JP2011505024A - アンチモン酸亜鉛ナノ粒子を組み込むゾルゲルオーバーコート - Google Patents
アンチモン酸亜鉛ナノ粒子を組み込むゾルゲルオーバーコート Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011505024A JP2011505024A JP2010535958A JP2010535958A JP2011505024A JP 2011505024 A JP2011505024 A JP 2011505024A JP 2010535958 A JP2010535958 A JP 2010535958A JP 2010535958 A JP2010535958 A JP 2010535958A JP 2011505024 A JP2011505024 A JP 2011505024A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- carbon atoms
- acid scavenger
- electrophotographic
- groups
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- SOLUNJPVPZJLOM-UHFFFAOYSA-N trizinc;distiborate Chemical compound [Zn+2].[Zn+2].[Zn+2].[O-][Sb]([O-])([O-])=O.[O-][Sb]([O-])([O-])=O SOLUNJPVPZJLOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 19
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 title 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 24
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 19
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 claims abstract description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 30
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 16
- -1 polydimethylsiloxane Polymers 0.000 claims description 14
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 239000007784 solid electrolyte Substances 0.000 claims description 13
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 10
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims description 10
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 claims description 8
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 8
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 8
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000004356 hydroxy functional group Chemical group O* 0.000 claims description 7
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 6
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 6
- 125000001261 isocyanato group Chemical group *N=C=O 0.000 claims description 6
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 5
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000005157 alkyl carboxy group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000002837 carbocyclic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 3
- 125000005039 triarylmethyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 claims 2
- 125000001475 halogen functional group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 claims 2
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 claims 2
- 125000004653 anthracenylene group Chemical group 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims 1
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 abstract description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 abstract description 3
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 14
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 11
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 11
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 5
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000004982 aromatic amines Chemical group 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 4
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 3
- 125000002490 anilino group Chemical group [H]N(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 3
- 239000010416 ion conductor Substances 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- ODEHKVYXWLXRRR-UHFFFAOYSA-N hex-3-yn-1-ol Chemical compound CCC#CCCO ODEHKVYXWLXRRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 2
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 2
- HSZCZNFXUDYRKD-UHFFFAOYSA-M lithium iodide Chemical compound [Li+].[I-] HSZCZNFXUDYRKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N sodium oxide Chemical compound [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001948 sodium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- JSCUZAYKVZXKQE-JXMROGBWSA-N (2e)-1-bromo-3,7-dimethylocta-2,6-diene Chemical compound CC(C)=CCC\C(C)=C\CBr JSCUZAYKVZXKQE-JXMROGBWSA-N 0.000 description 1
- WLAUCMCTKPXDIY-JXMROGBWSA-N (2e)-1-chloro-3,7-dimethylocta-2,6-diene Chemical compound CC(C)=CCC\C(C)=C\CCl WLAUCMCTKPXDIY-JXMROGBWSA-N 0.000 description 1
- AFMZGMJNKXOLEM-JXMROGBWSA-N (2e)-3,7-dimethylocta-2,6-dien-1-amine Chemical compound CC(C)=CCC\C(C)=C\CN AFMZGMJNKXOLEM-JXMROGBWSA-N 0.000 description 1
- LHENQXAPVKABON-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-1-ol Chemical compound CCC(O)OC LHENQXAPVKABON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXXJCTNAJZKLJJ-UHFFFAOYSA-N 2-(oxiran-2-ylmethoxyperoxymethyl)oxirane Chemical group C1OC1COOOCC1CO1 MXXJCTNAJZKLJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LELOWRISYMNNSU-UHFFFAOYSA-N Hydrocyanic acid Natural products N#C LELOWRISYMNNSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 102000003743 Relaxin Human genes 0.000 description 1
- 108090000103 Relaxin Proteins 0.000 description 1
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910001854 alkali hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001343 alkyl silanes Chemical class 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical group 0.000 description 1
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000006184 cosolvent Substances 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001351 cycling effect Effects 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000005421 electrostatic potential Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical group 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical group 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- BTDWSZJDLLLTMI-UHFFFAOYSA-N hex-2-yn-1-ol Natural products CCCC#CCO BTDWSZJDLLLTMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910003480 inorganic solid Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002627 poly(phosphazenes) Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000006120 scratch resistant coating Substances 0.000 description 1
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical class [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
- 230000003381 solubilizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002221 trityl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C([*])(C1=C(C(=C(C(=C1[H])[H])[H])[H])[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
- G03G5/147—Cover layers
- G03G5/14704—Cover layers comprising inorganic material
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
- G03G5/147—Cover layers
- G03G5/14708—Cover layers comprising organic material
- G03G5/14713—Macromolecular material
- G03G5/14747—Macromolecular material obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- G03G5/14773—Polycondensates comprising silicon atoms in the main chain
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
- G03G5/147—Cover layers
- G03G5/14708—Cover layers comprising organic material
- G03G5/14713—Macromolecular material
- G03G5/14786—Macromolecular compounds characterised by specific side-chain substituents or end groups
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
本発明は、導電性層、導電性層を覆う電荷発生層、および導電性層を覆う電荷輸送層を備える電子写真要素に関する。電荷発生層を覆うオーバーコートであってもよい電荷輸送層は、シルセスキオキサンポリマーおよびアミンフリーの表面処理アンチモン酸亜鉛および酸スカベンジャーを含有する混合物の水性媒体における反応生成物を含む。
Description
本発明は、電子写真、より詳細には、アミンフリーの表面処理アンチモン酸亜鉛を含むシルセスキオキサンオーバーコートを有する感光体に関する。
電荷輸送要素は、支持体および電荷が横断する電荷輸送層を有する。電荷輸送要素は、帯電防止要素および電荷発生要素を含む。帯電防止要素は、電荷を輸送して帯電防止要素の表面に電荷が蓄積することを防ぐ帯電防止層を有する。
電荷発生要素では、入射光が、多層デバイスのいくつかの層を横切る電荷分離を引き起こす。電子写真電荷発生要素(本明細書中、電子写真要素ともいう。)では、電荷発生層内に生成される電子−正孔対が分離し、反対方向に移動して導電性層と電子写真生成要素の対向面との間に電荷を生成する。電荷は静電ポテンシャルのパターン(更に静電潜像ともいう。)を形成する。静電潜像は、様々な手段によって、例えば予め表面に形成された均一ポテンシャルの画像状放射線誘導放電によって、生じられうる。典型的には、次にこの静電潜像を電子写真デベロッパと接触させることによって静電潜像をトナーイメージに現像し、次にトナーイメージをレシーバと融着させる。所望により、潜像を現像前に別の表面に転写しても、トナーイメージを融着前に転写してもよい。
電荷を生じ、分離させるプロセスの要求は、電荷を生じ、正孔および/または電子を輸送する層の特性に厳しい制限を課す。例えば、多くのそのような層は非常に柔軟であり、磨耗を受ける。ますます多くのデジタルプリンタが高い解像度、例えば1200〜2400(ドット・パー・インチ)dpi、でデザインされるようになっている。
このことは、非常に小さなドットに分解できる光導電体を要求する。例えば、米国特許第7,289,751号は、ドットを直径10〜25ミクロンに分解できる電荷発生要素を開示している。開示されている電荷発生要素の厚さは4〜8ミクロンである。このことは、電荷発生要素のデザインに厳しい制約を課す。いくつかの構成は、耐摩耗性オーバーコート層をこの要素の他の層の上に提供しないと理に適う耐用期間を提供できない。電荷がオーバーコートを通り抜けられなければならないので、このことは独自の問題を提起する。
オーバーコートの抵抗率は、電子写真システムにおいて非常な重要性を有する。オーバーコートが高い抵抗率を有する場合、電圧減衰に対する時間定数は電子写真要素の処理時間に対して長すぎ、オーバーコートは下にある感光体の光放電後に残留電位を保持する。残留電位の大きさは、初期電位、いくつかの層の誘電定数およびそれぞれの層の厚さに依存する。ある解決方法は、オーバーコート層の厚さを減らすことである。別の解決方法は、導電性のオーバーコートを提供することである。しかしながら、オーバーコートは導電性すぎてはならない。電子写真要素は、過度に放電せず、電子写真要素の表面に沿う電荷の過度の移動をさせないように、暗所では十分電気絶縁でなければならない。過度の放電(「暗減衰」)は、静電潜像の形成および現像を妨げる。過度の移動は、静電イメージおよび次の現像イメージの解像度の減少を引き起こす。この解像度の減少を「横方向の画像の広がり(lateral image spread)」という。イメージの劣化の程度は、電子写真要素の処理時間並びに層の厚さおよび誘電定数に依存する。従って、あまり絶縁性でなく、あまり導電性でもないオーバーコートを提供することが望ましい。
オーバーコートの摩擦電気特性は、静電潜像の現像に使用される電子写真トナーの摩擦電気特性に合わなければならない。摩擦電気特性が合わないと、電子写真要素は、電子写真トナーに対して摩擦電気的に帯電する。このことは、静電潜像の電荷パターンの乱れを引き起こし、生じるトナーイメージの背景の乱れをもたらす。例えば、オーバーコートは、摩擦電気が特定の負に帯電するトナーに合うが、別の正に帯電するトナーには摩擦電気的に合わない。
シルセスキオキサンは、場合によっては次式(RSiO1.5)xで示される、一般的にトリアルコキシシランの加水分解および縮合によって製造されるシロキサンポリマーである。Clarkに与えられている米国特許第4,027,073号は、シルセスキオキサンの有機ポリマー上の耐摩耗性コーティングとしての使用を教示している。典型的な用途としては、アクリルレンズおよび透明グレージング材料上の耐引掻き性コーティングが挙げられる。この特許は、良好な耐引掻き性に好ましい厚さが2〜10マイクロメートルであることを教示している。Schankに与えられている米国特許第4,439,509号は、シルセスキオキサンコーティングを有する電子写真用の光導電要素を教示している。シルセスキオキサンオーバーコートの厚さは0.5〜2.0マイクロメートルである。この特許は、この厚さが電気特性、転写特性、クリーニング特性および耐引掻き性を最適化することを示している。この特許は、良好な耐引掻き性のために好ましいシルセスキオキサン層の厚さが2〜10マイクロメートルであることを教示している米国特許第4,027,073号と対照をなす。Shankに与えられている米国特許第4,923,775号は、メチルシルセスキオキサンが好ましいことを教示している。なぜなら、メチルシルセスキオキサンが他のアルキルシランと比較して最も硬質の材料を生成するからである。
Schankに与えられている米国特許第4,595,602号は、好ましい厚さが0.3〜5.0マイクロメートルの架橋「シロキサノール−コロイドシリカハイブリッド」の導電性オーバーコートを教示している。架橋シロキサノール−コロイドシリカハイブリッドをアルコキシシランの加水分解アンモニウム塩と反応させた。この特許は以下のことを記載している:
「アルコキシシランのアンモニウム塩のイオン性部分は、オーバーコート全体に均一に分布され、定位置に恒久的に固定され、それによって広い範囲の温度および湿度条件のもとでオーバーコートに十分で安定な電気伝導性を提供する。」(第6段、45〜51行目)
「アルコキシシランのアンモニウム塩のイオン性部分は、オーバーコート全体に均一に分布され、定位置に恒久的に固定され、それによって広い範囲の温度および湿度条件のもとでオーバーコートに十分で安定な電気伝導性を提供する。」(第6段、45〜51行目)
固体電解質(固体イオン性導体ともいう。)は、導電性が電子ではなくイオンの移動によって提供される固体材料である。いくつかの固体電解質は無機結晶である。他の固体電解質は、有機ポリマーと塩との錯体、例えばポリ(エチレンオキシド)とアルカリ金属塩との錯体である。“Electrolytes Dissolved in Polymers”,J.M.G.Cowrieら,Annu.Rev.Phys.Chem.,第40巻,(1989)85〜113頁は、様々な固体電解質を教示している。“Solid Ionic Conductors”,D.F.Shriverら,Chemical and Engineering News,第63巻,(1985)42〜57頁は、塩−ポリホスファゼン錯体を含む多数の固体電解質を教示している。“Polymer Electrolytes”,J.S.Tongeら,第5章,Polymers for Electronic Applications,J.H.Lai編,CRC Press,Boca Raton,Fla.,1989,157〜210頁の162頁は、可撓性が高い低Tgシロキサン主鎖を有する固体電解質を教示している。更に、“Fast Ion Conduction in Comb Shaped Polymers”,J.M.G.Cowrie,Integration of Fundamental Polymer Science and Technology,第2巻,Elsevior Publ.,ニューヨーク,(1988),54〜62頁は、シロキサン主鎖を有する固体電解質を教示している。ポリマーと無機固体イオン導体との表面導電率は、約1・108〜10(Ω/□)−1である。(表面導電率は、厚さによって除された導電率に等しく、(Ω/□)−1で示される。)。表面抵抗率は、厚さによって除された抵抗率に等しく、Ω/□で示される。例えば、厚さ5ミクロンの層に関して1・1014Ω−cmの抵抗率は、表面抵抗率2・1017に等しい。固体電解質は、再充電可能なリチウムバッテリー、電気化学センサー、および表示装置を含む用途に使用される。ポリマー固体電解質は、ほとんど機械的完全性がない柔軟な材料である傾向がある。
Ferrarらは、米国特許第5,874,018号において、オーバーコートされた電荷輸送要素およびガラス状固体電解質を記述している。電荷発生要素は、導電層、導電層を覆う電荷発生層、および導電層を覆うガラス状固体電解質の層を有する。このガラス状固体電解質は、シルセスキオキサンと電荷キャリアとの錯体を含む。この錯体の表面抵抗率は、約1・1010〜約1・1017Ω/□である。この錯体のT2シリコン:T3シリコン比は、1:1以下である。この錯体の炭素原子対ケイ素原子の比は、約1.2:1以上である。
これらの組成物は、イオンの伝導性を考慮すると環境依存性の傾向がある。
Ferrarらは、米国特許第6,517,984号において、正孔輸送用の第三級アリールアミンを含むシルセスキオキサン組成物を教示している。電子写真要素は、導電層、導電層を覆う電荷発生層、および導電層を覆う電荷輸送層を含む。電荷発生層を覆うオーバーコートであってもよい電荷輸送層は、シルセスキオキサンポリマーと、少なくとも1つのアルコール性または1つのフェノール性ヒドロキシ置換基を含む第三級アリールアミンを含有する正孔輸送化合物とを含有する混合物の水性媒体中の反応生成物を含む。
第三級アリールアミンにおける輸送は、高度に架橋されたマトリクス中で制限されても、非常に低レベルのトラップに敏感であってもよい。
背景技術に列挙した全ての特許および他の公開文献の開示を、参照することによって本明細書中に組み込む。
本発明の目的は、磨耗率が非常に低い電子写真要素を提供することである。
本発明の別の目的は、磨耗率が低く、スカミング傾向が低い電子写真要素を提供することである。
本発明の更に別の目的は、磨耗率が低く、スカミング傾向が低く、あらゆる環境条件のもとで安定な電子写真要素を提供することである。
本発明の更なる目的は、厚さが高解像度印刷、例えば1200〜2400dpi、に適合する電子写真要素を提供することである。
本発明は、導電層、導電層を覆う電荷発生層、および導電層を覆う電荷輸送層を備える電子写真要素に関する。電荷発生層を覆うオーバーコートであってもよい電荷輸送層は、シルセスキオキサンポリマーおよびアミンフリーの表面処理アンチモン酸亜鉛および酸スカベンジャーを含有する混合物の水性媒体中の反応生成物を含む。
本発明を別の利点および性能と共によりよく理解するために、上記図面との関連で下記説明および添付の特許請求の範囲に言及する。
本発明は、シルセスキオキサンと混和性のアミンフリーの表面処理アンチモン酸亜鉛試薬を組み込む新規耐摩耗層に関する。この新規の層は、更に、導電性が電子性でありイオン性でないために湿気に強いという利点も有する。従って、先行技術のイオン伝導性シルセスキオキサン層とは異なり、新規の層は、高い湿度において横方向の画像の広がりに起因するイメージの劣化に遭わない。好ましくは厚さが約0.5〜10ミクロン、より好ましくは約1〜3ミクロン、であるこのオーバーコートは、様々な水性溶媒から被覆されうる。高解像度、例えば1200〜2400dpiが望ましい用途において、オーバーコートの厚さは、電荷発生要素の総厚が3〜12ミクロン、好ましくは4〜8ミクロンになるように最小化される。
本発明において用いられるシルセスキオキサンポリマーは、下記構造:
〔式中、Rは、炭素原子を1〜約4個含むアルキル基であり、R1は、炭素原子を1〜約12個含む脂肪族、脂環式または芳香族基である。〕
を有する少なくとも1種類のアルキルトリアルコキシシランの加水分解および縮合の生成物である。R1によって示される基は、置換基または接続部分、例えばエーテル、アミド、エステル、アリーレンなどを含みうる。しかしながら、好ましくは、R1は、炭素原子を1〜約12個有するアルキルまたはフルオロアルキル、炭素原子を5〜約12個含むシクロアルキル、および炭素原子を6〜約12個含むアリールからなる群から選択される。より好ましいR1基は、炭素原子を1〜約3個含むアルキル基であり、メチルが特に好ましい。
を有する少なくとも1種類のアルキルトリアルコキシシランの加水分解および縮合の生成物である。R1によって示される基は、置換基または接続部分、例えばエーテル、アミド、エステル、アリーレンなどを含みうる。しかしながら、好ましくは、R1は、炭素原子を1〜約12個有するアルキルまたはフルオロアルキル、炭素原子を5〜約12個含むシクロアルキル、および炭素原子を6〜約12個含むアリールからなる群から選択される。より好ましいR1基は、炭素原子を1〜約3個含むアルキル基であり、メチルが特に好ましい。
一般的にメチルトリメトキシシランの加水分解および縮合(スキーム1、R=−CH3)によって製造されるシルセスキオキサンは、様々な供給源から市販されている。例えば、Dow CorningからVESTAR Q9−6503として、General ElectricからSHC 1010(SHCは、シリコーンハードコートを表す。)として、つい最近ではOptical TechnologiesからULTRASHIELDとして、特に感光体用にデザインされるハードコートとして市販されている。
上記米国特許第5,731,117号および第5,693,442号に開示されているように、プロピルトリメトキシシランを導入してゾル−ゲルの特性をより有機性にし、グリシドキシエーテル置換シランを使用して導電性のためにヨウ化リチウムと錯形成させた。シルセスキオキサンは、コロナ放電により耐性がある感光体オーバーコートを生じる。上記耐性は、恐らく有機含量の増加に起因するゾル−ゲルの疎水性特性の増加の結果である。
本発明では、シルセスキオキサンでオーバーコートされた感光体を、アミンフリーの表面処理アンチモン酸亜鉛試薬の組み込みによって循環中の電荷蓄積に対して耐性にし、それによって高湿条件のもとでソリッド電解質シルセスキオキサンに関して観測された横方向の画像の広がりを防ぐ。コーティングする前にアミンフリーの表面処理アンチモン酸亜鉛試薬を約60重量パーセント以下の所望の量でゾル−ゲルのアルコール溶液に単純に添加する。
酸スカベンジャーは、反応してシルセスキオキサンポリマーマトリクスに共有結合を提供する官能基を有しうる。そのような官能基としては、これらに限定されるわけではないが、ヒドロキシ、オキシカルボニルアルキル(例えばアセトキシおよびプロピオノキシ)、イソシアナト、エポキシ、アミノ(第1級または第2級)およびシリコンエステル基であって、下に提供されるそれぞれの分子の教示を使用する当業者に明らかなように、酸スカベンジャー分子中の好適な位置に位置する官能基が挙げられる。当業者に既に明らかであるように、これらの反応性官能基を使用して酸スカベンジャーをシルセスキオキサンポリマーマトリクスの好適な部分と反応させてもよい。
拡散性を制限する別の方法は、既に当業者に明らかである。
本発明において酸スカベンジャーとして使用される化合物は、更に、性質が「塩基」でもあり、従って、一般的に水中で少なくとも4のpKaを有する。好ましくは、pKaは、約4〜約10、より好ましくは約4〜約8である。
酸スカベンジャー(または酸スカベンジャーの混合物)は、オーバーコート中に、少なくとも0.2重量%の量で、好ましくは約0.5〜約50重量%の量で、より好ましくは約1〜約30重量%の量で存在する。これらの重量百分率は、オーバーコートの総乾燥重量ベースである。
それぞれの酸スカベンジャーは、構造V:
〔式中、R1およびR2は、独立して、炭素原子を1〜12個有するアリール基以外の置換または非置換炭化水素基であり、Arは、置換または非置換炭素環式芳香族基である。〕
で記述される第三級アリールアミンである。好ましくは、Arは、以下により詳細に記述されているように、置換されている。
で記述される第三級アリールアミンである。好ましくは、Arは、以下により詳細に記述されているように、置換されている。
より特に、R1およびR2は、独立して、炭素原子を1〜12個有する置換もしくは非置換アルキル基(例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、t−ブチル、ヘキシル、ベンジル、ヒドロキシメチル、2−ヒドロキシエチル、2−アミノエチル、および2−メルカプトエチル)、1以上の環を有する環システム中に炭素原子を5〜6個有する置換もしくは非置換シクロアルキル基(例えばシクロペンチル、シクロヘキシル、4−ヒドロキシシクロヘキシルおよび4−アミノシクロヘキシル)、炭素原子を2〜10個有する置換もしくは非置換アルケニル基(例えばエテニル、1,2−プロペニル、ゲラニルアミン、塩化ゲラニルおよび臭化ゲラニル)、または炭素原子を2〜10個有する置換もしくは非置換アルキニル基(例えばエチニル、1,2−プロピニル、5−ヘキシンニトリルおよび3−ヘキシン−1−オール)である。R1およびR2もまた上で規定されるようなアルキル、アルケニル、アルキニルおよびシクロアルキル基の組み合わせを有する炭化水素基である。R1もR2も炭素環式アリール基ではない。
加えて、R1およびR2は、共に、構造VまたはVIのいずれかの窒素原子と共に3−〜10−員環を完成させるのに必要な炭素、酸素、窒素および硫黄原子を示していてもよい。そのような環は、飽和していても不飽和であってもよい。
好ましくは、R1およびR2は、独立して、それぞれ炭素原子を1〜4個有する置換または非置換アルキル基であり、より好ましくはそれらのそれぞれが炭素原子を1〜3個有する置換または非置換アルキル基である。最も好ましいアルキル基は、置換または非置換メチル、エチルおよびn−プロピル基である。R1およびR2の少なくとも一方が上記のように少なくとも1つのヒドロキシ、アルキルカルボキシ、イソシアナト、エポキシ、アミノまたはシリコンエステル官能基(より好ましくは、ヒドロキシ基)で置換されていることも好ましい。
上記構造Vおよび構造IVにおいて、Arは、本明細書中で規定されるような1つ以上の置換基を有していてもよい炭素環式アリール基である。好ましくは、Arは、下記により詳細に規定されるように1つの置換基のみを有する。一般的に、Arは、1つ以上の置換基を有していてもよいフェニル、ナフチルまたはアントリルである。Arは、更に上に規定されるような1つ以上の可溶化基も含みうるが、そのような官能基は、非芳香族炭化水素基(例えばR1およびR2に関して上で規定したように炭素原子を1〜4個有するアルキル基)または第二級もしくは第三級アミン(例えばそれぞれアルキル部分が1〜4個の炭素原子を有するモノ−またはジアルキルアミノ基)を通じてArに接続されていなければならない。好ましくは、Arに接続されるそのような官能基はヒドロキシ基である。より好ましいAr基は、置換または非置換フェニル基である。
構造VI中のR3基は、水素、ハロ(例えばクロロ、ブロモまたはフルオロ)、または分子量が少なくとも50であり、1つ以上の炭素環式アリール基、シクロアルキル基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、芳香族もしくは非芳香族複素環基、またはこれらの組み合わせを含んでいてもよい置換もしくは非置換有機基(例えばアルキルジアリール基、ジアルキルアリール基またはトリアルキル基で置換された炭素原子)であってもよい。特に有用なR3基としては、トリアリールメチル基(例えばトリフェニルメチル、トリトリルメチルおよびトリルジフェニルメチル)が挙げられる。R3基が上で規定したように1つ以上のヒドロキシ、アルキルカルボキシル、イソシアナト、エポキシ、アミノまたはシリコンエステル官能基を含むこともまた可能であり、好ましくはそのような基は、モノもしくはジアルキルアミノ基(Arに関して上に規定したようなもの。)を介して、または炭素原子を1〜12個有する炭化水素結合を介してR3(式中、例えば、R3は、トリアリールメチル基である。)に接続される。この関連でヒドロキシが最も好ましい官能基である。所望の目的を達成するために多岐にわたる有用なR3基が当業者によってデザインされうる。
本発明のアンチモン酸亜鉛組成物は、Nissan Chemicalsから商品名CELNAXTMのもとで得られる。
CELNAXTMは、良好な赤外線および紫外線吸収特性を有するコロイド状導電性アンチモン酸亜鉛溶液である。これは数種類の樹脂および安定剤と相溶性であり、優れた透明性を有する。
典型的には、CELNAXTM分散体は、脂肪族アミンを使用して安定化される。光導電性要素における脂肪族アミンの存在は問題がある。脂肪族アミンは、通常、酸化電位が低く、感光体中でトラップの役割を果たす傾向がある。そのことは、電気循環(electrical cycling)における高い初期および増加したトウ(toe)をもたらす。
この問題を克服するために、アミン安定剤を除去し、アンチモン酸亜鉛をアモルファスシリカで処理することが、非トラッピングの、よく分散したアンチモン酸亜鉛分散体を提供する役に立つことが分かった。
シランの加水分解および縮合は、酸性表面電荷か塩基性表面電荷のいずれかによって安定化されるシリカ粒子であるコロイドシリカによって触媒され、シルセスキオキサンコーティングの機械的特性に大きな影響を及ぼす。好ましくは、アルキルトリアルコキシシランの量に対してコロイドシリカ約20重量パーセント以下を混合物に添加する。より好ましくは、添加されるシリカの量は、シルセスキオキサンに対して約5〜約10重量パーセントである。少量の酸化ナトリウムで安定化された好ましいコロイドシリカはDuPontから入手可能なLUDOXTMLSである。揮発性の酢酸、メタノールおよびゾル−ゲルにおける別の溶媒を除去すると、シルセスキオキサンの形成用の縮合触媒の役割を果たす酸化ナトリウムが残る。シルセスキオキサンネットワークは、Si−O−Si結合を介して生じ、ヒドロキシ置換CTMは、縮合してSi−O−C結合を介するシロキサンネットワークの一部を形成することが見込まれている。別の塩基、例えばアルカリおよびアルカリ土類金属の水酸化物または酢酸塩もまたコロイドシリカの代わりの加水分解および縮合に適切な触媒である。しかしながら、有機感光体分子でドープされたポリマーネットワークを介する正孔輸送を妨げる塩基、例えばアミノシラン、はシルセスキオキサンネットワークを通じる正孔輸送を妨げることも見込まれており、従って、この発明の実施において好ましくない。
典型的な手順では、メチルトリメトキシシランを、酢酸で酸性化し、約2.5当量の水で加水分解する。次に、この溶液をエタノールかイソプロパノールのいずれかで希釈し、LUDOXTMLSコロイドシリカを添加し、有機共溶媒、例えばメチルイソブチルケトン(MIBK)40重量パーセント以下を添加してヒドロキシル置換酸スカベンジャーの溶解を助け、次にこれを所望のレベルで添加する。ヒドロキシル置換酸スカベンジャーは、シルセスキオキサンの製造に使用される溶媒に可溶であり、感光体を60重量パーセント以下の使用量(loading)で被覆すると透明フィルムを生じる。
下記実施例は、本発明を説明する:
配合物1:アンチモン酸亜鉛スクリーニング
様々なアンチモン酸亜鉛を調べるために、下記配合物を使用した:
ポリメチルメタクリレート: 34wt%
CELNAXTM導体 : 55wt%
架橋剤 : 11wt%
溶媒 : Dowanol PM
固形分 : 6%
ポリメチルメタクリレート: 34wt%
CELNAXTM導体 : 55wt%
架橋剤 : 11wt%
溶媒 : Dowanol PM
固形分 : 6%
特定のアンチモン酸亜鉛分散体を含むそれぞれの配合物を使用して“Condensation Polymer Photoconductive Elements”と題されたMolaireらの公開米国特許出願第2007/0042282号に記述されているように被覆されている感光体ドラムをオーバーコートした。次にQEA Inc.製のPDT−1000ドラム感光度計を使用して被覆ドラムを評価した。表I中の結果は、実施例1が比較例2および3よりも実質的に低い初期トウを提示することを示す。
配合物2:単純なゾルゲル配合物
1リットルのゾルゲル配合物を2リットル丸底フラスコ中で以下のように製造した:
氷酢酸(70.3グラム)をメチルトリメトキシシラン(305.6g、2.24mol)およびLUDOXTMLS(67グラム)に滴下し、反応混合物を一晩撹拌した。次に水(48グラム、2.67mol)の滴下によって酸性化シランを加水分解し、反応混合物を一晩撹拌した。次にこれをイソプロパノール(523グラム)およびメチルエチルケトン(252グラム)の滴下によって固形分約24.6重量パーセントに希釈した。0.4ミクロンガラスフィルターを通じる濾過の前にこの透明溶液を1週間撹拌し、4℃において貯蔵した。コーティング前にこの溶液を更にイソプロパノール1766グラムで固形分10.3%に希釈した。
配合物3:CELNAXTMCX−Z200DIP−F(C1)40%を含むゾルゲル配合物
配合物2 2700グラムにCELNAXTMCX−Z200DIP−F(C1) 506グラム、Nissan Chemicals製のアンチモン酸亜鉛イソプロパノール分散体22重量パーセント。アンチモン酸亜鉛をアモルファスシリカで表面処理した。この分散体を完全にアミンフリーにした。
配合物4:CELNAX CX−Z200DIP−F(C1)40%およびジオール第3級アミン酸スカベンジャーを含むゾルゲル配合物
配合物3に、9,9−ビス[N−エチル−N−(2−ヒドロキシエチル)アニリノ]フルオレン20グラムを撹拌しながら添加してゾルゲル固形分に対して10重量パーセントの酸スカベンジャーを生じた。
アンチモン酸亜鉛の効果
配合物2および4をそれぞれ使用してMolaireらの公開米国特許出願第2007/0042282号“Condensation Polymer Photoconductive Elements”に記述されているように被覆されている感光体ドラムをオーバーコートした。
配合物2および4をそれぞれ使用してMolaireらの公開米国特許出願第2007/0042282号“Condensation Polymer Photoconductive Elements”に記述されているように被覆されている感光体ドラムをオーバーコートした。
このオーバーコートされたドラムを、Blue Mオーブン中の120℃における硬化後に最初に評価した。最初の硬化の24時間後にこのドラムを更に130℃において硬化し、評価した。表IIは、裸ドラム(bare drum)に関する放電トウと、120℃および130℃それぞれにおける硬化後のオーバーコートされたドラムと、を比較している。オーバーコートを含むアンチモン酸亜鉛のトウは、約50%低い。
硬化温度の効果
実施例2および比較例3の裸ドラムをオーバーコート試験の数週間前に被覆した。硬化の効果を完全に特定するために、裸ドラムおよび90℃、100℃、110℃および120℃における一連の硬化を伴うオーバーコートドラムの比較硬化を含む別の試験を行った。上記のドラムを、それぞれの硬化サイクルの24時間後に評価した。
実施例2および比較例3の裸ドラムをオーバーコート試験の数週間前に被覆した。硬化の効果を完全に特定するために、裸ドラムおよび90℃、100℃、110℃および120℃における一連の硬化を伴うオーバーコートドラムの比較硬化を含む別の試験を行った。上記のドラムを、それぞれの硬化サイクルの24時間後に評価した。
酸スカベンジャー9,9−ビス[N−エチル−N−(2−ヒドロキシエチル)アニリノ]フルオレン縮合のゾルゲルクラッキングに対する効果
配合物4を、表IVに示されるように、それぞれ2.5、5、および10重量パーセントの酸スカベンジャー9,9−ビス[N−エチル−N−(2−ヒドロキシエチル)アニリノ]フルオリンで変性した。これらのオーバーコート層を120℃において硬化した後、オーバーコートの厚さに応じてクラッキングに関して試験した。表IVの結果は、スカベンジャーの濃度10重量パーセントで6ミクロンよりも薄い層に関して、クラッキングを示さない。スカベンジャー5重量パーセントでは、1.5ミクロンよりも厚いオーバーコート層でもクラッキングが見られ、そのクラックはスカベンジャー10重量パーセントよりも大きい。スカベンジャー2.5重量パーセントでは、クラックはより大きい。
配合物4を、表IVに示されるように、それぞれ2.5、5、および10重量パーセントの酸スカベンジャー9,9−ビス[N−エチル−N−(2−ヒドロキシエチル)アニリノ]フルオリンで変性した。これらのオーバーコート層を120℃において硬化した後、オーバーコートの厚さに応じてクラッキングに関して試験した。表IVの結果は、スカベンジャーの濃度10重量パーセントで6ミクロンよりも薄い層に関して、クラッキングを示さない。スカベンジャー5重量パーセントでは、1.5ミクロンよりも厚いオーバーコート層でもクラッキングが見られ、そのクラックはスカベンジャー10重量パーセントよりも大きい。スカベンジャー2.5重量パーセントでは、クラックはより大きい。
アルコール官能基を介する有機酸スカベンジャーの組み込みがゾルゲルマトリクスをより脆くなくし、残留冷却誘導ストレスに更に耐性にすることが要求されている。ゾルゲルマトリクスを軟化することができる有機材料を含む別のアルコールが同様に振る舞うことが想定される。
冷却速度の効果
有機感光体ドラムは、しばしば熱衝撃に敏感である。すなわち、層のガラス転移温度を超える熱サイクルを受ける場合に迅速に冷却される(クエンチ)と、この有機感光体ドラムの電子写真応答が悪影響を受ける。特に、放電トウが熱サイクル前よりも高くなる傾向がある。結局、冷却の速度に依存して、時間と共に平衡トウに到達する。
有機感光体ドラムは、しばしば熱衝撃に敏感である。すなわち、層のガラス転移温度を超える熱サイクルを受ける場合に迅速に冷却される(クエンチ)と、この有機感光体ドラムの電子写真応答が悪影響を受ける。特に、放電トウが熱サイクル前よりも高くなる傾向がある。結局、冷却の速度に依存して、時間と共に平衡トウに到達する。
表Vの比較例9および10は、裸のドラムとゾルゲルオーバーコートドラムそれぞれに関する事象を示している。上記2つのドラムを、図1の温度プロファイルに従って加熱し、冷却した。電子写真測定を処理の24時間後に行った。
この状況を改良するために、硬化試験を行い、サンプルを70℃において1時間アニールし、次に2時間にわたってゆっくりと室温に冷却する図2の冷却プロファイルが著しく改良された放電トウおよびより迅速な平衡回復をもたらすことがわかった(実施例11)。
実施例11のオーバーコート感光体を、Nexpress 2100タンデム・プロダクション・プリンタ(tandem production printer)のシアンモジュールに載置した。このプリンタは別の3つのモジュールに3つの対照非オーバーコートドラムを有していた。このプレスは、300Kプリントにわたってプリント品質に目に見える差がなく運転された。
Claims (16)
- 基材、電荷発生層、電荷輸送層、並びに、ポリジメチルシロキサン(PDMS)、シルセスキオキサンポリマー、アミンフリーの表面処理アンチモン酸亜鉛および非拡散性酸スカベンジャーを含有する混合物の水性媒体における反応生成物を含有するオーバーコート層を備える電子写真画像部材。
- 該アンチモン酸亜鉛がシリカで表面処理されている、請求項1に記載の電子写真画像部材。
- R1が、炭素原子を1〜約12個含むアルキル、炭素原子を1〜約12個含むフルオロアルキル、炭素原子を5〜約12個含むシクロアルキル、および炭素原子を6〜約12個含むアリールからなる群から選択される、請求項3に記載の電子写真要素。
- 該混合物が更にコロイドシリカを含有する、請求項1に記載の電子写真要素。
- 該電荷発生要素の総厚が3〜30ミクロンである、請求項1に記載の電子写真要素。
- 該電荷発生要素の総厚が5〜8ミクロンである、請求項1に記載の電子写真要素。
- 該非拡散性酸スカベンジャーのpKaが約4〜約10であり、該オーバーコート層中に約0.5〜約50重量パーセントの量で存在する、請求項1に記載の要素。
- 該非拡散性酸スカベンジャーが少なくとも1つのヒドロキシ基、約4〜約8のpKaを有し、該固体電解質層中に約1〜約30パーセントの量で存在する、請求項8に記載の要素。
- R1およびR2が、独立して、炭素原子を1〜12個有するアルキル基、炭素原子を2〜10個有するアルケニル基、炭素原子を2〜10個有するアルキニル基、もしくは炭素原子を5〜6個有するシクロアルキル基であるか、またはR1およびR2が全体として構造式VI中の窒素原子と共に3〜10員環を完成させるのに必要な炭素、酸素、窒素および硫黄原子であり、
Arが、フェニレン、ナフチレンまたはアントリレン基であり、
R3が、水素、ハロまたは分子量が少なくとも50であり、1つ以上の炭素環式アリール基、シクロアルキル基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、芳香族もしくは非芳香族複素環基、もしくはこれらの組み合わせを含む有機基である、請求項11に記載の要素。 - R1およびR2が、独立して、炭素原子を1〜12個有するアルキル基であり、R3が分子量が少なくとも50である有機基であり、R1、R2およびR3の少なくとも1つがヒドロキシ、アルキルカルボキシ、イソシアナト、エポキシアミノ、およびシリコンエステルからなる群から選択される官能基を含有する、請求項12に記載の要素。
- R1およびR2が、独立して、炭素原子を1〜4個有するアルキル基であり、それらの少なくとも一方が1以上のヒドロキシ、アルキルカルボキシ、イソシアナト、エポキシ、アミノまたはシリコンエステル基を含有し、Arがフェニレン基であり、R3が1以上のヒドロキシ、アルキルカルボキシ、イソシアナト、エポキシ、アミノまたはシリコンエステル基を含みうるトリアリールメチル基である、請求項12に記載の要素。
- 該非拡散性酸スカベンジャーが下記化合物I、IVまたはVの1つである、請求項15に記載の要素。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/945,612 US7943277B2 (en) | 2007-11-27 | 2007-11-27 | Sol gel overcoats incorporating zinc antimonate nanoparticles |
PCT/US2008/012904 WO2009070226A1 (en) | 2007-11-27 | 2008-11-19 | Sol gel overcoats incorporating zinc antimonate nanoparticles |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011505024A true JP2011505024A (ja) | 2011-02-17 |
Family
ID=40263291
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010535958A Pending JP2011505024A (ja) | 2007-11-27 | 2008-11-19 | アンチモン酸亜鉛ナノ粒子を組み込むゾルゲルオーバーコート |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7943277B2 (ja) |
EP (1) | EP2215528A1 (ja) |
JP (1) | JP2011505024A (ja) |
WO (1) | WO2009070226A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019031657A (ja) * | 2017-06-30 | 2019-02-28 | ザ・ボーイング・カンパニーThe Boeing Company | 感水性材料の接着性増強のための非水系ゾル−ゲル |
US11692113B2 (en) | 2017-06-30 | 2023-07-04 | The Boeing Company | Nonaqueous sol-gel for adhesion enhancement of water-sensitive materials |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10461269B2 (en) | 2013-12-20 | 2019-10-29 | Molecular Glasses, Inc. | Crosslinkable, /polymerizable and combinations thereof charge-transporting molecular glass mixtures, luminescent molecular glass mixtures, or combinations thereof for organic light emitting diodes and other organic electronics and photonics applications and method of making same |
US10593886B2 (en) | 2013-08-25 | 2020-03-17 | Molecular Glasses, Inc. | OLED devices with improved lifetime using non-crystallizable molecular glass mixture hosts |
EP3039487A4 (en) * | 2013-08-25 | 2017-05-31 | Molaire Consulting LLC | Molecular glass mixtures for organic electronics applications |
US10428020B2 (en) | 2017-06-16 | 2019-10-01 | The Boeing Company | Antimicrobial compounds and nanostructures |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4027073A (en) * | 1974-06-25 | 1977-05-31 | Dow Corning Corporation | Pigment-free coating compositions |
US4439509A (en) * | 1982-06-01 | 1984-03-27 | Xerox Corporation | Process for preparing overcoated electrophotographic imaging members |
US4595602A (en) * | 1984-09-04 | 1986-06-17 | Xerox Corporation | Process for preparing overcoated electrophotographic imaging members |
US4923775A (en) * | 1988-12-23 | 1990-05-08 | Xerox Corporation | Photoreceptor overcoated with a polysiloxane |
US5874018A (en) * | 1996-06-20 | 1999-02-23 | Eastman Kodak Company | Overcoated charge transporting elements and glassy solid electrolytes |
US5866287A (en) * | 1997-11-13 | 1999-02-02 | Eastman Kodak Company | Imaging element comprising and electrically-conductive layer containing metal antimonate and non-conductive metal-containing colloidal particles |
JP3080088B2 (ja) * | 1999-02-01 | 2000-08-21 | ミノルタ株式会社 | 電子写真感光体 |
US6187491B1 (en) * | 1999-02-08 | 2001-02-13 | Eastman Kodak Company | Electrophotographic charge generating element containing acid scavenger in overcoat |
US6517984B1 (en) | 2001-03-27 | 2003-02-11 | Heidelberger Druckmaschinen Ag | Silsesquioxane compositions containing tertiary arylamines for hole transport |
JP2005331567A (ja) * | 2004-05-18 | 2005-12-02 | Oki Data Corp | 画像形成装置 |
US20060199092A1 (en) * | 2005-03-03 | 2006-09-07 | Akihiro Sugino | Electrostatic latent image bearer, and image forming method, image forming apparatus and process cartridge using the electrostatic latent image bearer |
JP4555181B2 (ja) * | 2005-07-14 | 2010-09-29 | 株式会社リコー | 画像形成装置 |
US7390599B2 (en) * | 2005-10-11 | 2008-06-24 | Xerox Corporation | Silicon-containing overcoat layers |
-
2007
- 2007-11-27 US US11/945,612 patent/US7943277B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-11-19 WO PCT/US2008/012904 patent/WO2009070226A1/en active Application Filing
- 2008-11-19 EP EP08854799A patent/EP2215528A1/en not_active Withdrawn
- 2008-11-19 JP JP2010535958A patent/JP2011505024A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019031657A (ja) * | 2017-06-30 | 2019-02-28 | ザ・ボーイング・カンパニーThe Boeing Company | 感水性材料の接着性増強のための非水系ゾル−ゲル |
JP7285628B2 (ja) | 2017-06-30 | 2023-06-02 | ザ・ボーイング・カンパニー | 感水性材料の接着性増強のための非水系ゾル-ゲル |
US11692113B2 (en) | 2017-06-30 | 2023-07-04 | The Boeing Company | Nonaqueous sol-gel for adhesion enhancement of water-sensitive materials |
US11987725B2 (en) | 2017-06-30 | 2024-05-21 | The Boeing Company | Nonaqueous sol-gel for adhesion enhancement of water-sensitive materials |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7943277B2 (en) | 2011-05-17 |
US20090136859A1 (en) | 2009-05-28 |
WO2009070226A1 (en) | 2009-06-04 |
EP2215528A1 (en) | 2010-08-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4439509A (en) | Process for preparing overcoated electrophotographic imaging members | |
JP6896556B2 (ja) | 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 | |
EP2306247B1 (en) | Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and electrophotographic apparatus | |
CA2514508C (en) | Imaging member having inorganic material filler surface grafted with charge transport moiety | |
EP1632814B1 (en) | Inorganic material surface grafted with charge transport moiety | |
JP2020086308A (ja) | 電子写真感光体、電子写真装置、およびプロセスカートリッジ | |
US6187491B1 (en) | Electrophotographic charge generating element containing acid scavenger in overcoat | |
JP4959952B2 (ja) | 光導電性画像形成部材 | |
WO1995002853A1 (en) | Barrier layer for photoconductor elements | |
JP2011505024A (ja) | アンチモン酸亜鉛ナノ粒子を組み込むゾルゲルオーバーコート | |
US6517984B1 (en) | Silsesquioxane compositions containing tertiary arylamines for hole transport | |
JP2002318459A (ja) | 電子写真感光体、これを用いた電子写真プロセスカートリッジ及び電子写真装置 | |
JP7214559B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 | |
US5874018A (en) | Overcoated charge transporting elements and glassy solid electrolytes | |
JP2003316058A (ja) | 有機感光体の表面保護層形成用組成物及び有機感光体 | |
JP4042646B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、画像形成装置及び画像形成方法 | |
JP6824731B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 | |
JP6681229B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 | |
JP4487837B2 (ja) | 有機感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 | |
US20200133146A1 (en) | Electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and electrophotographic apparatus | |
JP2004020649A (ja) | 電子写真感光体及びその製造方法 | |
JP2016085271A (ja) | 電子写真感光体の表面加工方法および、電子写真感光体の製造方法 | |
JP4483675B2 (ja) | 有機感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 | |
JP2017151365A (ja) | 電子写真感光体および画像形成装置 | |
JPH0815886A (ja) | 電子写真感光体およびその製造方法およびそれを使用した 画像形成装置 |