2つ以上の層を含むいかなるコーティングを指す、二重層であっても良い。
用語“芽胞体”は、付着後、選択および発芽の工程によって表面上に着生し得るアオサの四鞭毛、運動性、洋梨形、および無性の遊走子から誘導された若い植物を指す。
用語“SEBS G1652サーモプラスチックエラストマー”は、典型的なサーモプラスチックエラストマーである、約31:69のポリスチレンブロックのゴムブロックに対する比を有する、ポリスチレン−ブロック−ポリ(エチレン−ランダム−ブチレン)−ブロック−ポリスチレンABAトリブロック共重合体を指す。ゴムブロックは、SEBSポリマーに対しては、典型的には1、2付与でポリブタジエンに水素付与をすることによって作られたランダムエチレン/ブチレン共重合体である。SEBS G1652は、クラトンポリマーから入手可能である。
用語“MD6945サーモプラスチックエラストマー”は、約12:82のポリスチレンブロックのゴムブロックに対する比を有する、ポリスチレン−ブロック−ポリ(エチレン−ランダム−ブチレン)−ブロック−ポリスチレンABAトリブロック共重合体を指す。ゴムブロックは、SEBSポリマーに対する典型的な場合より高い1、2付与でポリブタジエンに水素付与をすることによって作られたランダムエチレン/ブチレン共重合体である。MD6945は、クラトンポリマーから入手可能である。
用語“ソフト(柔らかい)基礎層(ベース層)”は、約5MPaより小さいヤング率を有するエラストマー、たとえば1.6のヤング率を有するMD6945から形成された基礎層を指す。
用語“ハード(硬い)基礎層(ベース層)”は、約6MPaより大きいヤング率を有するエラストマー、たとえば13のヤング率を有するG1652から形成された基礎層を指す。
(本発明のポリマー実施形態)
上で要約したように、一実施形態は、少なくとも3つのブロック、ポリ(スチレン)を含む第1のブロック、ポリ(エチレン)およびポリ(ブチレン)のランダム配置を含む第2のブロック、ならびに機能化されたポリ(イソプレン)を含む第3のブロックを含むポリマーを提供する。機能化されたポリ(イソプレン)ブロックの繰り返し単位は、水酸基および1つ以上のエーテル結合側鎖を含む。側鎖は、R、R、R、R、R、Rまたはこれらの組み合わせなどのR基であり得る。様々な実施形態で、R〜Rの定義は次のような定義を含む。
は、−(OCHCHOCHであって、ここで各nは独立に8〜16であり、
は、−O(CH(CFFであって、ここで各xおよびyは独立に2〜12であり、
は、−(OCHCH(CFCFFであって、ここで各qは独立に1から約25であり、各rは独立に1から約18であり、
は、−(OCHOCHOC(CHCHであって、ここで各nが独立に6〜16であり、
は、−(OCHOCH(CHCHであって、ここで各nが独立に8〜16であり、
は、−(OCHOCH(CHSi(CH)(OSi(CHであって、ここで各nが独立に8〜16である。
一実施形態では、Rの各nは約7から約10であり、Rの各nは約10から約15であり、およびRの各nは約10である。別の実施形態では、変異性のRに対して、xは約6であり、yは約8である。実施形態によっては、変異性のRに対して、xとyの比は、たとえば、約4/8、約6/6、約6/8、約8/10、約10/6、約8/6、および約8/4のような、約4/10から約10/4まで変動し得る。
ある特定の実施形態では、R〜Rは次のような定義を含む。
は、−(OCHCHOCHであって、ここで各nは約12であって良く、
は、−O(CH(CFFであって、ここで各xは約2、4、6、8、10およびyは約2、4、6、8、10であって良く、
は、−(OCHCH(CFCFFであって、ここで各qおよびrは独立に3から約15であって良く、
は、−(OCHOCHOC(CHCHであって良く
は、−(OCHOCH10(CH15CHであって良く、および/または
は、−(OCHOCH11(CHSi(CH)(OSi(CHであって良い。
ポリマーは、トリブロックポリマーであって良く、トリブロックポリマーでは、ポリ(スチレン)ブロックは、約4,000から約12,000の分子量を有し、ポリ(エチレン)ランダムポリ(ブチレン)ブロックは約15,000から約50,000、または約20,000から約30,000の分子量を有し、および機能化されたポリ(イソプレン)ブロックは、約5,000から約25,000、約8,000から約12,000、または約18,000から約22,000の分子量のポリ(イソプレン)ブロックから誘導される。
ポリマーのブロックは、様々な所望の分子量、たとえば、前述の範囲の各々の間で、挙げられた外の値を含む、1,000の増分の平均分子量で調製され得る。たとえば、一実施形態では、トリブロックポリマーは、8,000の分子量を有するポリ(スチレン)ブロック、約25,000の分子量を有するポリ(エチレン)ランダムポリ(ブチレン)ブロック、および約10,000または約20,000の分子量のポリ(イソプレン)ブロックから誘導される機能化されたポリ(イソプレン)ブロックを含み得る。
したがって、ポリ(イソプレン)ブロックは、近似的に75単位から約375単位、またはこの領域の約25単位のいかなる増分を含み得る。側鎖R〜Rは、ポリ(イソプレン)ブロックの単位のあるパーセンテージで存在し得る。たとえば、側鎖は約1%から、約90%に至るまで、イソプレン誘導単位のあらゆるパーセンテージで存在し得る。
実施形態によっては、少なくとも約5%の機能化されたポリ(イソプレン)ブロックの繰り返し単位は、特定のR側鎖の1組を有し得て、少なくとも3%の機能化されたポリ(イソプレン)ブロックの繰り返し単位は、特定の側鎖の別の組を有しても良い。たとえば、一実施形態では、ポリマーは、少なくとも約5%のR側鎖を有する機能化されたポリ(イソプレン)ブロックの繰り返し単位、および少なくとも約3%のR側鎖を有する機能化されたポリ(イソプレン)ブロックの繰り返し単位を含み得る。他の実施形態では、他のR基は類似の値、たとえば、5%から約90%の領域の約5%の増分を有し得る。
加えて、ポリマーは様々な領域の特定のR基を含み得る。たとえば、一実施形態では、ポリマーは、約5%から約40%のR側鎖を有する機能化されたポリ(イソプレン)ブロックの繰り返し単位を含み得る。別の実施形態では、約3%から約60%の機能化されたポリ(イソプレン)ブロックの繰り返し単位は、R側鎖を有し得る。他の実施形態では、他のR基は類似の値、たとえば、5%から約90%の領域の約5%の増分を有し得る。様々な基の%付着に対する他の値は、以下の例の中に挙げられている値を含む。
基Rは、所望の性質にしたがって、変化および調整され得る。R前駆体(すなわち、半フッ素化アルコール)は、適切に機能化されたアルキル鎖に1−ヨードフルオロアルカンを結合することによって、調製され得る。たとえば、反対側の端にアルケンおよびアルコール部分を有するアルケノールは、AIBNのようなラジカル開始剤の存在の下に組み合わされ得る。結果として得られる半フッ素化アルカノールの内部ヨード置換物は、ラジカル開始剤および水素化トリブチルスズのような、水素源で処理することによって取り除かれ得る。そのような反応を用いて、R(−O(CH(CFF)であって、xは2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、または12、yは1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、または12であるものを含む、いかなる所望の長さのR基を得ることができる。たとえば、一つの特定の実施形態では、xは6でありyは8であり、別の実施形態では、xは6でありyは6である。これらの基の様々な例が調製されており、これらの基は以下の例で記述する、特定のR基の位置で用いられ得る。
ポリマーは、十分に親水性の表面を提供し着生有機体の細胞外マトリックスの吸収を防止し得る。そのような有機体の例は、海洋藻、藻の胞子または芽胞体、細菌細胞、珪藻、原生動物、およびフジツボキプリス幼生のようなフジツボを含み得る。細胞外マトリックスは、たんぱく質、グリコプロテイン、および有機体を接着のために隠す核酸を含み得る。
本明細書で記載される側鎖の幾つかの両親媒性の性質は、海洋有機体の接着強度を最小化する。開示されたポリマーの幾つかの例は、THF、トルエン、α,α,α−トリフルオロトルエン、塩化メチレン、およびクロロフォルムのような一般の溶剤に容易に溶解可能である。ポリマーは典型的に、当業者によって理解されるように、良好なフィルム形成特性を有している。ポリマーは、水中使用のために水に最小の溶解性を有してもまたは溶解性を有しないまたは膨張性を有しても、および最小の毒性を有してもまたは毒性を有しなくても良い。
幾つかの実施形態は、新規の両親媒性ポリマーおよびそれらを調製する方法を提供する。本明細書中で記載されたポリマーから調製される両親媒性表面は、アオサまたはナビクラのような海洋有機体の低い接着強度をもたらし得る。
(コーティング構成物)
一実施形態は、コーティングの表面層が本明細書で記載された両親媒性ポリマーである防汚コーティングを提供する。コーティングは、両親媒性ポリマーのみ、または他の成分との組み合わせであり得る。そのような成分は、たとえば、塗料、ラッカー、または他のコーティング構成物を形成するために、接着性ポリマー、塗料、水、1つ以上の溶剤、添加剤、安定剤、着色剤、分散剤、またはそれらの組み合わせを含み得る。表面をコーティングする過程(プロセス)は、表面を構成物で、ブラシかけをすること(ブラッシング)、浸すこと、注ぐこと、溶媒(溶剤)コーティングすること、スピンコーティング(回転コーティング)をすること、スプレイ(噴射)コーティングをすること、を含み得る。したがって、幾つかの実施形態は、基板、たとえば船舶の船体を、本明細書中に開示された両親媒性ポリマーを含む構成物でその基板をコーティングすることによって、生物汚損から保護する方法を提供する。
防汚コーティングはまた、本明細書中に記載されているポリマーの表面層、および基礎層、たとえばサーモプラスチックエラストメリックポリマーの基礎層を含み、よって二重層を形成し得る。二重層コーティングは、2つ以上の頃なるポリマーから、表面をこれらのポリマーで連続的に、当業者にはよく知られている様々な技術でコーティングをすることによって形成され得る。たとえば、二重層は、その二重層中のポリマーのポリスチレンブロックのガラス転移温度より上の温度でアニーリング(徐冷)することによって形成され得る。コーティングは、厚さが約30nmから約500μm、厚さが約40nmから約150μm、または厚さが約50nmから約25μmのトップ(頂部)層をもたらし得る。基礎層は、約0.01mmから約5mm、典型的には約0.05mmから約1mmの厚さを有し得る。両親媒性ポリマー表面層のポリスチレンブロック重量平均分子量は、基礎層を形成するポリマーのポリスチレンのブロックまたは複数のブロックの重量平均分子量の、約50%、約25%、約20%、約15%、約10%、または約5%の範囲内であり得る。
一実施形態では、コーティングのモジュラスおよび表面化学は、二重層コーティング法を用いることによって独立に制御し得る。よって、表面活性ブロック共重合体(SABC)の過剰な量を用いることなく、十分に厚いポリマーフィルムを得ることができる。このコーティングのボトム(底部)層は、ポリスチレン−ブロック−ポリ(エチレン−ランダム−ブチレン)−ブロック−ポリスチレン(SEBS、KRATON、G1652、またはMD6945)、ポリスチレン−ブロック−ポリ(エチレン−ランダム−ブチレン)−ブロック−ポリスチレン(SEPS)、またはポリスチレン−ブロック−ポリ(エチレン−ランダム−ブチレン)−ブロック−ポリスチレン(SEBEPS)のような、サーモプラスチックエラストマーであり得る。トップ層は、以下の例中のように、本明細書中に記載されるようなポリマーであり得る。SABC中のポリスチレンブロックは、基礎層の表面の円筒形ポリスチレン領域中に保持することによって、SEBSまたはSEPSおよびSABC層の適合性を増大させ得る。
多重層コーティングは、好適にはサンドブラスト(砂吹き)、エポキシ樹脂で下塗りされ、およびマレイン化接着層でコーティングされた後に、アルミニウム板上に二重層コーティングを形成することによって調製され得る。加えて、エポキシシランで下塗りされたガラススライド上に製造された研究室レベルのテストコーティングが使われても良い。両親媒性SABC、たとえば本明細書中に記載されたようなポリマーの薄い層の付着のあと、ポリスチレン−ブロック−ポリ(エチレン−ランダム−ブチレン)−ブロック−ポリ(スチレン)サーモプラスチックエラストマーを接着層に固定することも可能である。
一実施形態では、防汚コーティングの表面層は、本明細書中に記載されたような両親媒性SABCを含み得るが、その両親媒性SABCでは、機能化されたポリ(イソプレン)ブロックは、R側鎖より高いパーセンテージのR側鎖を有し、コーティングは海洋環境でコーティングからアオサ芽胞体の解離を促進する。別の実施形態では、コーティングはポリマーを含み、そのポリマーでは、機能化されたポリ(イソプレン)ブロックは、約5,000から約25,000、約8,000から約22,000、約8,000から約12,000、または約18,000から約22,000のポリ(イソプレン)ブロックから誘導される。機能化されたポリ(イソプレン)ブロックは、R側鎖より高いパーセンテージのR側鎖を有し、コーティングは、ポリ(ジメチルシロキサン)コーティングのような他のコーティングより広くアオサ胞子の着生を阻止する。他の実施形態は、他のR基の対であって、互いに多かったりまたは少なかったりする割合で付着されるものを含んでも良い。
別の実施形態では、防汚コーティングは、両親媒性SABCであって、その両親媒性SABCでは、機能化されたポリ(イソプレン)ブロックは、R側鎖より高いパーセンテージのR側鎖を有し、コーティングは海洋環境中でコーティングからナビクラ珪藻の脱離を促進する。他の実施形態は、他のR基の対であって、互いに多かったりまたは少なかったりする割合で付着されるものを含んでも良い。
別の実施形態では、防汚コーティングは、両親媒性SABCであって、その両親媒性SABCでは、機能化されたポリ(イソプレン)ブロックは、エーテル結合R側鎖で機能化された少なくとも約3%のイソプレン単位を有し、コーティングはPDMSコーティングと比較してアオサ芽胞体着生の強度を減らし、および/または海洋環境中でコーティングからナビクラ珪藻の脱離を促進するものを含み得る。他の実施形態は、イソプレン誘導副単位にエーテル結合によって付着された、他のR基、またはそれらの組み合わせを含んでも良い。
さらに別の実施形態では、防汚コーティングが、海洋環境中で、ポリ(スチレン−エチレン−ブチレン−スチレン)ポリマー表面またはポリ(ジメチル−シロキサン)表面より少ないフジツボキプリス幼生の着生をもたらす。他の実施形態では、式IまたはIIのポリマーのように、少なくとも5%のm単位はR側鎖を含んでも良く、少なくとも3%のm単位はR側鎖を含んでも良い。他の実施形態では、式IまたはIIのポリマーは、約40〜60%のイソプレン単位に付着されたR基を有する機能化されたポリ(イソプレン)ブロックを有し得る。別の実施形態では、イソプレンのマーは、約45〜55%、または下の例で挙げられるあらゆる他のパーセントに付着されたR基を有し得る。
コーティングは海洋有機体、たとえば、海洋藻、藻の胞子または芽胞体、細菌細胞、珪藻、原生動物、およびフジツボの1つ以上に対する防汚特性を示し得る。本明細書中に開示されているような両親媒性ポリマーを含むコーティングは、アオサ胞子のような胞子の着生を阻止する表面を提供し得る。表面はまた、アオサ芽胞体のような芽胞体の成長を減じ得るし、同時に海洋環境中でコーティングからアオサ芽胞体の解離を促進し得る。ポリマーおよびコーティングはまた、ナビクラ着生など珪藻の着生を抑制し得るし、同時にそのような有機体の解離および除去を促進し得る。改善された除去は、たとえば、ガラス、PDMS、または他の実施形態では海洋環境中では一般に見られる表面(たとえば、木材、一般のプラスチックなど)などの他の表面と比較し得る。実施形態によっては、コーティングは、ソフト基礎層(たとえば、約5MPaより小さいヤング率を有するサーモプラスチックエラストマー、たとえばMD6945)を含む二重層コーティングを含み得るし、
または実施形態によっては、ハード基礎層(たとえば、約10MPaより大きいヤング率を有するサーモプラスチックエラストマー、たとえばG1652)を含む二重層コーティングを含み得る。ある実施形態では、ソフト基礎層が好適である。
ポリマーコーティングを調製する一般のおよび特定の方法は、米国特許出願公報番号US 2006/0083854(Oberら)およびUS 2007/0053867(Oberら)の中に記載されており、これらは参照によって本明細書中に組み込まれる。コーティングは単一層コーティング、二重層コーティング、または多重層コーティングを形成し得る。二重層コーティングを形成するある工程は、米国特許第6,750,292号(Oberら)中に記載されており、これは参照により本明細書中に組み込まれる。これらの技術はまた、本明細書中に記載される両親媒性の表面層を含む二重層を調製するために用いられ得る。
(本発明の化合物およびポリマーを作る一般的方法)
本明細書中に記載されている化合物、中間物、および表面活性ポリマーを調製する過程(プロセス)は、本発明のさらなる実施形態として与えられる。そのような化合物およびポリマーは、適用可能な有機合成法のいずれかにより調製され得る。数多くのそのような技術が、その分野でよく知られている。しかしながら、多くの有用な合成技術は、March’s Advanced Organic Chemistry、第5版(John Wiley&Suns、ニューヨーク、2001)、およびComprehensive Organic Synthesis、第2版(Richard C. Larock、Wiley−VCH、ニューヨーク、1999)の中に詳述されている。
ブロック共重合体を作る一般的方法は、R.P. QuirkおよびJ.Kimによって、“Recent Advances in Thermoplastic Elastomer Sythesis”、Rubber Chemistry and Technology、第64巻、第3号(1991)中でレビューされており、これは参照によって本明細書中に組み込まれる。モノマーの連続的アニオン重合の方法が有用であり得る。リビング重合を引き起すタイプのモノマーは比較的、アニオンの方法、最も好ましいのは共役させられたジオレフィンおよびスチレンを用いる方法に限定されるので、アニオンブロック共重合体の部分的水素化は、本明細書中に開示されたポリマーの前駆体として機能し得る部分的水素化ポリマーを得るために有用であり得る。オレフィン不飽和を含む、または芳香性およびオレフィン不飽和の両方を含むポリマーは、アニオン開始剤または重合触媒を用いて調製されても良い。そのようなポリマーは、バルク、溶液、またはエマルジョン技術を用いて調製されても良い。本明細書中に記載されているポリマーを調製するときに有用な他の技術は、米国特許第5,262,496号(Beningら)の中に記載され、これは参照により本明細書中に組み込まれる。
一般に、温度、反応時間、溶媒、後処理方法などの反応条件は、実行される特定のタイプの反応に対する分野では常識的な条件である。典型的には、温度は約−100℃から約200℃であろうし、溶媒は要求される条件に依存して非プロトン性またはプロトン性であろうし、および反応時間は約1分から約10日であろう。標準的有機変換反応の後処理は典型的には、水/有機層二相系を分割すること(摘出)と生成物を含む相の分離のあとに、未反応のどんな試薬をも冷却する(クエンチする)ことからなる。ポリマーとの反応の後処理は典型的には、その中でポリマーが低い溶解性を有する、または実質的に溶解しない、たとえば、メタノールまたは水とメタノールの組み合わせのような溶媒、または溶媒系を用いるポリマーの沈殿のあとに、大量の溶媒を取り除くことによって反応混合物を凝集することからなる。
本明細書中で記載されているトリブロックポリマー前駆体は、そのようなポリマーの調製に有用であろうその分野で知られている溶媒のいずれかを用いて調製され得る。適切な溶媒は、たとえば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等、それにそれらのアルキル置換誘導体などの直鎖または分岐鎖炭化水素;シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロペンタン等、それにそれらのアルキル置換誘導体;ベンゼン、ナフタレン、トルエン、キシレン等の芳香族およびアルキル置換芳香族炭化水素;テトラリン、デカリン等などの水素化芳香族炭化水素;およびメチルエーテル、メチルエチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等などの線状および環状エーテル、を含む。
トリブロックポリマーは、オプションとして、機能化(たとえば、側鎖の追加のあとのエポキシ化による機能化)の前また後に部分的に水素化され得る。制御可能で予測可能な残留オレフィン不飽和の量を有するポリマーの調製の方法は、米国特許第4,879,349(Hoxmeier)に記載されており、これは参照により本明細書中に組み込まれる。そのような工程は、置換型および非置換型共役ジオレフィンを共重合すること、ならびに共重合体を、第3の置換のないオレフィン不飽和(すなわち、ビニルまたは1,2−二置換を含む)の実質的な水素化に有効であり、しかしオレフィン不飽和を実質的に非水素化されたままにする条件下で水素化すること、を含む。実施形態によっては、部分水素化は、残留不飽和の量を制御するために許容され得て、エポキシ化後の側鎖の混合のより制御された量をもたらす。ある実施形態では、ポリ(イソプレン)ブロックは、約20%、約30%、約40%、約50%、約60%、または約70%の残留不飽和を提供するために水素化され得る。
ポリマーの末端(端の)基は、開始および徐冷工程によってと同様に、重合の方法によって決定される。当業者は、様々な末端基が様々な開始剤および徐冷剤によって提供され得ることを容易に理解するだろう。典型的な末端基は、メチル、sec−ブチル、ブロモ、ならびに様々なN−アルコキシアミンおよびジチオエステル基を含む。他の末端基は、水素、ヒドロキシ、および様々なシリル誘導体、たとえばジメチル(2−ペルフルオロオクチル)エチルシリル基を含んでも良い。
本明細書中で開示されているポリマーのトリブロックポリマー前駆体は、たとえば側鎖前駆体のヒドロキシル基による、オプションとしてルイス酸によって触媒作用を及ぼされたオキシレン開環のあとのエポキシ化により合成的に修飾されて、バックボーンポリマーのマー上の側鎖置換をもたらし得る。マーは、たとえば半フッ素化(SF)、ポリ(エチレン グリコール)(PEG)、エトキシ化フルオロアルキル(AMP)側基、もしくは本明細書中に記載されているいかなる他の側鎖基、またはそれらの組み合わせなどの側基で置換され得る。
エポキシ化の前または後で、ポリマーは部分的に水素化され得る。エポキシ化は少なくとも0.1Meq/gのエポキシド部分のポリマーがポリマー中にあるようにし得る。0.1Meq/gより少ないと、側鎖付着点の適切な数を与えるには不十分な機能を与えるかも知れない。実施形態によっては、エポキシド部分の範囲は、約0.1から約15Meq/g、約0.1から約9Meq/g、約0.25から約5Meq/g、または約0.25から約3Meq/gであり得る。
エポキシ化された共重合体は、下の例の中で記載されるように、ならびに/または、参照によって本明細書中に組み込まれる、Encyclopedia of Chemical Technology 19、第3版、251−266(1980);D.N.Schluz、S.R.Turner、and M.A.Glob、Rubber Chemistry and Technology、5、809(1982);W−K.Huang、G−H.Hsuie、and W−H.Hou、Journal of Polymer Science、Part A:Polymer Chemistry 26、1867(1988);K.A.Jorgensen、Chemical Reviews、89、431(1989)、およびHermann、Fischer and Marz、Angew.Chem.Int.Ed.Engl.30(No.12)、1638(1991)、および米国特許第5,262,496号(Beningら)中に一般的に記載されているように、エポキシ化工程によって調製され得る。
本明細書中に記載されるいかなるポリマーの一つの全般的または特定の実施形態に対して記載された数値および限定は、オプションとして、他の実施形態、たとえば、例の中で与えられる実施形態の式および修飾に適用され得る。
以下の例は、上で記載した本発明を例示することが意図されており、その範囲を狭めるように解釈されるべきではない。当業者は、例は本発明が実施され得る他の方法を示唆することを容易に認識するであろう。変更および修飾が、本発明の範囲内に保ちつつなされ得ることは理解されよう。
(例)
(一般的物質)
ポリスチレン8K−ブロック−ポリ(エチレン−ランダム−ブチレン)25K−ブロック−ポリイソプレン10K(PS8K−b−P(E/B)25K−b−PI10K)およびポリスチレン8K−ブロック−ポリ(エチレン−ランダム−ブチレン)25K−ブロック−ポリイソプレン20K(PS8K−b−P(E/B)25K−b−PI20K)トリブロック前駆体共重合体は、アニオン重合およびそれに引き続く触媒水素化を用いて製造された。ポリマーはKraton Polymers(ヒューストン、テキサス州)から、広いスケール(〜0.5kg)で得られた。
1−ヨードペルフルオロデカン(I(CF10F、FW 648.98、98%)はSynquest Labsから購入し、標準として用いた。9−デセン−1−オル(HC=CH(CHOH、FW 156.27、97%)、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(N≡CC(CHN=NC(CHC≡N、FW 291.06、97%)は、Sigma Aldrichから購入し、10−ペルフルオロデシル−1−デカノール(F10H10OH、F(CF10(CH10OH、FW 676.35)と共に受けとったまま用いた。
3−メタ−クロロペルオキシ安息香酸(mCPBA、77%)、ボロン トリフルオライド ジエチル エーテル(BF・EtO、99.9%)、およびポリ(エチレン グリコール)メチルエーテル(PEG550、CH(OCHOCHOH、平均Mn=550、x〜12)は、Sigma Aldrichから購入し、PS−b−P(E/B)−b−PIトリブロック前駆体ポリマーの修飾で受けとったまま用いられた。無水クロロフォルム(CHCl)、無水トルエン、および無水α,α,α−トリフルオロトルエン(TFT)はSigma Aldrichから購入し、さらなる純化をせずに用いられた。クロロフォルム、ジクロロメタン、メタノール、トルエン、6.25N水酸化ナトリウム、96%硫酸、水中の30重量%過酸化水素、95%エタノールまたは他の試薬は、受けとったまま用いられた。
3−(グリシドキシプロピル)−トリメタオキシシラン(GPS、99%)は、Gelestから購入し、受けとったまま用いられた。2つの別々のポリスチレン−ブロック−ポリ(エチレン−ランダム−ブチレン−ブロック−ポリスチレン(SEBS)トリブロックサーモプラスチックエラストマー(Kraton G1652MおよびKraton MD6945)ならびに無水マレイン酸でグラフト化されたSEBS(MA−SEBS、Kraton FG1901X)は、Kraton Polymersから提供された。
H NMRスペクトルは、重水素化クロロフォルムと共にVarian Geminiスペクトロメーターを用いて記録された。塩化ナトリウム板上のTHF溶液からのフィルムとしてのポリマーキャストの赤外スペクトルは、Matton2020Galaxy Series FTIRスペクトロメーターを用いて収集された。ポリマーのTHF溶液(1mg/mL)のゲル浸透クロマトグラフィーは、Waters490紫外(λ=254nm)およびWaters410反射係数検出器と共に、40℃で運転する4Waters Styragel HTカラムを用いて実行された。カラムの分子量の範囲は、500から10g/molであった。THFは1mL/分の流率で溶離剤として用いられ、トルエンは流量校正のためのマーカーとして用いられた。
(例1.トリブロック表面活性ブロック共重合体)
混合された疎水性および親水性側鎖を有するトリブロック表面活性ブロック共重合体:疎水性および親水性部分の調製を介した両親媒性海洋汚染防止ポリマー。
以下の例は、多義の両親媒性ポリマー防汚コーティングの開発を記述するが、そのコーティングは、孤立したポリ(エチレン グリコール)および半フッ素化側鎖を、2つの特別に設計されたポリスチレン−ブロック−ポリ(エチレン−ランダム−ブチレン−ブロック−ポイソプレン(“PS−b−P(E/B)−b−PI”)ABCトリブロック共重合前駆体と共に、ランダムに組み合わせることで、低い表面エネルギーを細胞接着抵抗性に組み合わせている。結果として得られる表面活性ブロック共重合体(SABC)の化学的特徴は、吸収端近傍X線吸収微細構造(NEXAFS)解析、X線光電子分光(XPS)および動的水接触角解析を用いて記述され、表面特性に相関される。加えて、多義の両親媒性SABCの2組の生物学的汚損分析が記述され、緑大型藻類アオサおよび珪藻ナビクラの両方によって汚損を阻止するおよび放出する、これらの物質の能力を図示する。着生および放出の振る舞いの特定の傾向が明らかにされた。
(10−ペルフルオロデシル−1−デカノール(F10H10OH)の合成)
半フッ素化アルコール、10−ペルフルオロデシル−1−デカノール(F10H10OH)は、Hopkenら(J.Hopken、M.Moller、and S.Boileau、New Polymer Materials、1991、2、339)の中で報告されたものと類似の方法で製造された。他の長さのアルキルおよびフルオロアルキル基に対して用いられ得る工程は、下の方法1−1の中で示されている。9−デセン−1−オル(14.07g、0.09mol)およびペルフルオロデシルヨージド(38.76g、0.06mol)は、コンデンサおよびセプタムが適合されている丸底フラスコに入れられた。反応物は、アルゴンで洗浄され、混合物は攪拌しながら90℃まで加熱された。AIBN(300mg)は、45分の期間にわたって徐々に添加された。5時間後、反応温度を80℃まで下げ、30mLの無水トルエンを加え、引き続いて追加のAIBN(1.5g)および水素化トリブチルスズ(52.38g、0.18mol)を添加した。反応混合物は80℃に加熱しつつ、24時間にわたり攪拌され、次に60mLの追加の無水トルエンが反応混合物に加えられ、次に反応混合物が室温まで冷却することが許容された。白い固体として溶液から析出された粗製のF10H10OH生成物は、ろ過によって収集され、引き続いて、残留開始生成物およびトリブチルスズ不純物を取り除くために3回、熱いトルエンから再結晶化された。純化されたF10H10OHは、室温の減圧下で48時間にわたり乾燥された。
F10H10OH(300MHz、CDCl、δ)に対するH NMRは:3.63(q、2H、HOCHCH−)、2.07(m、2H、−CHCHCF−)、1.58(m、2H、−CHCHCHCH−);1.30(br s、12H、−CF−CH−CH−(CH−および1H、−HOCH−)である。赤外(ドライフィルム)νmax(cm−1)は:3250(O−H伸長);2925、2850(C−H伸長);1470、1452(C−H屈曲);1330〜1095(C−F伸長);1055(C−O伸長)である。
方法1−1.半フッ素化10−ペルフルオロデシル−1−デカノール(F10H10OH)の合成
(ポリマー合成および評価)
表面活性ブロック共重合体は、下の方法1−2の中で示されているようKraton PS−b−P(E/B)−b−PI前駆体ポリマーの単純な(ストレートフォワードな)2段階修飾を通じて生成された。PIブロックの機能化は、アルコールを運ぶPEG550またはF10H10機能性を用いて、残留アルケン基のエポキシ化と引き続きの触媒開環エーテル化反応を通じて達成された。副反応は、様々な量のR(Rおよび/またはR)が、H、OH、または機能化されたポリ(イソプレン)ブロックの別の部分、もしくは別のポリマー鎖へのエーテル結合であるポリマーを提供し得る。
方法1−2.PEG550および/またはF10H10側鎖を含むエーテル結合表面活性トリブロック共重合体の合成
ここで、各Rは独立にRまたはRである。Rは、−(OCHCH12OCH(“PEG550”)であり、Rは、−O(CH10(CF10F(“F10H10”)である。副反応はまた、使用された実験条件に依存して、HまたはOHのR置換をもたらし得る。
典型的なエポキシ化反応では、PS8K−b−P(E/B)25K−b−PI10KSAMC前駆体ポリマー(5g、14.5molの反応性イソプレン位置)は、丸底フラスコ中の100mLのジクロロメタンに溶解される。3−クロロペルオキシ安息香酸(mCPBA、3.9g、17.4mmol)が混合物に加えられ、溶液は5時間にわたり、室温で強く攪拌された。ポリマーは次に、メタノール中に沈殿され、ろ過によって収集され、残留mCPBAおよびその各々の副産物を取り除くためにジクロロメタンから再沈殿された。白く、弾性のある生成物は、室温において減圧下で48時間にわたり乾燥され、残りの溶媒を取り除いた。類似の反応および後処理が、前駆体ポリマー5g毎に25mmolの反応イソプレン位置にスケールされた、PS8K−b−P(E/B)25K−b−PI20KSABC前駆体ポリマーを首尾よくエポキシ化するために用いられた。
PS8K−b−P(E/B)25K−b−PI10K(300MHz、CDCl、δ)に対するH NMRは:6.57、7.07(5H、スチレン)、2.66(br s、1H、エポキシ化イソプレン、−CHHCOC(CH)CH−)、0.80、1.07、1.22、1.45、1.57(バックボーン)である。赤外(ドライフィルム)νmax(cm−1)は:2925、2850(C−H伸長);1470(C−H屈曲);1070(C−O伸長);880(C−O−C伸長);700(C−H屈曲、芳香性)である。
エーテル結合側鎖表面活性ブロック共重合体を製造するために、2.1gのエポキシ化されたPS8K−b−P(E/B)25K−b−PI10K(エポキシド5.8mmol)を、4倍モル過剰(23.3mmol)の側鎖前駆体アルコール(F10H10OHおよび/またはPEG550)と一緒に、丸底フラスコ中に取った。PEG550に対して異なる7つのF10H10OHの混合物が、様々な異なるSABC:100%F10H10OH、80%F10H10OH/20%PEG550、60%F10H10OH/40%PEG550、50%F10H10OH/50%PEG550、40%F10H10OH/60%PEG550、20%F10H10OH/80%PEG550、および100%PEG550、を製造するために送り込む形態で用いられる。
反応物はアルゴンで洗浄され、引き続き、約150mLの無水クロロフォルム中に溶解された。無水TFTは、(透明な溶液の形成によって示される)F10H10OHを溶媒和するために、必要に応じて加えられた。活性化されたモレキュラーシーブが反応混合物に加えられ、約12時間にわたって放置した。エーテル化は、ボロン トリフルオライド ジエチル エーテル触媒(0.345g、2.4mmol)の添加によって実行され、引き続き、室温で48時間にわたり強く攪拌した。反応に引き続いて、6.25N水酸化ナトリウムが、残留ボロン触媒をクエンチするために添加され、得られた混合物は回転蒸発器を用いて減圧下で濃縮された。得られた表面活性トリブロック共重合体(SABC)は、ペグ化された試料を分離するのを助けるために必要に応じて添加された水を含むメタノール中に沈殿した。SABCは、ろ過によって収集され、次に追加の残留表面活性側鎖アルコール前駆体を取り除くために、クロロフォルムから2度沈殿させた。最後に、最終的な試料は、残留溶媒を完全に取り除くために、減圧下の室温で48時間にわたり乾燥させた。
PEG550側鎖で機能化されたPS8K−b−P(E/B)25K−b−PI10K(300MHz、CDCl、δ)に対するH NMRは:6.56、7.08(5H、スチレン)、3.65(br s、4H、−OCHCHO−);3.38(s、3H,−OCH);2.24(s、1H、−OH);0.83、1.06、1.24、1.80(バックボーン)であった。赤外(ドライフィルム)νmax(cm−1)は:3350(O−H伸長);2935、2865(C−H伸長);1455、1375(C−H屈曲);1120(C−O伸長); 700(C−H屈曲、芳香性)であった。元素分析は:C(76.1%)、H(11.7%)であった。
F10H10側鎖で機能化されたPS8K−b−P(E/B)25K−b−PI10K(300MHz、CDCl、δ)に対するH NMRは:6.567、7.07(5H、スチレン)、3.50(br m、2H、−OCHCH−);2.40(br s、2H、−CHCHCF−);0.82、1.04、1.24、1.57、2.03(バックボーン、−OCH(CHCHCF)であった。赤外(ドライフィルム)νmax(cm−1)は:3480(O−H伸長);2930、2860(C−H伸長);1460、1380(C−H屈曲);1220(C−F伸長);1090(C−O伸長); 700(C−H屈曲、芳香性)であった。元素分析は:C(67.5%)、H(9.4%)、F(18.3%)であった。両方のタイプの側鎖を混合している表面活性ブロック共重合体は、各部分の混合量に関連した、混合ピークを有することが見出された。
(表面調製および評価)
NEXAFS測定、XPS、および動的水接触角解析のための表面は、TFT中のSABCの3%(w/v)溶液を2000rpmで60秒にわたってスピンコーティングをすることによって、シリコンウェハ上に調製された。研究のために調製された全ての表面は、減圧下で120℃において、少なくとも12時間にわたって真空オーブン中でアニールされ、引き続いて室温でゆっくり冷却された。
XPS測定は、Kratos Axis Ultraスペクトロメーター(Kratos Analytical、マンチェスター、英国)を、1.0×10−8Torrの真空下、225Wで動作する単色光Al KαX線源(1486.6eV)と共に用いて実行された。電荷補償は、低エネルギー電子を電子スペクトルメーターの磁気レンズに入射させることによって行われた。アナライザーの通過エネルギーは、高分解能スペクトルに対しては40eVに、検索スキャン(サーベイスキャン)に対しては80eVに、それぞれ0.05および1eVのエネルギー分解能で設定された。スペクトルは、CasaXPS v.2.3.12Dev4ソフトウェアを用いて解析された。285eVのC−Cピークは、結合エネルギー校正のための参照値として用いられた。
NEXAFS実験は、ブルックヘブン国立研究所(BNL)の全米シンクロトロン光源(National Synchrotron Light Source)のU7A NIST/Dow物質評価エンドステーション上で実施された。NEXAFSの一般的な基本原則およびBNLにおけるビームラインの記述は、以前に報告されている(Paikら、S.Langmuir、2007、23、5110およびGenzerら、Langmuir、2000、16、1933)。X線ビームは、蓄積リングの平面内で支配的な電場ベクトルと共に、楕円偏向(偏向因子=0.85)された。フォトン束は、典型的な500mAの蓄積リング電流において毎秒約1×1011フォトンであった。球面回折格子モノクロメーターを用いて、0.2eVのエネルギー分解能で単色光軟X線を得た。C1sNEXAFSスペクトルは、270〜320eVの範囲の入射フォトンエネルギーに対して取得された。試料表面から測った、X線ビームの入射の角度は50°であった。部分電子収量(PEY)信号は、調整可能なエントランスグリッドバイアス(EGB)を有するチャンネルトロン電子増倍管を用いて収集された。データは、−150Vのグリッドバイアスに対して報告された。チャンネルトロンPEY検知器は、試料チャンバの赤道面上、入ってくるX線ビームに対して36°の角度で配置された。PEY C1sスペクトルは、線形プレエッジベースラインを減じ、320eVでエッジジャンプを1に設定することによって規格化した。フォトンエネルギーは、ポリスチレンからの最低πフェニル共鳴のピーク位置を285.5eVも調整することによって校正した。
水接触角は、接触角ゴニオメーター(AST Products、Inc.model VCA Optima XE)を室温で用いて測定された。動的水接触角測定は、表面上に水(約2μL)の少量の液滴の滴下と収縮を介して実施された。前進接触角および後退接触角の振る舞いはデジタル形式で記録され、角度を測定するために画像解析ソフトウェアが用いられた。
(生物汚損分析のための表面の調製)
緑藻アオサおよびナビクラ珪藻での生物汚損分析のためのガラススライドは、サーモプラスチックエラストマー基礎層としてKraton G1652 SEBSを用いるSABCに対して以前に報告されているように(Krishnanら、Langmuir、2006、22、11255)調製された。PS8K−b−P(E/B)25K−b−PI10K前駆体に基づく、生物学的汚損分析のためのSABCでコーティングされたガラススライドは、G1652Mの位置に新しく発売されたKraton MD6945 SEBSを用いて、二重層コーティングのためのものと類似の方法で調製された。MD6945の弾性モジュラスは大変低い。化学的組成は似ているにも関わらず、G1652に対して13MPaである。PDMSのような低モジュラスポリマーは、適切な汚損防止特性を有することが示されている。同時に、G1652Mの弾性モジュラスは、なおも大凡、PDMSの弾性モジュラスより大きい大きさのオーダーである。
全て生物汚損分析に対して、Schumacherら(Biofouling、2007、23、55)により記述されたように調製されたポリジメチルシロキサンエラストマー(PDMSe)、Silastic(登録商標)T2(Dow Corning)、およびG1652MまたはMD6945 SEBSのいずれかでコーティングされたガラスマイクロスコープスライドが、標準(スタンダード)として用いられた。PDMSは、アオサ芽胞体のようなマクロ汚損有機体に対する防止特性により制御剤として用いられたが、その一方、G1652MまたはMD6945基礎層は、単体で使用された基礎層と、多重層コーティングを有する基礎層の間の特性の違いを強調するために用いられた。
(アオサ遊走子の着生と付着強度およびアオサ芽胞体(若い植物)の付着強度)
12個の複製試験サンプル(9つはPS8K−b−P(E/B)25K−b−PI10K前駆体に基づくSABCに対するもの)は、約20℃で最低24時間にわたり再循環する脱イオン水の30Lタンク中に抽出された。スライドは、実験の開始の1時間前に人工海水中で平衡させた。遊走子はウスバアオノリの植物体から放出され、以前に記載された(Callowら、Journal of Phycology、1977、33、938)ように分析のために調製された。懸濁液(10mL、mLあたり1×10個の胞子)は、Quadripermポリスチレン培養ディッシュ(Greiner Bio−One)の、各々が試験スライドを含む12個のコンパートメントにピペットで移された。試験スライドは、暗室中で約20℃で1時間にわたり保温され、着生しなかった遊走子を解離するために、海水で穏やかに洗浄した。3枚のスライドを、2.5%グルタルアルデヒドを用いて海水中に固定した。これらの複製は、以前に報告(Callowら、Biofouling、2002、18、237)されているように、表面に付着された遊走子の濃度を定量化するために用いられた。
上の方法で遊走子を1時間にわたり着生したPS8K−b−P(E/B)25K−b−PI10K前駆体に基づくSABCでコーティングされた3枚のスライドは、特別にあつらわれた水路中で海水の乱流によって生成された53Paの剪断流に晒された。これに引き続き、スライドは上述のようにグルタルアルデヒド中に固定された。付着されたままの胞子の数は、(着生を確定するために用いられるのと同様に)晒されてない制御スライドと比較された。
アオサ芽胞体(若い植物)は、各コーティングの6つの複製上で培養された(Chaudhuryら、Biofouling、2005、21、41)。洗浄後、栄養強化海水を含むディッシュに7日にわたって移された。成長は、テカンプレートリーダー(GENios Plus)を用いた、芽胞体の葉緑体中に含まれるクロロフィルからの蛍光の直接観測(Casseら、Biofouling、2007、23、267)によって見積もられた。蛍光は、直接の読みから相対蛍光ユニット(RFU)として記録された。スライド(6つの複製)は、上から、スライド毎に、30×10のブロックで300回の読みを行った。
芽胞体の付着の強度は、ウォータージェットを用いたジェット洗浄によって画定された(Finlayら、Biofouling、2002、18、251)。用いられる衝突圧力の範囲は、芽胞体の付着の強度について最大限の情報を与えるように選択された。RFUの読み(スライドあたり80回)が、ウォータージェットに晒されたスライドの中央部分から行われた。解離パーセンテージは、ウォータージェットに晒される前および後に、平均FPUの読みから計算された。解離パーセンテージデータから、芽胞体の50%を解離するために必要な臨界水圧が導かれた。
(ナビクラ珪藻の着生および付着の強度)
ナビクラ細胞は、250mLコニカルフラスコ中に含まれるF/2倍地(メディア)中で培養された。3日後、細胞は対数増殖期にあった。細胞は、容量が約0.25μgmL−1のクロロフィルを有する懸濁液を与えるために採取および希釈する前に、新鮮培地中で3回洗浄された。細胞は、実験室のベンチ上、約20℃で10mLの懸濁液を含む個々のディッシュ中に着生された。2時間後、スライドは、適切に付着されていない細胞を取り除く(もぐり洗浄)ために海水中で、穏やかに洗浄した。視ライドは、2.5%グルタルアルデヒドを用いて海水中に固定した。表面に付着した細胞の濃度は、蛍光マイクロスコープに取り付けられた画像システムを用いて各スライド上でカウントされた。カウントは、各スライド上、30の視野角(各0.064mm)に対してなされた。ナビクラが着生したスライドは、水チャンネル中で23Paの剪断応力(32USgalmin−1)に晒された。付着したままの細胞の数は、上述の画像解析システムを用いてカウントされた。
(結果と議論)
(ポリマー合成と評価)
混合し孤立した疎水性半フッ素化側鎖および親水性ペグ化側鎖を含む両親媒性SABCのこれら2つのシリーズの合成は、赤外スペクトロスコピーおよびH NMRの両方を用いて引き続きすぐに行われた。エポキシ化反応に引き続き、H NMRは、もはやいかなるアルケンプロトンの証拠はないこと、およびPIバックボーン上に新たに形成されたオキシラン環に隣接したプロトンの存在を示す、現れた約2.7ppmでの顕著なピークを明確に示した。加えて、赤外スペクトロスコピーは、エポキシド環に関連するおよそ880cm−1のC−O−C伸長ピークの出現を明確に示した。このことは、実質的に全ての残留不飽和アルケン基が、そのエポキシ化された形態に首尾よく転換されたことを示した。
F10H10OHおよび/またはPEG550アルコールを用いた、次の触媒反応開環は、H NMRスペクトル中のエポキシドピークの消滅に繋がる。H NMRスペクトルのさらなる解析は、F10H10OH機能化試料に対する約3.5ppmでのピークの出現と関連して、PEG550機能化試料に対する約3.3および3.6ppmでのピークの出現が、側鎖基の成功裏の付着を表している。これらの発見はPEG550で機能化された試料に対する1120cm−1における強いC−O伸長ピークおよびF10H10OHで機能化された試料に対する1200cm−1における強いC−F伸長ピーク
の出現はを示す赤外スペクトロスコピーによって支持された。両方の部分で機能化された混合試料に対しては、ピーク強度は一般に側鎖の混合量と共に変化した。
表1−1は、ともにPS−b−P(E/B)−b−PI前駆体への各異なる供給モル比に対するPEG550およびF10H10OHの付着のパーセンテージを示している。首尾よく付着されたPEG550およびF10H10OHのパーセンテージは、それぞれH NMR積分、およびフッ素の元素解析から計算された。特に、PEG550の付着のパーセントは、H NMRスペクトル中の(PSブロックに付随する)芳香族陽子の全数をPEG側鎖に付随する陽子の数と比較することによって得られた。同時に、元素解析によって得られたフッ素の重量パーセントは、この値を、100%付着を仮定して得られるだろう値と比較することによって、F10H10OH付着の逆解析を可能とした。PEG550およびF10H10OHの両方の付着は、一般的に供給のモル比に依存した。エポキシ化イソプレンに関する全付着は、一般的にPS8K−b−P(E/B)25K−b−PI20K前駆体に対しては約22から30%、PS8K−b−P(E/B)25K−b−PI10K前駆体に対しては約33から54%であった。
GPCを用いて、試料の多分散性は、両方のPS−b−P(E/B)−b−PI前駆体に対する1.06から、それらのエポキシ化された形態に対する約1.12への増加が見出された。F10H10および/またはPEG550側鎖を含む最終的な、置換されたSABC試料は、一般的に1.2と1.3の間の多分散性を有した。100%付着より小さいにもかかわらず、エポキシドの反応の完了の観測に伴う多分散性のこの増加は、幾つかのエポキシドは、多分、分子間架橋反応の影響を受けなかったことを示唆した。反応混合物中の残留水分子によるエポキシド開環と共同する分子内反応は、最も低い観測された付着に寄与した可能性がある。
(動的水接触角)
PS8K−b−P(E/B)25K−b−PI20K前駆体ポリマーから誘導された試料に対して、前進および後退接触角は、SABC中に混合された疎水性F10H10および親水性PEG550側鎖の量に大きく依存するようであった(表2)。コーティング中にPEG550の量を、F10H10の量の減少と共に増加させると、水接触角は128°から103°(前進)および67°から28°(後退)に減少し、表面活性基の存在は濡れ性に大きく影響することを示唆した。PS8K−b−P(E/B)25K−b−PI10K前駆体ポリマーから誘導された試料はそれほど明確に傾向を示さなかったが、しかしながら、PS8K−b−P(E/B)25K−b−PI10K−0F−33Pを除く全てのコーティングは、約125°のオーダーの前進水接触角を示した。角度の読みは、しかしながら、PS8K−b−P(E/B)25K−b−PI10K−0F−33Pに対する21°から、PS8K−b−P(E/B)25K−b−PI10K−50F−0Pに対する42°まで変化する若干の傾向を示した。高い水接触角ヒステリシスがSABCの両方の組に対して示され、このことは十分な再組織化の動的表面能力が全ての場合において実現していたことを示唆している。接触角ヒステリシスは、しかしながら、一般にPS8K−b−P(E/B)25K−b−PI10K前駆体から誘導されたポリマーに対してより明確であった。SABCの各組の間の濡れ性の挙動でのこれらの観測された差異は、PS8K−b−P(E/B)25K−b−PI10K誘導試料に対して実現された高い付着性および十分に高めの側鎖グラフト化密度の組み合わせによるものであろう。
(X線光電子分光(XPS))
図1は、PEG550およびF10H10の異なる付着パーセントを有するPS8K−b−P(E/B)25K−b−PI20K前駆体から誘導された両親媒性SABCの高分解C1sXPSスペクトルを示している。スペクトルは、炭素ピークの下の全面積が1に等しいように規格化されている。全てのポリマーは、ブロック共重合体バックボーンを表す、285eV近くのC=CおよびC−Cからの強い強度ピークを示した。少なくともほとんどのフッ素化試料に対して、それぞれ292および294eV付近の−CF−およびーCFに付随するピークの明らかな形跡が見られた。−CF−および−CFの強度は、混合物中のPEG550の付着が増加し、F10H10の付着が減少するにつれ減少した。PS8K−b−P(E/B)25K−b−PI20K−3F−28Pに対するスペクトルは、−CF−およびーCFに対する証拠がないようであった。しかしながら、赤外スペクトロスコピーおよび元素分析の両方に基づくと、ポリマーは少量のフッ素化部分を含んでいた。つまり、この試料に対しては、フッ素化基は比較的大量のPEG550により覆い隠された可能性があり、検出は困難であった。加えて、C−Oに付随する約287eVにおける明らかな肩(ショルダー)は、PEG550側鎖の混合を増やすにつれ徐々に明らかとなり、表面付近にこの部分が存在することを示した。
(吸収端近傍X線吸収微細構造(NEXAFS)分析)
表面と軟X線ビームの間に50°の角度をなして付着された、異なる量のPEG550およびF10H10側鎖を有するPS8K−b−P(E/B)25K−b−PI20K前駆体から誘導された両親媒性SABCがスピンコーティングされた表面の規格化されたC1sNEXAFSスペクトルが記録された。ポリスチレンブロックから誘導されたC1s→π C=C信号の特徴が、4つ全てのスペクトルに対して285.5eV近くで観測されたが、SABC表面がPEG550およびF10H10側鎖によって支配的であったため、このピークの強度は低かった。他のピークの割り当ては、Krishnanら(Langumuir、2006、22、5075)中で議論されているように、ポリ(エチレンオキシド)およびポリ(メチルメタクリレート)の校正されたNEXAFSスペクトルに基づいた。
288eV付近の鋭い共鳴ピークは、C1s→σ C−H信号によるものであった。このピークは特に、恐らくフッ素化部分の欠如ゆえに、PS8K−b−P(E/B)25K−b−PI20K−3F−28P試料に対して重要であり、PEGおよび低い表面エネルギーP(E/B)ブロックの何らかの組み合わせによって支配されている表面を示した。C1s→σ C−FおよびC1s→σ C−O共鳴の両方を示す、293eVおよび295.8eV付近の特徴のある信号は、他の3つの試料では明瞭に観測され、PEG含有側鎖からの寄与があり得る表面上に半フッ素化基が存在することを示した。しかしながら、C1s→σ C−F信号の証拠は、恐らくフッ素の量が少量である(2.7重量%)がゆえに、PS8K−b−P(E/B)25K−b−PI20K−3F−28P試料に対してはほとんど検出され得なかった。C1s→σ C−F信号の強度プロファイルは、XPSスペクトル中の強度プロファイルに非常によく似ており、混合物中のPEG550の付着が増加し、F10H10の付着が減少するにつれ減少した。
表面と軟X線ビームの間に50°の角度をなして付着された、異なる量のPEG550およびF10H10側鎖を有するPS8K−b−P(E/B)25K−b−PI10K前駆体から誘導された両親媒性SABCがスピンコーティングされた表面の規格化されたC1sNEXAFSスペクトルが記録された。データは、同じ信号が存在するPS8K−b−P(E/B)25K−b−PI20Kに対するデータと非常に強い相関を示した。特に興味深いのは、PS8K−b−P(E/B)25K−b−PI10K−50F−0PおよびPS8K−b−P(E/B)25K−b−PI10K−0F−33Pであり、事実上、唯一PEG550またはF10H10側鎖だけが存在する表面の特徴を示した。
(アオサ胞子の着生および解離ならびにアオサ芽胞体の解離)
図2Aは、PDMSe、G1652M SEBS、およびPS8K−b−P(E/B)25K−b−PI20K前駆体から誘導された両親媒性SABC上のアオサ胞子の着生密度を示している。コーティングのために、F10H10の3%付着およびPEG550の28%付着を有する表面上の最低の着生を示した。同時に、図2Bに示されている、アオサ芽胞体の成長は、着生した胞子の数を大きく反映し、実験的コーティングから予期されていない毒性はないことが確認された。印加されたウォータージェット圧力の範囲で、実験的コーティングからアオサ芽胞体の除去パーセントは、図2C中に示した。
芽胞体は、低いウォータージェット圧力でPDMSe標準から除去され、この低い表面エネルギーエラストマーの汚損防止特性を反映した(Krishnanら、Biomacromolecules、2006、7、1449およびCasseら、Biofouling、2007、23、267)。PS8K−b−P(E/B)25K−b−PI20K前駆体から誘導された両親媒性SABC表面からアオサ芽胞体を除去するために必要な印加されたウォータージェット圧力は、FPG500およびF10H10側鎖の混合に強く依存する。最低の胞子着生を示した、F10H10の3%付着およびPEG550の28%付着を有する表面は、4つの表面の中で最も高い印加されたウォータージェット圧力を必要とした。特に、PS8K−b−P(E/B)25K−b−PI20K−5F−18PおよびPS8K−b−P(E/B)25K−b−PI20K−9F−13P SABCから誘導された表面は、有効的なアオサ芽胞体放出に対して、PDMSeより低い衝撃圧力を必要とした。このことは、PS8K−b−P(E/B)25K−b−PI20K−5F−18Pの表面に対して、約95%の芽胞体が、たった24kPaの印加されたウォータージェット圧力を用いて表面から除去されたという証拠であり、このポリマーの優れた汚損防止特性を反映したものであった。PS8K−b−P(E/B)25K−b−PI10Kポリマーから誘導されたSABCの組はまた、アオサ胞子着生、およびアオサ芽胞体成長および解離が調べられた。
図3Aは、PDMSe、G1652M SEBS、およびPS8K−b−P(E/B)25K−b−PI10K前駆体から誘導された両親媒性SABC上のアオサ胞子の着生密度を示している。傾向は、PS8K−b−P(E/B)25K−b−PI20K誘導試料と非常に強い相関を持ち、PEG550側鎖の多めの量を混合している試料が最低の着生を示した。この場合に期待されていたように、疎水性PDMSe制御は、高い着生の量を示した。PS8K−b−P(E/B)25K−b−PI10K誘導試料(図3B)に対する、アオサ胞子の解離は、親水性PEG550および疎水性F10H10側鎖のある混合物を有し、別格の放出特性を与える、PS8K−b−P(E/B)25K−b−PI20K誘導試料からのアオサ芽胞体の放出に対して見られた傾向と類似の傾向を示した。たとえば、F10H10側鎖の19%付着およびPEG550側鎖の28%付着を有するポリマーは、アオサ胞子の約51%除去を示し、PDMSe制御によって示された42%除去より十分に大きかった。
(F10H10側鎖の22%付着およびPEG550側鎖の27%付着から誘導される)バルクおよび表面の特徴付けに関する別の試験は、アオサ胞子の27%除去を示し、アオサ胞子放出に対する側鎖の最適“混合”は敏感であり得て、相変わらずさらなる最適化がなされ得ることを示した。アオサ芽胞体の成長は、図4Aに示されているように、胞子の着生密度にほとんど一致し、固有のコーティング毒性がないことを示唆した。図4Bは、ウォータージェット圧力のある範囲を用いた、アオサ芽胞体の解離試験の結果を示している。純粋にペグ化された試料と共に、フッ素化側鎖より若干多くペグ化されたものが混合された両方のPS8K−b−P(E/B)25K−b−PI誘導コーティングは、良好な汚損防止特性を示した。
これらの実験の観点では、胞子放出データと共に、19%F10H10および28%PEG550側鎖を混合する試料は、アオサ胞子着生、放出、および成長、ならびに芽胞体の放出に関して非常に有効的であるように見える。
表3は、両方の組のコーティングの付着されたアオサ芽胞体の50%放出に対する見積もられた臨界圧力をまとめている。PS8K−b−P(E/B)25K−b−PI10K誘導SABCとMD6945サーモプラスチックエラストマー基礎層との組み合わせは、PDMSe制御と同等、またはPDMSe制御より良い性能を示すコーティングの広い領域をもたらす。
(ナビクラ珪藻の着生および解離)
PDMSe、G1652M SEBS、およびPS8K−b−P(E/B)25K−b−PI20K前駆体から誘導された両親媒性SABC上の着生および放出に関するナビクラ珪藻の挙動は、これらの表面上でのアオサの着生および放出に対して観測されたものとは異なっていた。図5Aの着生密度は、恐らく重力沈降としてのナビクラの振る舞いによって、これらの表面で大きな差異は示さない(アオサ胞子と同様の方法での表面の研究は行われていない)。図5B中に示されている、水フローチャンネル中のナビクラの脱離は、ポリマー中のF10H10に対するPEG550の相対的な混合度に依存した。除去は、F10H10側鎖の混合が増えるにつれ、単調に増加した。F10H10の17%付着およびPEG550の7%付着を有する表面は、PDMSe制御(〜41%)に対する値よりずっと大きな、実験的表面の中で最も高いナビクラ珪藻の除去(〜52%)を示した。疎水性化学的部分の混合を増やすにつれナビクラ珪藻解離が増加するこの傾向は、親水性が増加するにつれナビクラの接着の強度が増加する(Krishnanら、Biomacromolecules、2006、7、1449)という、通常観測される挙動と対照的であり、水環境中で容易に再組織化するコーティング表面の能力を示している。
まとめると、両親媒性海洋防汚/汚損防止コーティングが、親水性PEG550および疎水性F10H10側鎖の異なる混合を有する、2つの異なるポリスチレン−ブロック−ポリ(エチレン−ランダム−ブチレン)−ブロック−ポリイソプレンABCトリブロック共重合体の化学的修飾によって開発された。結果として得られたポリマーは、赤外スペクトロスコピー、H NMRスペクトロスコピー、および元素分析の組み合わせを用いて特徴づけされ、PEG550およびF10H10混合の異なる相対的量の広い領域を確認した。ポリマー表面は、十分な再組織化が可能な動的表面を示唆する高い水接触角ヒステリシスを示した。F10H10側鎖をポリマーへの混合を増やすと、C1sXPS分析に対しては−CF−および−CFピーク、C1sNEXAFS測定に対しては1s→σ C−F共鳴の強度の増大をもたらし、この低エネルギー部分の表面への偏析(セグレゲーション)を示した。両方の20%PEG550/80%F10H10(80P/20F)および80%PEG550/20%F10H10(20P/80F)PS−b−P(E/B)−b−PI表面活性ブロック共重合体コーティング上での甲殻類キプリス型幼生の着生分析は、SEBSおよびT2サイラスティックPDMS制御には大きく及ばない着生を示した(図6を参照せよ)。
アオサ胞子/芽胞体およびナビクラ珪藻の着生および解離は、異なる挙動傾向を示した。一般に、アオサ胞子の最低の着生が、大量の混合されるPEG550側鎖を有するコーティングに対して見られた。ナビクラ着生は、試験された全てのコーティングにわたり同様であった。フローチャンネルを用いたアオサ胞子解離およびウォータージェットを用いたアオサ芽胞体解離の分析は、疎水性および親水性側鎖の最適な混合は、PEG550が大部分である混合に向かう傾向(バイアス)で得られる可能性があることを示唆した。ナビクラ珪藻は、より素直な脱離結果を示し、疎水性F10H10部分の最大量を含むコーティング上で解離は有利であった。
(例2.グラフト化機能性を有する防汚ABCトリブロック共重合体)
一連のポリ(エチレン−ランダム−ブチレン)−ブロック−ポリ(イソプレン)(PS−b−P(E/B)−b−PI)ベースのABCトリブロックSABCが合成された。半フッ素化、ペグ化、および両親媒性エトキシ化フルオロアルキル側(“AMP”)鎖は全て、グラフト化表面活性側鎖として混合された。ポリマー修飾は、単純な2ステップエーテル化合成法を用いて実施された。緑大型藻類アオサおよびナビクラ珪藻の防汚分析が行われた。表面構造は、接触角分析および吸収端近傍X線吸収微細構造(NEXAFS)を用いて探られた。3つ全てのSABCは、アオサおよびナビクラの両方に良好な結果を示す両親媒性側鎖SABCと共に、有効的な防汚および汚損防止挙動を示した。
グラフト化機能性側鎖を有するブロック共重合体は、多重層防汚/汚損防止コーティング系の表面層として用いられ得る。疎水性、半フッ素化側鎖は表面エネルギーを制御するために用いられた。親水性、ポリ(エチレン グリコール)(PEG)含有側差は、たんぱく質接着に抵抗するPEGの傾向を有するポリマーを提供するために用いられた。両親媒性、エトキシ化フルオロアルキル側鎖は、どちらとも取れるぬれ性特性を提供した。
(材料(マテリアル))
PS−b−P(E/B)−b−PIトリブロック共重合体は、大きなスケール(0.5kg)では、高い単分散性(PDI〜1.06)を有する特別にあつらえられた分子構造に合成された。ポリ(エチレン グリコール)メチルエーテル(平均M〜550g/mol、PEG550)およびエトキシ化フルオロアルキル表面活性剤、ゾニール(登録商標)FSO−100(サプライヤーによれば平均M〜725g/mol)は、Sigma Aldrichから得て、そのまま用いられた。半フッ素化アルコール、10−ペルフルオロデシル−1−デカノール(F10H10)が、上の例1に記載したように調製された。
PS−b−P(E/B)−b−PI誘導SABCは、下の方法2−1中に示されているように、合成された。前駆体PS−b−P(E/B)−b−PIトリブロック共重合体は、アニオン重合および触媒的水素化の組み合わせにより製造された。
方法2−1.PS−b−P(E/B)−b−PI誘導SABCトリブロックSABCを製造する一般的方法
ここで、各Rは独立にR、RまたはRである。Rは−(OCHCH12OCH(PEG550)であり、Rは−O(CH10(CF10F(F10H10)であり、そしてRは−(OCHCH(CFCFF(エトキシ化フルオロアルキル、“AMP”)である;ここで各qは1から約25であり、そして各rは0から約18である;wは約75、x+yは約600、そしてzは約150または約300である。
側鎖は、ゾニール(登録商標)FSO−100表面活性剤を用いて、オキシラン環の開環反応によって得られた。変数qおよびrは、典型的にはそれぞれ約3から約15である。副反応はまた、HまたはOHなどのR1−3置換をもらたし得るか、または実施される反応条件に依存して、別のオキシラン基との副反応によって、別のポリマーであっても良い。
PS−b−P(E/B)−b−PIのPIブロックの残留不飽和炭素−炭素結合は、ジクロロメタン中のmCPBAを用いてエポキシ化された。製造物は冷たいメタノール中に沈殿され、再沈殿によって精製された。修飾されたPIブロックのオキシラン環は次に、クロロフォルム(PEG550およびAMP)またはクロロフォルムとTFT(F10H10)の1対1混合物のいずれかの中のBF・EtOを用いた触媒エーテル化反応を介して開かれた。24時間後、反応は30%水酸化ナトリウム溶液でクエンチされ、減圧下で濃縮され、冷たいメタノール(F10H10)、1:1(v:v)メタノール:水(AMP)または0℃での水/氷混合物(PEG550)中に沈殿された。
NMR解析は、PS−b−P(E/B)−b−PI前駆体のエポキシ化は、非常に高い(〜100%)効率で、PIブロックの残留不飽和炭素−炭素結合をオキシラン環に転化させたことを示した。エポキシ化されたPS−b−P(E/B)−b−PI前駆体のエーテル化反応は、NMR(PEG550およびAMP)および元素分析(F10H10)の組み合わせによる特徴付けとして、これら3つの表面活性基に対して、高い度合いの付着をもたらした。エポキシに関連する表面活性側鎖の付着は、PS−b−P(E/B)−b−PI−PEG550に対しては47%のオーダー、PS−b−P(E/B)−b−PI−AMPに対しては46%のオーダー、およびPS−b−P(E/B)−b−PI−F10H10に対しては50%のオーダーで見出された。
PS−b−P(E/B)−b−PI−PEG550に対するH NMR(300MHz、CDCl、δ)は、6.6および7.1(5H、スチレン);3.69(br s、2H−OCHCHO−);3.38(s、3H、−OCH);1.80、1.30、0.84(バックボーン)である。
PS−b−P(E/B)−b−PI−AMPに対するH NMR(300MHz、CDCl、δ)は、6.6および7.1(5H、スチレン);3.64(br s、2H−OCHCHO−);2.43(m、2H、−CHCF−);1.72、1.30、0.82(バックボーン)である。
PS−b−P(E/B)−b−PI−F10H10に対するH NMR(300MHz、CDCl、δ)は、6.6および7.1(5H、スチレン);3.5(br s、2H−OCHCHO−);1.56、1.38、0.86(バックボーン)である。
(表面調製および評価)
NEXAFSスペクトロスコピーおよび接触角測定に対する表面は、クロロフィルム中のグラフト化トリブロック共重合体の3%(w/v)溶液を(CPK Industories model POLOS Spin150スピンコーターを用いて)スピンコーティングすることによってシリコンウェハ上に調製された。アオサおよびナビクラ生物学的汚損分析用の表面は、Kraton SEBS(G1652)サーモプラスチックエラストマーで覆われたガラスマイクロスコープスライド上に3%(w/v)溶液をスピンコーティングすることによって調製された。TFTは、AMPおよびF10H10ポリマーに対しては溶剤として用いられたが、一方、PEG550ポリマーはクロロフォルム中に溶解された。SABC表面被覆率は、およそ2.0mg/cmであった。表面は少なくとも24時間にわたり60℃の真空オーブン中でアニールされ、直後に引き続き120℃で約12時間アニールされた。動的水接触角は、VCA Optima XE表面解析システムを用いて測定された。NEXFAS実験が実施され、部分電子収量(PEY)C1sスペクトルは、線形プレエッジベースラインを減じ、320eVでエッジジャンプを1に設定することによって規格化された。
(接触角)
PS−b−P(E/B)−b−PI−PEG550、PS−b−P(E/B)−b−PI−AMP、およびPS−b−P(E/B)−b−PI−F10H10のスピンコーティングされた表面上の水接触角解析は、これら3つのSABCの表面に根本的な差異を示した。PS−b−P(E/B)−b−PI−PEG550に対しては、θw,adv=87±2°、θw,rec=28±2°であった。PS−b−P(E/B)−b−PI−AMPは同時に、θw,adv=107±2°、θw,rec=26±2°の大きめの表面再組織化が可能な表面を示した。最後に、PS−b−P(E/B)−b−PI−F10H10は、θw,adv=122±2°、θw,rec=53±3°の最疎水性表面を示した。
(NEXAFSスペクトロスコピー)
図7は、シリコン上にスピンコーティングされた、PS−b−P(E/B)−b−PI−AMP(上)およびPS−b−P(E/B)−b−PI−PEG550(下)SABC表面のC1s部分電子収量NEXAFSスペクトルを示している。AMP SABCは、側鎖の半フッ素化炭素の炭素原子から生じる、特徴的なC1s→σ C−Fピークを示した。288eV付近の鋭いピークは、C1s→σ C−H遷移の結果である。バックボーン上のケトン精製はエチレン化反応の可能な副反応である。もし、この反応が十分な量だけ生じれば、C1s→σ C=Oピークが、288eV近傍に期待される。
(アオサおよびナビクラ生物汚損分析)
藻類ウスバアオノリおよびナビクラ珪藻を用いた生物汚損分析が、Krishnanおよび共同研究者(Langumuir、2006、22、5075−5086)によって記述されているように行われた。SABC上の着生および接着は、ウォータージェットを用いて調べられた。図8は、3つ全ての表面のアオサ胞子による着生を防ぐ傾向を示している。図9は、非常に低い水圧がPS−b−P(E/B)−b−PI−AMP表面から、アオサ芽胞体を解離するために必要であることを示している。同時に、ナビクラ放出は、3つ全ての試験表面(AMP=51±5%、F10H10=42±4%、PEG550=21%±7%)上は、疎水性PDMS制御(5%±3%)に対してより高かった。PS−b−P(E/B)−b−PI−F10H10表面の高めのナビクラ放出と、PS−b−P(E/B)−b−PI−PEG550表面の期待された値より低いアオサ放出を一緒にすると、SABCの表面特性は、ポリマーバックボーン上のヒドロキシル基によって影響を受けるのかも知れないことを示している。
まとめると、エーテル結合親水性、疎水性および両親媒性表面活性基を有する新しいトリブロック共重合体が合成された。表面特性は、接触角分析およびNEXAFSスペクトロスコピーを用いて調べられた。3つ全てのSABCは、十分な防汚および汚損防止挙動を示し、両親媒性側鎖SABCはアオサおよびナビクラの両方に対して良い結果を示した。
(例3.着生、成長、および付着の強度の研究)
(第1部.アオサ胞子および芽胞体の表面活性トリブロック共重合体上の着生、成長、および付着の強度)
アオサ胞子および芽胞体の着生、成長、および放出といった両親媒性ポリマーの防汚特性が評価された。実験は、スチレン−エチレン/スチレン−ブチレン(SEB)の基礎層と機能化されたポリスチレンベースの表面活性ブロック共重合体(SABC)の上部層からなる表面サーモプラスチックエラストマーは、所望の汚損防止特性を有し得ることを示した。2つの異なるタイプのSABC層(K3およびK4)が、SEB基礎の上面上に用いられ、最終コーティングは、ABCポリ(スチレン−b−エチレン/ブチレン−b−イソプレン)誘導表面活性ブロック共重合体二重層(SEBS上のSABC)。
K3およびK4コーティングは、イソプレン(PI)前駆体ブロックのサイズが異なっていた。K3前駆体ポリマーは約10,000g/molのPIブロックを含んでいたし、K4前駆体ポリマーは約10,000g/molのPIブロックを含んでいた(K3に対しては〜150単位、K4に対しては〜300単位)。SABC層はさらに、両親媒性(エトキシ化フルオロアルキル、AMP)、半フッ素化(F10H10)、またはペグ化(PEG550)側鎖によって修飾された。
両親媒性側鎖の機能化薬剤は、Dupontゾニール(登録商標)FSO−100表面活性剤であった。フッ素化試料はF10H10の半フッ素化された鎖、10個の全フッ素化された炭素を有する10個の炭素脂肪族スペーサを用いた。ペグ化試料はPEG550の側鎖(550g/mol平均で、約12個の繰り返し単位を有する)を有していた。
表面活性トリブロック表重合体構造は以下のようであった。K3およびK4は、2つの異なるPS−b−P(E/B)−b−PI前駆体である。ポリスチレンブロックは、8000g/mol、エチレン/ブチレンブロックは、25,000g/mol、およびイソプロピレン前駆体ブロックは、K3に対しては10,000g/mol、K4に対しては20,000g/molのオーダーである。同一の実施形態で、Kraton ABCトリブロック誘導SABCは、式(3−1)のようなポリマーである。
ここで、nは約75、mは約600、tは(K3に対して)約150または(K4に対して)約300、および各Rは独立にH、OH、R、R、またはRであり、RはK3Pに対しては−(OCHCH12OCH(“PEG550”)であり、RはK3Fに対しては−O(CH10(CF10F(“F10H10”)であり、RはK3AおよびK4Aに対して−(OCHCH(CFCFF(エトキシ化フルオロアルキル、AMP)であり、各qは独立に1から約25であり、各rは独立に1から約18である。当業者には認識されるだろうが、例によっては、副単位t中の第3のアルコールおよび基Rは、様々な副単位t上で交換され得て、ブロックmは単にポリ(エチレン)−ランダム−ポリ(ブチレン)ポリマーブロックの概略表現である。
式(3−1)は、R、R、およびR側鎖の組み合わせを含むように調製され得る。Rに対して、qおよびrは典型的には、約3〜15である。実験の一組では、側鎖付着は、K3Fに対しては50%、K3Pに対しては約47%、およびK3Aに対しては約45%、ならびにK4Aに対しては約15から20%であった。K3F付着は、元素分析を用いて計算され、K3P、K3A、およびK4Aは全てNMR積分を用いて計算された。4つのタイプの表面活性トリブロック共重合体およびSEB標準が評価された。酸洗浄されたガラススライドおよびPDMSE(T2サイラスティック)は、表3−1中に示されるように、標準として含まれた。
(方法)
(リーチング(浸出))
コーティングK3aおよびK4aは、蒸留水中で10日にわたって、残りのコーティングは5日にわたってリーチングされた。リーチングは、試料中に残留の未反応側鎖が残っていないことを保証した。全てのコーティングは、実験を始める前に1時間にわたり海水中に浸された。
(胞子の着生)
遊走子は、成長したアオサ植物から、標準的方法によって得られた。遊走子は、〜20℃の暗い場所で10mLの遊走子(1.0×10ml−1)を含む個々の皿に着生された。1時間後、スライドは海水中で穏やかに洗浄され、未着生の遊走子を解離した。スライドは、海水中に2.5%グルタルアルデヒドを用いて海水中に固定された。表面に付着された遊走子の密度は、蛍光マイクロスコープに取り付けられた画像システムを用いて3つの複製スライドの各々上でカウントされた。胞子はクロロフィルの自己蛍光によって視覚化された。カウントは、各スライド上、30の視野角(各0.064mm)に対してなされた。
胞子は同時に、着生分析中の胞子のように同一のバッチから着生されたが、7日にわたって、芽胞体(若い植物)の段階まで成長させられた。芽胞体バイオマスは、Tecan蛍光プレートリーダ中で、スライドを覆っている芽胞体の細胞内に含まれているクロロフィルの蛍光を測定することによって、その場(イン・サイチュ)で画定された。バイオマスは、相対蛍光単位(RFU)を用いて定量化された。各スライドに対するRFU値は、70点の蛍光の読みの平均である。データは6つの複製スライドの平均RFUとして表され、バーはSEM(平均の標準誤差)を示す。
(芽胞体の付着強度)
芽胞体の付着の強度を測定するためにウォータージェットが用いられた。6つの複製スライドの各々の一つは、ウォータージェットによって一つの衝撃圧力に晒された。一連の水圧が用いられ、解離されたバイオマスの部分が蛍光プレートリーダを用いて見積もられた。%解離データから、芽胞体の50%を解離するために要求される臨界水圧が導かれた。
(結果および議論)
(コーティング条件)
全てのコーティングは滑らかであり、海水中の浸入によって視覚的には影響を受けなかった。DI水中への数日にわたる侵入の後の接触角は表3−2に示されている。
K3p試料に対する接触角は、予期されていた値より高かった。K4a接触角は、K3a試料に対する接触角より高く、それは恐らく高めのイソプレン含有量と両親媒性鎖の低めの数によるものであろう。測定は、淡水に浸漬した後に行われた。コーティングK3aおよびK4aは8日にわたり浸された。残りの試料は4日にわたり浸された。
(胞子着生)
胞子着生密度は、K3表面活性トリブロック共重合体上より、ガラス、PDMEe、およびSEBsスタンダード上ではすっと高かった(図10)。K4a表面活性トリブロック共重合体上の着生密度は、K3シリーズ上より高く、PDMS上の着生密度よと同等であった。K4a試料の高いイソプレン含有は、胞子の着生密度を減少させたように見えるが、それは恐らくコーティングの濡れ性の増加によるものであろう(表(3−2))。しかしながら、基としての試験表面では、着生密度は濡れ性と強くは相関していなかった。
(芽胞体成長)
各表面上のバイオマス生産は、主として胞子着生密度に比例した(図11)。最高の生産はガラス、PDMSeおよびSEBsスタンダード上であり、全般的に試験表面上では低めの成長であった。芽胞体バイオフィルムの画像は記録され、K3コーティング上ではほとんど成長が観測されなかったが、K4コーティング上ではそうでもなく、恐らく後者の上での高めの着生率を反映したのだろう。全ての表面上の成長は正常であった。胞子密度が低かった場所、たとえばK3p上では、芽胞体は長く成長し、それはもし密集した草地で成長したなら受けたであろうように、栄養分または光に対する競合によって制限されなかったからである。
表面活性トリブロック共重合体は防汚特性の観点から、3つの一般的グループに分割され得る(図12)。第1に、K3aおよびK4aコーティングは、優れた脱離プロファイルを有し、試験した各圧力でPDMSeスタンダードの解離よりずっと高い解離を有した(図10を参照せよ)。第2に、K3pコーディングの性能は、PDMSeのものと同様であった。第3に、芽胞体はK3fコーティングにかなり強く付着し、その強さはガラス上の強さと同様であった。K3fに対しては、ガラスからの脱離はおよそ30%で通常より若干高めであったが、圧力の増加に伴って増加しなかった。
表面活性トリブロック共重合体間の比較は、両親媒性表面の高い性能を明らかに示し、表面エネルギーの混合は、芽胞体の付着強度を不安定化させ得ることを示唆している。K3aおよびK4a材料の両方の上での性能の類似性は、このタイプの実施形態の強さを示している。
(結論)
K3表面活性トリブロック共重合体上の胞子着生は、ガラス、PDMSeおよびSEBsスタンダード上より低かった。K4表面活性トリブロック共重合体上の胞子着生は、K3コーティング上より高く、PDMSe上の胞子着生と同様であった。K3aおよびK4a表面活性トリブロック共重合体上の胞子バイオマス生産は、胞子着生密度に比例した。芽胞体の成長は、全てのコーティング上で正常であり、毒性の兆候はなかった。K3aおよびK4a表面活性トリブロック共重合体上の芽胞体付着の強度は、PDMSeスタンダード上より低かった。K3p表面活性トリブロック共重合体上の芽胞体付着の強度は、PDMSeスタンダード上の強度と同様であったが、K3f上の強度は、ガラス上の強度より強かった。
K3aおよびK4aコーティング上の汚損防止性能は、例外的であった。K3aコーティングは、低い着生および成長を有し、これらはK3aコーティングに全般的に所望の防汚プロファイルを付与した。K3pコーディングと比較してK3fコーディングの劣った性能は明らかであったが、しかしながら、K3aおよびK4aコーティング上の芽胞体の弱い付着強度は注目された。“ソフトな”MD6945基礎層は、多重層コーティングシステムの汚損着生および放出挙動へのモジュラスの影響を調べるために用いられた。ソフトな基礎層(MD6945)を用いたデータの直接比較は、エトキシ化フルオロアルキル側鎖SABCを用いたとき、ハード(硬い)基礎層を用いる場合より有利であることを示した。
(第2部.トリブロック共重合体上の珪藻の着生および接着)
第1部のSABCの防汚および汚損防止特性は単細胞珪藻ナビクラ藻を用いて評価された。珪藻接着は、アオサ胞子/芽胞体の接着とは異なり、それは珪藻接着が、付着と移動という二重の機能を履行するからである。さらに、運動性で着生点を‘選択’することができるアオサ胞子とは異なり、非運動性の珪藻細胞は、水柱を通って落下することによって表面に到達する。よって、これらの実験での全ての表面は、着生期間の終わりにおける表面とは対照的に、同一の細胞数を有する。穏やかな洗浄の後、接着された細胞のみが付着したまま残る。これは初期付着として参照され、接着分析の出発点であり、これによってスライドはフローチャンネル中の剪断圧力に晒される。
珪藻は通常、アオサで一般的に見られた傾向とは対照的に、極端に濡れやすい表面を除けば、親水性表面より疎水性表面により強く接着する。しかしながら、濡れ性は珪藻の付着強度を画定する唯一の基準ではない。珪藻の付着のアオサとの比較は、広いスペクトルの防汚活性度が明らかにされることを可能とする。第1部で調べられた4つのタイプの表面活性トリブロック共重合体(およびSEBsスタンダード)はまた、ナビクラ珪藻に関して調べられた。
(方法)
(リーチング(浸出))
コーティングK3aおよびK4aは、蒸留水中で20日にわたって、残りのコーティングは15日にわたってリーチングされた。リーチングは、試料中に残留の未反応側鎖が残っていないことを保証した。全てのコーティングは、実験を始める前に1時間にわたり海水中に浸された。
(初期付着(穏やかな洗浄の後に付着された細胞の密度))
ナビクラ細胞は、250mLコニカルフラスコ中に含まれるF/2倍地(メディア)中で培養された。3日後、細胞は対数増殖期にあった。細胞は、容量が約0.25μgmL−1のクロロフィルを有する懸濁液を与えるために採取および希釈する前に、新鮮培地中で3回洗浄された。細胞は、実験室のベンチ上、〜20℃で10mLの懸濁液を含む個々のディッシュ中に着生された。2時間後、スライドは、適切に付着されていない細胞を取り除く(没入洗浄)ために海水中で、穏やかに洗浄した。視ライドは、2.5%グルタルアルデヒドを用いて海水中に固定した。表面に付着した細胞の濃度は、蛍光マイクロスコープに取り付けられた画像システムを用いて各スライド上でカウントされた。カウントは、各スライド上、30の視野角(各0.064mm)に対してなされた。
(ウォーターチャンネル中の珪藻の脱離)
ナビクラが着生したスライドは、水チャンネル中で32.5Paの剪断応力(40USgalmin−1)に晒された。付着したままの細胞の数は、上述の画像解析システムを用いてカウントされた。
(結果および議論)
コーティングは良好な条件であり、リーチング期間の間視覚的な変化はなかった。しかしながら、水への浸漬の後、表面活性トリブロック共重合体に対する接触角は、75〜99°の領域内であった(表3−3)。リーチされたコーティング測定は、淡水に浸漬した後に行われた。コーティングK3aおよびK4aは20日にわたり浸された。残りの試料は15日にわたり浸された。ドライコーティング測定が、シリコンウェハ上のドライな試料において行われた。余分な水は、測定の前に振って表面から解離した。
上の第1部で示されているように、ペグ化K3p試料に対して測定された接触角は、期待された値より高く、リーチング前に測定された前進接触角とほぼ同一であった。また、K3a試料に対する接触角は、以前の実験で測定された時より高かった。
(珪藻の初期付着)
珪藻は水柱を通って沈没し、重力の影響下で表面に到達する。珪藻の数では、投与は全ての表面に対して同一であるが、ある表面上では、珪藻はしっかりと付着することができず、ディッシュの移動おおび穏やかな洗浄によって容易に洗い流される。穏やかな洗浄の後の付着(着生)の差異はよって、細胞の接着の能力の差異を反映する。
各コーティング上に残った珪藻の密度は様々であった(図13)。最高数は、SEBs基礎、PDMSeおよびフッ素K3f上であり、これらは全て疎水性表面である。両親媒性K3aおよびK4a、ペグ化K3pならびにガラス上の付着した細胞の密度は、低かった。
(ウォーターチャンネル中の珪藻の脱離)
標準の材料上の珪藻の付着の強度は、あるパターンに従い、PDMSeおよびSEBsからは低い解離であり、ガラスからは高い解離である(図14)。最も高い解離率は、両親媒性K3aおよびK4a表面活性トリブロック共重合体からのものであった。これらはまた、上の第1部中のアオサ芽胞体とともに良好な汚損防止プロファイルを示し、広いスペクトルの活動度を示した。
期待とは対照的に、珪藻はフッ素化K3fに対してより、ペグ化K3pにより強く付着した。これは、疎水性(K3f)表面上の珪藻密度がより大きい、初期付着データとは反対であった。しかしながら、以前のアオサ実験では、これらの表面上の芽胞体の付着強度はまた逆であった。これは、部分的には、恐らく、リーチングの後、予想されるより高い接触角を有したペグ化コーティングの親水性によるものであろう。
(結論)
(穏やかな洗浄後の)初期珪藻付着は、フッ素化K3f上で最も高く、ペグ化K3p表面活性トリブロック共重合体上で最も低かった。珪藻付着強度は、両親媒性K3aおよびK4a表面活性トリブロック共重合体上で最も低い。珪藻付着は、フッ素化K3f表面活性トリブロック共重合体上より、ペグ化K3p上の方が強かった。
表面活性トリブロック共重合体への珪藻の付着の強度は、(ガラスと比べて)例外的に低くはなかったが、PDMSeおよびSEBsスタンダード上よりずっと低かった。このことと上の第1部で示されたアオサ芽胞体に対する良好は防汚プロファイルを組み合わせると、示されることは、両親媒性コーティングは良好な反藻特性を有することである。
(第3部.フッ素化およびペグ化トリブロック共重合体上のアオサ胞子および芽胞体の成長および付着強度)
PS8K−b−P(E/B)25K−b−PI20K(“K4”)両親媒性エラストマーの組は、アオサ胞子および芽胞体を用いて防汚能力が調べられた。K4両親媒性エラストマーは、フッ素化(F10H10)およびペグ化(PEG550)基(たとえば、式3−1のRおよびR基)などを有する側鎖の様々な比によって修飾された。本研究では、胞子着生は、PRG含有量の増加とともに減少した。また、芽胞体の付着の強度は、ほとんどフッ素化されたコーティング上で最大であった。芽胞体はPDMSeより2つの試料からの方が容易に解離された。
アオサ胞子および芽胞体の防汚および汚損防止特性は次に、K3両親媒性トリブロック共重合体(PS8K−b−P(E/B)25K−b−PI10K)の類似の組の上で評価された。この組はまた、新しい低いモジュラスのSEBSベース、MD694と組み合わされた。したがって側鎖の高い全体グラフト化密度が達成され、トリブロックの範囲は、PEG側鎖のみおよびF10H10側鎖のみを有する制御試料を含むように拡大された。よって、一連の、F10H10側鎖およびPEG550側鎖の別々の比を含む両親媒性トリブロック共重合体試料が、表3−4中に示されているように、調製され評価された。
コーティングは脱イオン化水中で24時間にわたりリーチされた。全てのコーティングは次に、実験を実施する前に1時間にわたり海水中に浸された。胞子の着生は、上の第1部で記述されているように行われた。上の方法で1時間にわたり遊走子が付けられたスライドは、特別に設計されたウォーターチャンネル中の海水の乱流によって生成された53Paの剪断応力に晒された。スライドは次に、上述のように、グルタルアルデヒド中に固定された。付着されたままの胞子の数は、(着生を画定するために用いられたものと同一の)晒されていない制御スライドと比較された。芽胞体の成長は、上の第1部に記述されたように行われた。図11〜図13および図16中のバーは、SEM(平均の標準誤差)を示す。芽胞体付着強度は、第1部に記述されたように測定された。
(結果および議論)
(コーティング条件)
コーティングは滑らかで、無色で、透明であった。接触角(表3−5)はフッ素化されていない0F試料でさえ、比較的高い前進接触角を有することを示した。試料の間の前進および後退接触角の差は比較的小さかった。図15は、表3−5のスプレイされたコーティングに対する接触角を示している。データは図16〜図18と比較できるようにプロットされている。
(胞子着生)
胞子着生密度は、F10H10含有量が減少しPEG550含有量が増加するにつれ、減少した(図16)。最高の着生密度は、100F修飾試料上であり、ガラス、PDMSeおよびSEBSスタンダード上の密度と同等であった。着生密度は0F試料上で最低であり、100F試料上の胞子密度の25%のみを有した。
(胞子の付着強度)
100〜50%のF10H10側鎖含有量を有する試料からの胞子除去は低く、ガラススタンダードからのものと同等であった(図17)。最高の除去は、40F試料から(51%除去)であって、PDMSeスタンダード(34%除去)からの解離より大きかった。20Fおよび0F試料からの除去は、40Fと100〜50Fの間の中間であった。全般的に、胞子の付着の強度は、親水性コーティング上で弱めであり、40F試料上で弱さがピークであった。
(芽胞体成長)
トリブロック上のバイオマス生産は、胞子着生密度とともに、広く直線上であった(図18)。成長はF10H10側鎖の最高の比率(PEG550の最低の比率)を含むトリブロック上で最大であり、F10H10側鎖の最低の比率(PEG550の高い比率)を含むトリブロック上で最低であった。
(芽胞体の付着の強度)
トリブロック共重合体上の芽胞体の付着の強度は、F10H10含有量が減少しPEG550含有量が増加するにつれ減少した(図19および図20)。共重合体60〜0F上で、胞体の付着の強度はPDMSeスタンダード上と等しいまたはPDMSeスタンダード上より低かった。42kPaのウォータージェットに晒された後に撮られた画像は、列が高いフッ素化から低いフッ素化に行くにつれ、ウォータージェットによって掃除された領域が広がることを示している(図21および図22を参照せよ)。このことは、ペグ化含有量が増えるにつれ、列に沿って付着強度が弱くなることを示している。100Fおよび80Fトリブロック試料上の付着強度は、ガラススタンダードおよびSEBSベース上と同様の強さであった。
図21および図22は、ウォータージェット試験実験前と後のデータを示している。図21は(前)は、平均の読みに基づいている。図21の読みは、統計的変動により(各実験に対して1つのデータ点のみを取られた)、ある状況下にある低い印加圧力に対する図22の読みより時として低かった。胞子の付着の強度の節で述べたように、胞子は40F試料へは、他の共重合体に対してより弱く付着した。しかしながら、このことは芽胞体付着に対しては当てはまらず、除去データは上述のように連続的傾向に従った。
(結論)
胞子着生密度は、あるトリブロック共重合体のF10H10含有量に正に相関し、PEG550含有量に負に相関した。胞子の付着の強度は、一般的に高いF10H10含有量および低めのPEG550含有量を有する共重合体上で高かった。芽胞体は全てのコーティング上で正常に成長した。芽胞体の付着の強度は、あるトリブロック共重合体のF10H10含有量に負に相関し、PEG550含有量に正に相関した。40、20および0Fトリブロック上の芽胞体の付着の強度は、PDMSeスタンダード上より弱かった。
データは、上述のポリマーは、十分で有利な防汚特性を有することを示している。胞子着生および芽胞体解離の両方は、コーティング中のペグ化された側鎖に対するフッ素化された側鎖の比に強く相関した。これらのトリブロック共重合体の比較は、上の例1〜3に対して用いられたものと厳密に同一ではないが、データはそれらの例で明らかにされた傾向と良く相関する。胞子着生密度とトリブロックのフッ素化およびペグ化側鎖含有量の間の傾向は、前進もしくは後退のいずれかの接触角またはそれらの間のヒステリシスと強い相関を示さなかった。しかしながら、これらのような表面は水で再構成されがちであるので、強い相関がキャプティブバブル接触角測定によって見出されるかも知れない。40、20および0F試料上の芽胞体の付着の強度は、PDMSeスタンダードより弱く、60および50Fに対する付着強度は、PDMSeスタンダードと同一であった。
(例4.海洋防汚応用に対する機能化されたポリスチレン−ブロック−ポリ(エチレン−ランダム−ブチレン)−ブロック−ポリイソプレン(PS−b−P(E/B)−b−PI)誘導ブロック共重合体)
多重層防汚/汚損防止コーティングシステムの表面層として使用するための結合された側鎖を含むブロック共重合体が調製された。これらのブロック共重合体の自己組織化は、機能化された表面活性基のポリマー表面に対する偏析(セグレーション)を助け、海洋汚損を防ぐまたは防止することが可能な表面を形成する。PS−b−P(E/B)−b−PIベースのSABCは含有両親媒性エトキシ化フルオロアルキル側鎖は、緑藻アオサおよびナビクラ珪藻に関して良い防汚および汚損防止特性を示した。そのようなポリマーは、高い接触角ヒステリシスを有することが見出され、その局所的環境に依存して、再構成することが可能な表面であることを示した。方法4−1中で示されている、これらのSABC含有両親媒性側鎖が合成され、分析された。
方法4−1.ABCトリブロックSABCから誘導されるPS−b−P)E/B)−b−PIを製造する一般的方法
ここで、各Rは独立にR、R、またはRであり、Rは−(OCHOCHOC(CHCHであり、Rは−(OCHOCH10(CH15CHであり、Rは、−(OCHOCH11(CHSi(Me)(OSiMeである。ブロック変数w、x、y、およびzは、本明細書中に記載されているPS−b−P(E/B)−b−PI誘導SABC前駆体に対応するように選択され得る。副反応はまた、HまたはOHなどのR4−6置換をもらたし得るか、または実施される反応条件に依存して、別のオキシラン基との副反応によって、別のポリマーであっても良い。側鎖はまた、上の例2中に記載されているいかなる1つ以上のR1−3であっても良い。
トリブロック前駆体のPIブロックの機能化は、残留アルケン基のエポキシ化と引き続きの、両新媒性機能性を運ぶ非イオン性界面活性剤アルコールを用いた触媒開環エーテル化反応を通じて達成された。よって、側鎖R、R、またはRを有するポリマーは、適切なR、R、またはRアルコールをエポキシ化されたPI副単位を有するPS−b−P(E/B)−b−PIに、たとえばルイス酸の存在の下で、加えることによって得ることができる。R、R、およびR前駆体は、Brij56(登録商標)(Croda International PLC、CH(CH15(OCHCHOH、n=約10、M〜683)、Tergitol NP−9(登録商標)(Union Carbide Chemical and Plastics Technology Corporation、CH(CH(OCHCHOH、FW616.82);およびSilwet L−408([(CHSiO]CHSi(CH(OCHCHOH)、n=約11、M〜720、 Materialsから入手した。)を含み得る。ポリスチレン−ブロック−ポリ(エチレン−ランダム−ブチレン)−ブロック−ポリスチレン(SEBS)トリブロックサーモプラスチックエラストマー(Kraton G1652M)および無水マレイン酸でグラフト化されたSEBSは、Kraton Polymersから得られた。
典型的なエポキシ化反応では、PS8K−b−P(E/B)25K−b−PI10KSABC前駆体ポリマー(5g、14.5mmolの反応性イソプレンサイト)が丸底フラスコ中の100mLのジクロロメタンに溶解された。3−クロロ過安息香酸(mCPBA、3.9g、17.4mmol)が混合物中に加えられ、溶液は室温で5時間にわたり強く攪拌された。引き続き、ポリマーはメタノール中に沈殿し、ろ過によって回収され、残留mCPBAおよびそのそれぞれの副産物を解離するためにジクロロメタンから再沈殿させた。白く、弾性のある生成物は、残留溶剤を解離するために48時間にわたり減圧下の室温で乾燥させた。
エポキシ化されたPS8K−b−P(E/B)25K−b−PI10K(300MHz、CDCl、δ)に対するH NMRは:6.57、7.07(5H、スチレン)、2.66(br s、1H、エポキシ化イソプレン、−CHHCOC(CH)CH−)、0.80、1.07、1.22、1.45、1.57(バックボーン)である。赤外(ドライフィルム)νmax(cm−1)は:2925、2850(C−H伸長);1470(C−H屈曲);1070(C−O伸長);880(C−O−C伸長);700(C−H屈曲、芳香性)である。
エーテル結合側鎖表面活性ブロック共重合体を製造するために、2.1gのエポキシ化されたPS8K−b−P(E/B)25K−b−PI10K(エポキシド5.8mmol)を、4倍モル過剰(23.3mmol)の側鎖前駆体非イオン性界面活性剤アルコール(Brij56、Tergitol NP−9、またはSilwet L−408)と一緒に、丸底フラスコ中に取った。反応物は、アルゴンで洗浄され、次に約150mLの無水クロロフォルム中に溶解された。活性化されたモレキュラーシーブが反応混合物に加えられ、水の吸着を最適化するために約12時間にわたり放置することが許容された。エーテル化は、ボロン トリフルオライド ジエチル エーテル触媒(0.345g、2.4mmol)の添加によって実行され、引き続き、室温で48時間にわたり強く攪拌した。反応に引き続いて、6.25N水酸化ナトリウムが、残留ボロン触媒をクエンチするために添加され、得られた混合物は回転蒸発器を用いて減圧下で濃縮された。得られた表面活性トリブロック共重合体(SABC)は、ペグ化された試料を分離するのを助けるために必要に応じて添加された水を含むメタノール中に沈殿した。SABCは、ろ過によって収集され、次に追加の残留表面活性側鎖アルコール前駆体を取り除くために、クロロフォルムから2度沈殿させた。最後に、最終的な試料は、残留溶媒を完全に取り除くために、減圧下の室温で48時間にわたり乾燥させた。
Briji 56側鎖で機能化されたPS8K−b−P(E/B)25K−b−PI10K(300MHz、CDCl、δ)に対するH NMRは:6.58、7.10(5H、スチレン)、3.65(br s、40H、−(OCHCH10−);3.43(t、2H、−(CHCHO)10CH(CH14−);0.82、1.06、1.24、1.82(31H、Briji 56側鎖のCH(CH14CH−、およびバックボーン)であった。赤外(ドライフィルム)νmax(cm−1)は:3480(O−H伸長);2930、2855(C−H伸長);1460、1380(C−H屈曲);1115(C−O伸長); 765、700(C−H屈曲、芳香性)であった。
Tergitol NP−9側鎖で機能化されたPS8K−b−P(E/B)25K−b−PI10K(300MHz、CDCl、δ)に対するH NMRは:6.56、6.84、7.10(5H、スチレン;4H、Tergitol NP−9側鎖)、4.10(t、2H、−COCHCHO−);3.85(t、2H、−COCHCHO−);3.66(br m、、−COCHCH(OCHCH−);0.84、1.06、1.24、1.75(19H、Tergitol NP−9側鎖のCH(CH−、およびバックボーン)であった。赤外(ドライフィルム)νmax(cm−1)は:3510(O−H伸長);2925、2860(C−H伸長);1460、1380(C−H屈曲);1120(C−O伸長); 770、700(C−H屈曲、芳香性)であった。
Silwet L−408側鎖で機能化されたPS8K−b−P(E/B)25K−b−PI10K(300MHz、CDCl、δ)に対するH NMRは:6.58、7.08(5H、スチレン)、3.65(br s、44H、−(OCHCH11−);3.43(t、2H、−CHCH(OCHCH11−);0.83、1.06、1.25、1.81(バックボーン)、0.43(m、2H、[(CHSiO]CHSiCH(CH−);0.08(br s、18H、[(CHSiO]CHSiCH(CH−);0.00(s、3H、[(CHSiO]CHSiCH(CH−)であった。赤外(ドライフィルム)νmax(cm−1)は:3480(O−H伸長);2925、2855(C−H伸長);1460、1360(C−H屈曲);1110(C−O伸長); 765、700(C−H屈曲、芳香性)であった。
XPS、および動的水接触角解析のための表面は、トルエン中のSABCの3%(w/v)溶液を2000rpmで60秒にわたってスピンコーティングをすることによって、シリコンウェハ上に調製された。研究のために調製された全ての表面は、減圧下で120℃において、少なくとも12時間にわたって真空オーブン中でアニールされ、引き続いて室温でゆっくり冷却された。
水接触角研究は、高いヒステリシス(表4−1)を示したが、それは表面再構成への表面傾向を示し、防汚および汚損防止特性を保証することを示す。
調製されたコーティングに対して、最低の着生はBriji 56非イオン性界面活性剤を混合した表面上で見られた。動的水接触角解析は、3つの非イオン性界面活性剤誘導SABC全ては、同様の前進および後退接触角を有し、これは一旦、海洋環境中に汚荒れると、再秩序化し、親水性となることが可能な、非極性環境中では疎水性表面を示している。アオサ胞子着生の量は、3つの試料全ての濡れ性パラメータが同様であるにも関わらず、SABCコーティングに混合された非イオン性界面活性剤のタイプに依存した。アオサ胞子の着生は、Briji 56誘導SABC上で最小であった。また、Briji 56非イオン性界面活性剤から誘導されたSABCは、PDMS制御よりアオサ芽胞体のより強い解離を示した。
スピンコーティングおよびスプレイコーティングの両方によって製造された試料の評価は、表面の機能性について大きなプロセス依存差異を示した。生物学的汚損分析では、緑藻アオサの胞子着生は、PDMS制御と比較して、2つの非イオン性界面活性剤誘導ポリマーから誘導されたSABCに対しては減少し、脂肪族部分を有するPEG基を混合した非イオン性界面活性剤は最良の特性(最小の着生)を示した。加えて、アオサ芽胞体を用いた汚損防止分析は、PEGおよび脂肪族含有非イオン性界面活性剤から誘導されたSABCはまた、汚損防止材料としてPDMSより性能が優れていることを示した。したがって、これらのポリマーは、海洋環境中で、抗生物汚損特性を与えるために用いることができる。本明細書に記載したように、これらの表面への応用は、海洋生物汚損に関する多くの現在の課題に取り組むために用いることが出来る。
(例5.防汚コーティング調製)
例3の材料は、海洋試験のためのパネルを準備するために用いられた。アルミニウムベースのパネルは、砂を吹きかけられ、Amerlock(登録商標)400エポキシコーティングのプライマー層でコーティングされた。プライマーの(24時間より短い)オープンタイム内で、パネルはシクロヘキサンの10%溶液から、G1701(Kraton Polymersからマレイン化SABC)の薄い層でロールコーティングされた。乾燥後、MD6945の5mm層が、滑らかな表面を作るために、ミラーフィニッシュクロムプレートを用いて、250℃でパネル上に圧縮成形された。
SABCは、溶剤としてトリフロロトルエン(TFT)を用いた、例3の様々な材料の3%溶液を噴射(スプレイ)することによって、表面に付与された。表面は、乾燥することが許容され、結果として得られたパネルは、約6週間にわたり塩水に晒された。パネルの評価は、ソフトな基礎層および本明細書中で記載された両親媒性SABCを混合した二重層は、ハードな基礎層を混合した対応する二重層より非常に良い防汚特性を与えることを示した。よって、改善された防汚特性が、ソフトな基礎層、たとえば約5MPaより小さい、または4Mpaより小さいヤング率を有する、たとえばMD6945のようなサーモプラスチックエラストマーを有する防汚コーティングを調製することによって得ることができる。
データは、改善された防汚二重層コーティングは、二重層中にソフトな基礎層を用いることによって与えられることを示した。胞子着生および芽胞体解離の両方は、コーティング中のペグ化側鎖に対するフッ素化側鎖の比に強く相関した。例1−4の全てのポリマーを評価したわけではないが、データはこれらの例で見出された傾向とよく相関する。胞子着生密度とトリブロックのフッ素およびペグ化側鎖含有量の間の傾向は、前進もしくは後退接触角またはそれらの間のヒステリシスのいずれかとは強く相関を示さなかった。40、20および0F試料上の芽胞体の付着の強度は、PDMSeスタンダード上より弱く、60および50F上の付着強度は、PDMSeスタンダード上の付着強度と同様であった。しかしながら、ソフトな基礎層の使用は、ハードな基礎層を混合した対応する二重層より、良好な防汚特性を示した。
個々には参照により組み込まれているが、すべての出版物、特許、および特許文書は参照により組み込まれる。本発明は、様々な特定のおよび好適な実施形態および技術を参照して記載されてきた。しかしながら、本発明の目的および範囲内にある限りは、多くの変更および変形が可能であることは理解されるべきである。

Claims (21)

  1. 少なくとも3つのブロック、ポリ(スチレン)を含む第1のブロック、ポリ(エチレン)およびポリ(ブチレン)のランダム配置を含む第2のブロック、ならびに機能化されたポリ(イソプレン)を含む第3のブロックを含むポリマーであって、
    前記機能化されたポリ(イソプレン)ブロックの繰り返し単位は、水酸基およびR、R、R、R、R、Rまたはこれらの組み合わせを含む1つ以上のエーテル結合側鎖を含み、
    は、−(OCHCHOCHであって、各nは独立に8〜16であり、
    は、−O(CH(CFFであって、各xおよびyは独立に2〜12であり、
    は、−(OCHCH(CFCFFであって、各qは独立に1から約25であり、各rは独立に0から約18であるものであり、
    は、−(OCHOCHOC(CHCHであって、各nが独立に6〜16であり、
    は、−(OCHOCH(CHCHであって、各nが独立に8〜16であり、
    は、−(OCHOCH(CHSi(CH)(OSi(CHであって、各nが独立に8〜16である、ポリマー。
  2. 前記ポリ(スチレン)ブロックは約4,000から約12,000の分子量を有し、前記ポリ(エチレン)ランダムポリ(ブチレン)ブロックは約15,000から約50,000の分子量を有し、および前記機能化されたポリ(イソプレン)ブロックは、約5,000から約25,000の分子量のポリ(イソプレン)ブロックから誘導される、請求項1のポリマー。
  3. 前記1つ以上のエーテル結合側鎖は、少なくともRおよびRを有し、および前記機能化ポリ(イソプレン)ブロックの前記繰り返し単位の少なくとも5%はR側鎖を有し、前記機能化ポリ(イソプレン)ブロックの前記繰り返し単位の少なくとも3%はR側鎖を有する、請求項1のポリマー。
  4. 前記1つ以上のエーテル結合側鎖は少なくともRを有し、Rのnは約12である、請求項1のポリマー。
  5. 前記1つ以上のエーテル結合側鎖は少なくともRを有し、Rの各xおよび各yは独立に約2、4、6、8、または10である、請求項1のポリマー。
  6. 前記1つ以上のエーテル結合側鎖は少なくともRを有し、Rの各qおよび各rは約3から約15である、請求項1のポリマー。
  7. 1つ以上のエーテル結合側鎖は少なくともR、R、Rを有し、Rの各nは約7から約10、Rの各nは約10から約15、およびRの各nは約10である、請求項1のポリマー。
  8. 前記機能化されたポリ(イソプレン)ブロックの前記繰り返し単位の約5%から約40%はR側鎖を有する、請求項1のポリマー。
  9. 前記機能化されたポリ(イソプレン)ブロックの繰り返し単位の約3%から約60%はR側鎖を有する、請求項1のポリマー。
  10. 前記請求項1のポリマーを含む表面層およびサーモプラスチックエラストメリックポリマーを含む基礎層、ならびにオプションとして接着層、プライマー層、またはその両方の1つ以上を含む防汚コーティング。
  11. 前記コーティングは、海洋環境中で、海洋藻、藻の胞子または芽胞体、細菌細胞、珪藻、原生動物、およびフジツボの1つ以上に対して防汚性能を示す、請求項10の防汚コーティング。
  12. 前記1つ以上のエーテル結合側鎖は少なくともRおよびRを有し、機能化されたポリ(イソプレン)ブロックはR側鎖より高いパーセンテージのR側鎖を有し、および前記コーティングは、海洋環境中で前記コーティングからアオサ胞子の解離を促進する、請求項10の防汚コーティング。
  13. 前記1つ以上のエーテル結合側鎖は少なくともRおよびRを有し、および前記機能化されたポリ(イソプレン)ブロックは、約8,000から約22,000の分子量のポリ(イソプレン)ブロックから誘導され、および前記機能化されたポリ(イソプレン)ブロックはR側鎖より高いパーセンテージのR側鎖を有し、ならびに前記コーティングは、ポリ(ジメチルシロキサン)コーティングより広くアオサ胞子の着生を阻止する、請求項10の防汚コーティング。
  14. 前記1つ以上のエーテル結合側鎖は少なくともRおよびRを有し、および前記機能化されたポリ(イソプレン)ブロックはR側鎖より高いパーセンテージのR側鎖を有し、前記コーティングは、海洋環境中で前記コーティングからナビクラ珪藻の脱離を促進する、請求項10の防汚コーティング。
  15. 前記コーティングは、海洋環境中で、ポリ(スチレン−エチレン−ブチレン−スチレン)ポリマー表面またはポリ(ジメチルシロキサン)表面より少ないフジツボキプリス幼生の着生をもたらす、請求項10の防汚コーティング。
  16. 式I:
    を含むポリマーであって、
    は約50から約120であり;
    nおよびnは、ブロックmが約15,000から約50,000の分子量を有するように選択され;
    は約75から約375であり;
    rは、ブロックm内の個々のnおよびn単位の配列がランダムであることを示し;
    は、個々のn単位およびm単位の配列は、エチル側基は前記n単位の炭素上に存在しても良く、Rは前記m単位の内部炭素のいずれかの上に存在しても良いように可逆的であることを示し;
    各独立な部分単位はm中で、RはRの一つは−OHであり、他のものはR、R、R、R、R、R、H、またはOHであり、
    は、−(OCHCHOCHであって、各nは独立に8〜16であり、
    は、−O(CH(CFFであって、各xおよびyは独立に2〜12であり、
    は、−(OCHCH(CFCFFであって、各qは独立に1から約25であり、各rは独立に0から約18であり、
    は、−(OCHOCHOC(CHCHであって、各nが独立に6〜16であり、
    は、−(OCHOCH(CHCHであって、各nが独立に8〜16であり、
    は、−(OCHOCH(CHSi(CH)(OSi(CHであって、各nが独立に8〜16であり、RおよびR基の、合わせて、少なくとも1%は、R、R、R、R、R、R、またはそれらの組み合わせである、ポリマー。
  17. 少なくとも3つのブロック、ポリ(スチレン)を含む第1のブロック、ポリ(エチレン)およびポリ(ブチレン)のランダム配置を含む第2のブロック、ならびに機能化されたポリ(イソプレン)を含むポリマーであって、
    前記機能化されたポリ(イソプレン)ブロックの繰り返し単位は、水酸基およびエーテル結合側鎖RおよびRを含み、
    は、−(OCHCHOCHであって、各nは独立に8〜16であるものであり、Rは、−O(CH(CFFであって、各xおよびyは独立に2〜12であり、
    前記機能化されたポリ(イソプレン)ブロックの前記繰り返し単位の少なくとも5%はR側鎖を有し、前記機能化されたポリ(イソプレン)ブロックの前記繰り返し単位の少なくとも3%はR側鎖を有するポリマー。
  18. 式II:
    を含むポリマーであって、
    が約50から約120であり、
    nおよびnは、ブロックmが約20,000から約30,000の分子量を有するように選択され、
    は約75から約375であり、
    rは、ブロックm内の個々のnおよびn単位の配列がランダムであることを示し、
    は、個々のn単位およびm単位の配列は、エチル側基は前記n単位の炭素上に存在しても良く、Rは前記m単位の内部炭素のいずれかの上に存在しても良いように可逆的であることを示し、
    各独立な部分単位はm中で、RとRのうち一つは−OHであり、他のものはR、R、H、またはOHであり、
    は、−(OCHCHOCHであって、各nは独立に8〜16であり、Rは、−O(CH(CFFであって、xおよびyは各々独立に2〜12であり、
    少なくとも5パーセントのm単位はR側鎖を有し、少なくとも3パーセントのm単位はR側鎖を有するポリマー。
  19. 少なくとも3つのブロック、ポリ(スチレン)を含む第1のブロック、ポリ(エチレン)およびポリ(ブチレン)のランダム配置を含む第2のブロック、ならびに機能化されたポリ(イソプレン)を含む第3のブロックを含むポリマーであって、
    前記機能化されたポリ(イソプレン)ブロックの繰り返し単位は、水酸基およびエーテル結合側鎖Rを含み、
    は、−(OCHCH(CFCFFであって、各qは独立に1から約25であり、各rは独立に1から約18であり、
    前記少なくとも約3パーセントの機能化されたポリ(イソプレン)ブロックの繰り返し単位はR側鎖を有するポリマー。
  20. 式III:
    を含むポリマーであって、
    が約50から約120であり、
    nおよびnは、ブロックmが約20,000から約30,000の分子量を有するように選択され
    は約75から約375であり、
    rは、ブロックm内の個々のnおよびn単位の配列がランダムであることを示し、
    は、個々のn単位およびm単位の配列は、エチル側基はn単位の炭素上に存在しても良く、Rはm単位の内部炭素のいずれかの上に存在しても良いように可逆的であることを示し、
    各独立な部分単位m中で、RおよびRのうち一つは−OHであり、他のものはR、H、またはOHであり、
    は、−(OCHCH(CFCFFであって、各qは独立に1から約25であり、各rは独立に1から約18であり、mの少なくとも約3%はR側鎖を有するユニットであるポリマー。
  21. 前記請求項19または16乃至20のいずれか1項のポリマーを含む表面層、および約5MPaより小さいヤング率を有するサーモプラスティックエラストメリックポリマーを含む基礎層を含む防汚コーティング。
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