JP2011502326A - メモリ・デバイスをテストする方法および機器 - Google Patents
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Abstract
Description
調節後ロー電圧を使用して、データ保持マージン・テスティングを実施し、通常の書込みと比較したときにある程度の少量だけセル内に貯蔵された電荷量を低減することができる。次いで、漏れが、読取りの結果として故障となる地点まで、貯蔵された電荷量を低減するのにかかる時間が短くなる。例えば、本発明の一実施形態によれば、データ保持マージン・テスティングは、テストすべき所与のメモリ・セル内にロジック・ハイ状態を示す電圧を貯蔵し、次いで第1期間の後にメモリ・セルの状態を読み取って、所与のメモリ・セルに貯蔵された電圧が、ロジック・ハイ状態を示す指定の最小レベルに少なくとも等しいかどうかを判定することを含むことができる。第1期間は、通常の書込みと比べた、セル内に貯蔵された電荷の減少量の関数でよく、好ましくは、メモリ・デバイスに対応する最小の指定データ保持期間未満でよい。この結果、テスト時間が短縮され、テスト・コストが削減される。
調節後ロー書込み電圧を使用して、本発明の一実施形態に従ってカラム外乱テストを実施し、通常の書込みと比較したときにある程度の少量だけセル内に貯蔵された電荷量を削減することができる。次いで、パス・ゲート・デバイスを介するカラム外乱漏れが、読取りの結果として故障となる地点まで、貯蔵された電荷量を低減するのにかかる時間が短くなる。この結果、テスト時間が短縮され、テスト・コストが削減される。
弱いメモリ・セルは通常、セルの一定の正規分布以内のメモリ・セルと比べて速い速度でそれぞれの貯蔵コンデンサから電荷を漏らす。弱いセルの漏れ特性は非定型であるので、しばしばスポーツと呼ばれる。通常、所与のメモリ・アレイ内にはスポーツはほんのわずかしか存在しない。こうしたスポーツを発見することが望ましく、それによって、当技術分野で周知の方法(例えば、修復、誤り訂正など)で、こうしたスポーツをメモリ・アレイでの使用から除外することができる。本発明の一実施形態による、調節後ロー電圧を用いたマージン・テスティングは、時間効率の良い方式でスポーツを発見するための適切な方法である。通常書込みに伴う読取りでは、弱いセルは、特定の電圧および/または温度でのみ故障する可能性がある。多数の電圧および/または温度でテストすることは実際的ではない。調節後ロー電圧を用いたマージン・テスティングによって故障が悪化する可能性があり、標準テスティング電圧および温度でそれが明らかとなる。
弱いカラムは、非定型セル漏れ特性のためではなく、主にメモリ・アレイ内のカラム、プリチャージ・デバイス、または関連するセンス増幅器内の不均衡および/または欠陥のために故障する。調節後ロー電圧を用いたマージン・テスティングは、セル内に貯蔵された電荷を低減させることができ、その結果、読取り動作中にカラムと共有されるときに、カラムに移送される電荷とその誘導カラム電圧変化が、有害な不均衡(複数可)の効果未満となる。この結果、読取り中に故障が発生する。このようにして、弱いカラムを効率的に発見することができる。通常書込みに従う読取りでは、弱いカラムは、特定の電圧および/または温度でのみ故障する可能性がある。多数の電圧および/または温度で弱いカラムに関してテストすることは実際的ではない。したがって、弱いセルに関するテスティングと同様に、調節後ロー電圧を用いたマージン・テスティングによって弱いカラム故障が悪化する可能性があり、標準テスティング電圧および温度でそれが明らかとなる。
メモリ・セル内のパス・ゲート・デバイスのしきい電圧を含む、トランジスタしきい電圧の大きさは、温度が低下するにつれて増加する。表2に示されるように、書込みロー電圧が、カラム線間電圧よりも少なくともしきい電圧の大きさだけ高い場合、ノード1上にロジック・ロー・データ状態に関して貯蔵された電圧は、しきい電圧の大きさが上昇するにつれて上昇する。したがって、最低の指定動作温度は、ノード1上の最高のロジック・ロー・データ状態電圧レベルに対応する。これは、セル貯蔵コンデンサ内のロジック・ロー・データ状態貯蔵電荷の最小量に対応し、セル電荷の点で故障に最も近い状態である。この故障メカニズムは、ロジック・ロー・データ状態に書き込まれるセルにのみ当てはまる。メモリ・セルに書き込まれるロジック・ハイ・データ状態電荷は、同じ方式ではパス・ゲート・デバイスしきい値と関係付けられない。
Claims (23)
- 複数のメモリ・セルと、前記メモリ・セルのうちの1つまたは複数に選択的にアクセスするための、前記メモリ・セルに接続された複数のロー・ラインおよびカラム・ラインとを含む半導体メモリ・デバイスをテストする方法であって、
テストすべき前記メモリ・セルのうちの少なくとも所与の1つに対応する前記ロー・ラインのうちの少なくとも所与の1つに第1電圧を印加するステップを含み、前記第1電圧が、前記メモリ・デバイスの少なくとも1つの性能特性にストレスを加えるように選択され、前記第1電圧が、前記メモリ・デバイスの通常動作中に前記メモリ・セルのうちの少なくとも1つにアクセスするための前記ロー・ラインのうちの前記所与の1つに印加される第2電圧とは異なり、さらに、
規定されたテスティング・パラメータに従って前記メモリ・デバイスを訓練するステップと、
前記メモリ・デバイスが前記テスティング・パラメータの規定のマージン以内で動作可能かどうかを識別するステップとを含む方法。 - テストすべき前記メモリ・セルのうちの前記所与の1つに書き込まれる電荷を低減するように前記第1電圧を調節するステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- テストすべき前記メモリ・セルのうちの前記所与の1つに対応するパス・ゲート・デバイスを介する漏れを増大させるように前記第1電圧を調節するステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- テストすべき前記所与のメモリ・セルにロジック・ロー・レベルを書き込むステップをさらに含み、前記少なくとも1つの性能特性が、前記所与のメモリ・セルのパス・ゲート・デバイス高しきい電圧レベル・テスティングを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの性能特性が、データ保持テスティングとカラム外乱テスティングの少なくとも一方を含み、前記方法はさらに、テストすべき前記所与のメモリ・セル内に貯蔵される電荷量が、前記メモリ・セルの標準書込み動作中に前記所与のメモリ・セル内に貯蔵される電荷量と比較して低減されるように、前記ロー・ラインのうちの前記所与の1つに印加される第1電圧を調節するステップを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの性能特性が、パス・ゲート・デバイス高しきい電圧レベル・テスティングを含み、前記方法がさらに、
前記メモリ・セルが第1温度にあるときと、前記メモリ・セルが第2温度にあるときに、テストすべき前記所与のメモリ・セルに対応するパス・ゲート・トランジスタ・デバイスのしきい電圧の差を測定するステップを含み、前記第1温度が、前記メモリ・デバイスの最低の指定動作温度を示し、前記第2温度が前記第1温度よりも高く、さらに、
測定したしきい電圧の差に応じて、前記所与のメモリ・セルに対応する前記ロー・ラインのうちの前記所与の1つに印加される前記第1電圧を調節するステップを含む、請求項1に記載の方法。 - 前記第2温度がほぼ室温を示す請求項6に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの性能特性がカラム外乱テスティングを含み、前記方法がさらに、テストすべき前記メモリ・セルのうちの前記所与の1つに接続されない前記ロー・ラインのうちの少なくとも1つに第3電圧を印加するステップを含み、テストされていないメモリ・セルに対応するパス・ゲート・デバイスのゲート−ソース電圧の大きさが、前記メモリ・デバイスの通常動作中の未選択のメモリ・セルに対応するパス・ゲート・デバイスのゲート−ソース電圧の大きさよりも大きくなるように前記第3電圧が選択される、請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの性能特性がデータ保持マージン・テスティングを含み、前記方法がさらに、
前記所与のメモリ・セル内に貯蔵される電荷量が、前記メモリ・セルの標準書込み動作中に前記所与のメモリ・セル内に貯蔵される電荷量と比べて低減されるように、前記ロー・ラインのうちの前記所与の1つに印加される前記第1電圧を調節するステップと、
ロジック・ハイ状態を示す前記所与のメモリ・セル内に電圧を貯蔵するステップと、
前記所与のメモリ・セル内に前記ロジック・ハイ状態を貯蔵した後の第1期間の後、前記メモリ・セルの状態を読み取り、前記所与のメモリ・セル内に貯蔵される前記電圧がロジック・ハイ状態を示す指定の最小レベルに少なくとも等しいかどうかを判定するステップとを含み、前記第1期間が、前記メモリ・デバイスに対応する最小の指定データ保持期間未満である、請求項1に記載の方法。 - 前記第1期間が、前記メモリ・デバイス内の標準書込み動作中に前記所与のメモリ・セル内に貯蔵される電荷量と比べた、前記所与のメモリ・セル内に貯蔵される電荷量の低減量の関数である、請求項9に記載の方法。
- 前記メモリ・デバイスがダイナミック・ランダム・アクセス・メモリである、請求項1に記載の方法。
- 複数のメモリ・セルと、前記メモリ・セルのうちの1つまたは複数に選択的にアクセスするための、前記メモリ・セルに接続された複数のロー・ラインおよびカラム・ラインとを含む半導体メモリ・デバイスをテストする回路であって、
前記メモリ・デバイス内の前記ロー・ラインのうちの所与の1つを活動化する出力電圧を生成するように動作可能なコントローラを含み、前記コントローラは、第1モードで、少なくとも第1制御信号に応じて、前記出力電圧のレベルを選択的に調節するように動作可能であり、前記出力電圧のレベルが、前記メモリ・デバイスの少なくとも1つの性能特性にストレスを加えるように選択され、第2モードで、前記出力電圧が、前記メモリ・デバイスの通常動作中に前記メモリ・セルのうちの少なくとも1つにアクセスするための規定のレベルにほぼ固定され、前記第1モードでの前記出力電圧のレベルが、前記第2モードでの前記出力電圧のレベルとは異なり、さらに、
前記コントローラに接続された復号化回路を含み、前記復号化回路は、前記コントローラから前記出力電圧を受け、少なくとも第2制御信号に応じて、前記メモリ・デバイス内の前記ロー・ラインのうちの少なくとも所与の1つに前記出力電圧を選択的に分配するように動作可能である、回路。 - 前記コントローラが、前記出力電圧を生成するように動作可能なプログラム可能電圧源を含み、前記第1モードで、前記出力電圧のレベルが選択され、前記メモリ・デバイスの少なくとも1つの性能特性にストレスが加えられる、請求項12に記載の回路。
- 前記コントローラが、少なくとも第1および第2電圧を受け、前記メモリ・デバイス内の前記ロー・ラインのうちの所与の1つを活動化するための前記出力電圧を生成するように動作可能なマルチプレクサを含み、前記マルチプレクサが、前記第1モード中に前記第1電圧を前記出力電圧として選択し、前記マルチプレクサが、前記第2モード中に前記第2電圧を前記出力電圧として選択し、前記第2電圧が、前記メモリ・デバイスの通常動作中に前記ロー・ラインのうちの少なくとも1つを活動化するのに使用され、前記第1電圧が前記第2電圧とは異なり、前記メモリ・デバイスのテスティング中に前記ロー・ラインのうちの少なくとも1つを活動化するのに使用される、請求項12に記載の回路。
- 前記復号化回路が、前記コントローラから前記出力電圧を受けるための入力と、複数の出力とを有するスイッチング回路を含み、前記出力のそれぞれが、前記ロー・ラインのうちの対応するものに接続され、前記スイッチング回路が、前記第2制御信号に応じて、前記出力のうちの所与の1つに前記入力を接続するように動作可能である、請求項12に記載の回路。
- 前記第1モード中、前記コントローラが、テストすべき前記メモリ・セルの所与の1つに書き込まれる電荷を低減するように前記出力電圧を調節するように動作可能である、請求項12に記載の回路。
- 前記第1モード中、前記コントローラが、テストすべき前記メモリ・セルのうちの所与の1つに対応するパス・ゲート・デバイスを介する漏れを増大させるように前記第1電圧を調節するように動作可能である、請求項12に記載の回路。
- 前記少なくとも1つの性能特性がパス・ゲート・デバイス高しきい電圧レベル・テスティングを含み、前記第1モード中、前記コントローラが、前記メモリ・セルが第1温度にあるときと、前記メモリ・セルが第2温度にあるときに、テストすべき所与のメモリ・セルに対応するパス・ゲート・トランジスタ・デバイスのしきい電圧の差を測定するよう前記第1モードで動作可能であり、前記第1温度が、前記メモリ・デバイスの最低の指定動作温度を示し、前記第2温度が前記第1温度よりも高いものであり、そして、前記コントローラが、測定したしきい電圧の差に応じて、前記所与のメモリ・セルに対応する前記ロー・ラインのうちの所与の1つに印加される前記出力電圧を調節することを行うように前記第1モードで動作可能である、請求項12に記載の回路。
- 前記少なくとも1つの性能特性がカラム外乱テスティングを含み、前記コントローラが、前記第1モードで、テストすべき前記メモリ・セルのうちの所与の1つに接続されない前記ロー・ラインのうちの少なくとも1つに第2電圧を印加するように動作可能であり、テストされないメモリ・セルに対応するパス・ゲート・デバイスのゲート−ソース電圧の大きさが、前記メモリ・デバイスの通常動作中の未選択のメモリ・セルに対応するパス・ゲート・デバイスのゲート−ソース電圧の大きさよりも大きくなるように前記第2電圧が選択される、請求項12に記載の回路。
- 前記少なくとも1つの性能特性がデータ保持マージン・テスティングを含み、前記コントローラが、前記所与のロー・ラインに接続された所与のメモリ・セル内に貯蔵される電荷量が、前記メモリ・セルの標準書込み動作中に前記所与のメモリ・セル内に貯蔵される電荷量と比較して低減されるように、前記ロー・ラインのうちの所与の1つに印加される前記出力電圧を調節するよう前記第1モードで動作可能であり、ロジック・ハイ状態を示す前記所与のメモリ・セル内に電圧を貯蔵するよう前記第1モードで動作可能であり、そして、前記所与のメモリ・セル内に前記ロジック・ハイ状態を貯蔵した後の第1期間の後、前記メモリ・セルの状態を読み取り、前記所与のメモリ・セル内に貯蔵される前記電圧がロジック・ハイ状態を示す指定の最小レベルに少なくとも等しいかどうかを判定するように前記第1モードで動作可能であり、前記第1期間が、前記メモリ・デバイスに対応する最小の指定データ保持期間未満である、請求項12に記載の回路。
- 前記第1制御信号がテスト・モード信号を含み、第2制御信号がアドレス信号を含む請求項12に記載の回路。
- 複数のメモリ・セルと、前記メモリ・セルのうちの1つまたは複数に選択的にアクセスするための、前記メモリ・セルに接続された複数のロー・ラインおよびカラム・ラインとを含むメモリをテストする少なくとも1つの回路を含む集積回路であって、前記少なくとも1つの回路が、
前記メモリ内の前記ロー・ラインのうちの所与の1つを活動化する出力電圧を生成するように動作可能なコントローラを含み、前記コントローラは、少なくとも第1制御信号に応じて、前記出力電圧のレベルを選択的に調節するように第1モードで動作可能であり、前記出力電圧のレベルが、前記メモリ・デバイスの少なくとも1つの性能特性にストレスを加えるように選択され、第2モードで、前記出力電圧が、前記メモリの通常動作中に前記メモリ・セルのうちの少なくとも1つにアクセスするための規定のレベルにほぼ固定され、前記第1モードでの前記出力電圧のレベルが、前記第2モードでの前記出力電圧のレベルとは異なり、さらに、
前記コントローラに接続された復号化回路を含み、前記復号化回路は、前記コントローラから前記出力電圧を受け、少なくとも第2制御信号に応じて、前記メモリ・デバイス内の前記ロー・ラインのうちの少なくとも所与の1つに前記出力電圧を選択的に分配するように動作可能である、集積回路。 - 複数のメモリ・セルと、前記メモリ・セルのうちの1つまたは複数に選択的にアクセスするための、前記メモリ・セルに接続された複数のロー・ラインおよびカラム・ラインとを含むメモリ・デバイス内の1つまたは複数の故障を検出する自動テスト装置(ATE)機器であって、
プログラム可能電圧源と、
前記プログラム可能電圧源に結合された少なくとも1つのプロセッサとを含み、延期少なくとも1つのプロセッサは、(i)テストすべき前記メモリ・セルのうちの少なくとも所与の1つに対応する前記ロー・ラインのうちの少なくとも所与の1つに前記プログラム可能電圧源で生成された第1電圧を印加するよう動作可能であり、前記第1電圧が、前記メモリ・デバイスの少なくとも1つの性能特性にストレスを加えるように調節され、前記第1電圧が、前記メモリ・デバイスの通常動作中に前記メモリ・セルのうちの少なくとも1つにアクセスするために前記ロー・ラインの前記所与の1つに印加される第2電圧とは異なり、(ii)規定のテスティング・パラメータに従って前記メモリ・デバイスを訓練するよう動作可能であり、そして、(iii)前記メモリ・デバイスが、前記テスティング・パラメータの規定のマージン以内で動作可能かどうかを識別することを行うように動作可能である、自動テスト装置(ATE)機器。
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