JP2011508960A - リソグラフィ装置及び方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】フレキシブル基板の表面のトポグラフィを示す情報を得る方法であって、フレキシブル基板の表面に放射ビームを誘導するステップと、放射ビームが基板の表面に反射した後の放射ビームの強度分布の変化を検出してフレキシブル基板の表面のトポグラフィを示す情報を得るステップとを含む方法。
【選択図】図3
Description
[0001] 本願は、参照によりその全体を本明細書に組み込むものとする、2007年11月8日出願の米国仮特許出願第60/996,279号の利益を主張する。
Claims (31)
- フレキシブル基板の表面のトポグラフィを示す情報を得る方法であって、
前記フレキシブル基板の前記表面へ放射ビームを誘導するステップと、
前記放射ビームが前記基板の前記表面から反射した後の前記放射ビームの強度分布又は反射角の変化を検出して前記フレキシブル基板の前記表面の前記トポグラフィを示す情報を得るステップとを含む方法。 - 前記放射ビームが、前記フレキシブル基板の臨界角以上の角度で前記フレキシブル基板の前記表面へ誘導される、請求項1に記載の方法。
- 前記放射ビームが、前記基板表面への垂線に対して約80度〜約45度の範囲内の角度で前記フレキシブル基板の前記表面へ誘導される、請求項1に記載の方法。
- 前記放射ビームが、約1マイクロメートル〜100マイクロメートルの範囲内の直径を有する、請求項1に記載の方法。
- 前記放射ビームが、約1マイクロメートル〜約10マイクロメートルの範囲内の直径を有する、請求項1に記載の方法。
- 第1の直径を有する放射ビームを用いて前記方法を実施するステップと、前記第1の直径よりも小さい第2の直径を有する放射ビームを用いて前記方法を実施するステップとを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記放射ビームと前記基板とを相対的に移動させるステップを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記基板へ複数の放射ビームを誘導するステップを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記フレキシブル基板の前記表面へ放射ビームを誘導する前記ステップと、前記放射ビームが前記基板の前記表面から反射した後の前記放射ビームの強度分布又は反射角の変化を検出して前記フレキシブル基板の前記表面の前記トポグラフィを示す情報を得るステップとがレベルセンサを用いて実施される、請求項1に記載の方法。
- 前記方法が、リソグラフィ装置内で実施される、請求項1に記載の方法。
- 前記方法が、リソグラフィ装置外で実施される、請求項1に記載の方法。
- フレキシブル基板のトポグラフィを示す情報を得るように配置された装置であって、
前記フレキシブル基板の表面の方向に放射ビームを提供するように配置された電磁放射源と、
前記放射ビームが前記基板の前記表面から反射した後の前記放射ビームの少なくとも一部の強度分布又は反射角を少なくとも示す情報を得るように配置された電磁放射検出器と、
を備える装置。 - 前記放射ビームが、前記フレキシブル基板の前記臨界角以上の角度で前記フレキシブル基板の前記表面へ誘導されるように配置された、請求項12に記載の装置。
- 前記放射ビームが、前記基板表面への垂線に対して約80度〜約45度の範囲内の角度で前記フレキシブル基板の前記表面へ誘導されるように配置された、請求項12に記載の装置。
- 前記放射ビームが、約1マイクロメートル〜100マイクロメートルの範囲内の直径を有する、請求項12に記載の装置。
- 前記放射ビームが、約1マイクロメートル〜約10マイクロメートルの範囲内の直径を有する、請求項12に記載の装置。
- 前記放射ビームが、前記基板に対して移動可能である、請求項12に記載の装置。
- 前記基板が、前記放射ビームに対して移動可能である、請求項12に記載の装置。
- 前記放射源は、放射ビームを提供するように配置され、各放射ビームは前記基板表面へ誘導されるように配置されている、請求項12に記載の装置。
- 複数の放射ビームを提供するように配置された複数の放射源を備え、各放射ビームは前記基板表面へ誘導されるように配置されている、請求項12に記載の装置。
- 基板にパターンを塗布する方法であって、
前記基板のトポグラフィを示す情報を用いて複数の格子区画を画定するステップであって、各格子区画が前記パターンを塗布する前記基板の区域に関連付けられ、各格子区画が、
その格子区画の焦点深度と、その格子区画の焦点深度が包含する格子区画に関連付けられた前記基板の区域のトポグラフィのピーク・バレー変動とを定義するための露光条件のセット、又は
前記パターンを塗布する前記基板の前記区域が所与の焦点深度内に収まるように前記基板の位置もしくは向きを制御するための基板の位置又は向き
を各々に関連付けたステップと、
前記格子区画によって定義された前記露光条件、又は基板の位置もしくは向きに従って前記基板にパターンを塗布するステップと、
を含む方法。 - 前記格子区画が、複数の格子区画セットを形成する、請求項21に記載の方法。
- 前記複数の格子区画セットのうち各々の異なる格子区画セットが、異なる露光条件のセット、又は基板の位置もしくは向きに関連付けられた、請求項22に記載の方法。
- 前記格子区画セットにしたがって前記基板に前記パターンを塗布するステップを含む、請求項23に記載の方法。
- ある格子区画セットの格子区画に関連付けられた基板区域が、別の格子区画セットの格子区画に関連付けられた基板区域よりも先にパターニングされる、請求項24に記載の方法。
- 前記格子区画が、正方形又は矩形の形状である、請求項24に記載の方法。
- 前記基板が、フレキシブル基板である、請求項21に記載の方法。
- 前記基板が、剛性基板である、請求項21に記載の方法。
- 前記基板の前記表面の前記トポグラフィを示す前記情報を入手してから前記情報を使用するステップを含む、請求項21に記載の方法。
- 前記基板の前記表面の前記トポグラフィを示す情報を入手する前記ステップが、
前記フレキシブル基板の前記表面へ放射ビームを誘導するステップと、
前記放射ビームが前記基板の前記表面から反射した後の前記放射ビームの強度分布又は反射角の変化を検出して前記フレキシブル基板の前記表面の前記トポグラフィを示す情報を得るステップと、
を含む、請求項29に記載の方法。 - リソグラフィ装置内で又はリソグラフィ装置と一緒に使用するコントローラであって、前記コントローラが前記基板の前記トポグラフィを示す情報を用いて画定された複数の格子区画を考慮に入れるように配置され、各格子区画が前記パターンを塗布する前記基板の区域に関連付けられ、各格子区画が、
その格子区画の焦点深度と、その格子区画の前記焦点深度が包含する格子区画に関連付けられた前記基板の前記区域の前記トポグラフィのピーク・バレー変動とを定義するための露光条件のセット、又は
前記パターンを塗布する前記基板の前記区域が所与の焦点深度内に収まるように前記基板の位置又は向きを制御するための基板の位置又は向き
に関連付けられ、
前記格子区画によって定義された前記露光条件、又は基板の位置もしくは向きに従って前記基板にパターンを塗布するために前記装置を制御するように配置されたコントローラ。
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