JP2011510512A5 - - Google Patents

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  1. 反射層と、
    前記反射層上のオーミック接触層と、
    前記オーミック接触層上の第2半導体層と、
    前記第2半導体層上の活性層と、
    前記活性層上の第1半導体層と、
    を備え、
    前記反射層と前記活性層の発光部分の間の距離をdとしたときに、d=(2m+1)/4×(λ/n)±αであり、ここでmは0以上の整数、λは前記活性層によって放出される光の波長、nは前記活性層と前記反射層の間に位置する前記第2半導体層とオーミック接触層を含む媒質の平均屈折率、αは前記反射層の種類に応じた変動幅を示し、α<(1/8)×(λ/n)である発光素子。
  2. 前記第1半導体層上に光結晶構造を含む請求項1に記載された発光素子。
  3. 前記光結晶構造の深さは(λ/n)以上である請求項2に記載された発光素子。
  4. 前記光結晶構造は、ホールの深さまたは柱構造の高さが300nm〜3,000nmの範囲内であり、前記光結晶の平均周期は0.7μm〜5μmの範囲内である請求項2または3に記載された発光素子。
  5. 前記オーミック接触層は酸化物伝導層を含む請求項1乃至4のいずれかに記載された発光素子。
  6. 前記オーミック接触層は単一酸化物伝導層、または酸化物伝導層内に誘電体パターンを含む請求項5に記載された発光素子。
  7. 前記第2半導体層はp型半導体層であり、前記第1半導体層はn型半導体層である、請求項1乃至6のいずれかに記載された発光素子。
  8. 前記反射層はAg、Pt、Al中の1つ以上を含む請求項1乃至7のいずれかに記載された発光素子。
  9. 前記活性層の厚さは(1/2)×(λ/n)未満である請求項1乃至8のいずれかに記載された発光素子。
  10. 前記発光部分は前記活性層の中心である、請求項1乃至9のいずれかに記載された発光素子。
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