JP2000067600A - ダイナミックランダムアクセスメモリをテストする方法及び装置 - Google Patents
ダイナミックランダムアクセスメモリをテストする方法及び装置Info
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- G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
- G11C29/04—Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
- G11C29/50—Marginal testing, e.g. race, voltage or current testing
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- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/401—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
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- Dram (AREA)
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ダイナミックランダムアクセスメモリに対す
るメモリリフレッシュ周波数を決定する時間を減少させ
た技術を提供する。 【解決手段】 本発明によれば、テスト動作期間中にメ
モリセル内にデータを書込む場合にワード線に関連する
ブートストラップ回路をディスエーブルさせる。高論理
レベルを表わすデータがメモリセル内に書込まれる場合
には、その結果格納される電荷はダイナミックメモリの
通常動作の下における格納電荷よりも小さい。従って、
格納電荷に対する遅延時間が短縮され、メモリセルのリ
フレッシュ周波数をテストする時間が短縮される。
るメモリリフレッシュ周波数を決定する時間を減少させ
た技術を提供する。 【解決手段】 本発明によれば、テスト動作期間中にメ
モリセル内にデータを書込む場合にワード線に関連する
ブートストラップ回路をディスエーブルさせる。高論理
レベルを表わすデータがメモリセル内に書込まれる場合
には、その結果格納される電荷はダイナミックメモリの
通常動作の下における格納電荷よりも小さい。従って、
格納電荷に対する遅延時間が短縮され、メモリセルのリ
フレッシュ周波数をテストする時間が短縮される。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はダイナミックランダ
ムアクセスメモリ(DRAM)をテストする方法に関す
るものであって、更に詳細には、DRAM装置内のメモ
リセルの格納(記憶)能力をより迅速にテストするため
の方法に関するものである。
ムアクセスメモリ(DRAM)をテストする方法に関す
るものであって、更に詳細には、DRAM装置内のメモ
リセルの格納(記憶)能力をより迅速にテストするため
の方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体メモリには2つの公知のタイプが
あり、そのうちの1つは揮発性メモリと呼ばれるもので
あり且つ他方は非揮発性メモリと呼ばれるものである。
揮発性メモリにおいては、格納(記憶)されたデータ
は、半導体装置から電源が取除かれると失われる。一
方、非揮発性メモリは、電源が装置から取除かれた後の
長期間にわたって格納されているデータを維持する。コ
ンピュータ又は関連システムにおいては、非揮発性メモ
リはプログラム及び滅多に変わることがないか又は決し
て変わることのないデータを長期間格納即ち記憶するた
めに使用され、且つ揮発性メモリ装置はプログラム命令
及びプログラムの実行期間中におけるデータの短期間の
格納のために使用される。
あり、そのうちの1つは揮発性メモリと呼ばれるもので
あり且つ他方は非揮発性メモリと呼ばれるものである。
揮発性メモリにおいては、格納(記憶)されたデータ
は、半導体装置から電源が取除かれると失われる。一
方、非揮発性メモリは、電源が装置から取除かれた後の
長期間にわたって格納されているデータを維持する。コ
ンピュータ又は関連システムにおいては、非揮発性メモ
リはプログラム及び滅多に変わることがないか又は決し
て変わることのないデータを長期間格納即ち記憶するた
めに使用され、且つ揮発性メモリ装置はプログラム命令
及びプログラムの実行期間中におけるデータの短期間の
格納のために使用される。
【0003】揮発性メモリ装置は2つのカテゴリに分類
することが可能である。スタティックランダムアクセス
メモリ(SRAM)はフリップフロップラッチから構成
されており、各SRAMラッチは電源がSRAMへ供給
されている限り1ビットのデータを維持する。ダイナミ
ックメモリにおいては、データビットを表わす電荷がコ
ンデンサ上に格納される。
することが可能である。スタティックランダムアクセス
メモリ(SRAM)はフリップフロップラッチから構成
されており、各SRAMラッチは電源がSRAMへ供給
されている限り1ビットのデータを維持する。ダイナミ
ックメモリにおいては、データビットを表わす電荷がコ
ンデンサ上に格納される。
【0004】従来のDRAMセルは単一トランジスタア
ーキテクチュアを使用しており、その場合にメモリセル
は基準電圧例えばVssへ接続されている第一端子と、
パス及び/又は伝達ゲートトランジスタへ接続されてい
る第二端子とを具備する格納コンデンサを有している。
パスゲートトランジスタは格納コンデンサへ電荷を転送
する作用を行い、且つ、格納コンデンサの充電状態又は
非充電状態を読取るべく機能する。パス/伝達ゲートト
ランジスタのゲート電極はワード線デコード信号へ結合
され、且つそのドレイン電極はビット線へ接続されてい
る。データは、格納コンデンサ上の電荷としてメモリセ
ル内に格納される。然しながら、データはコンデンサ上
の電荷としてダイナミックメモリセル内に格納され且つ
メモリセルは格納コンデンサ又はパスゲートトランジス
タのいずれかからリーク電流によって影響されるので、
ダイナミックメモリセル内における格納電荷、特に高論
理レベルを表わす格納電荷は時間と共に減衰する。DR
AM装置内の各ビットのデータは、従って、それが検索
不可能に減衰される前に周期的にリフレッシュされねば
ならない。
ーキテクチュアを使用しており、その場合にメモリセル
は基準電圧例えばVssへ接続されている第一端子と、
パス及び/又は伝達ゲートトランジスタへ接続されてい
る第二端子とを具備する格納コンデンサを有している。
パスゲートトランジスタは格納コンデンサへ電荷を転送
する作用を行い、且つ、格納コンデンサの充電状態又は
非充電状態を読取るべく機能する。パス/伝達ゲートト
ランジスタのゲート電極はワード線デコード信号へ結合
され、且つそのドレイン電極はビット線へ接続されてい
る。データは、格納コンデンサ上の電荷としてメモリセ
ル内に格納される。然しながら、データはコンデンサ上
の電荷としてダイナミックメモリセル内に格納され且つ
メモリセルは格納コンデンサ又はパスゲートトランジス
タのいずれかからリーク電流によって影響されるので、
ダイナミックメモリセル内における格納電荷、特に高論
理レベルを表わす格納電荷は時間と共に減衰する。DR
AM装置内の各ビットのデータは、従って、それが検索
不可能に減衰される前に周期的にリフレッシュされねば
ならない。
【0005】ダイナミックメモリセルのパスゲートトラ
ンジスタは、典型的に、Nチャンネル電界効果トランジ
スタを有している。高論理レベル(Vdd)信号を選択
されたワード線及びそれに接続されているメモリセルパ
スゲートトランジスタのゲート電極へ供給することによ
って高論理レベルをダイナミックメモリセル内に格納し
ようとする場合に、格納コンデンサ上に格納させること
の可能な最大電荷はVdd−Vtnであり、その場合に
Vtnはバックバイアスを考慮に入れてパスゲートトラ
ンジスタのスレッシュホールド電圧である。メモリセル
格納コンデンサ上に格納されている電荷は時間と共に減
衰するという事実と結合されて、この最大電圧レベル限
界はダイナミックメモリセルを比較的に頻繁にリフレッ
シュさせることを必要としている。
ンジスタは、典型的に、Nチャンネル電界効果トランジ
スタを有している。高論理レベル(Vdd)信号を選択
されたワード線及びそれに接続されているメモリセルパ
スゲートトランジスタのゲート電極へ供給することによ
って高論理レベルをダイナミックメモリセル内に格納し
ようとする場合に、格納コンデンサ上に格納させること
の可能な最大電荷はVdd−Vtnであり、その場合に
Vtnはバックバイアスを考慮に入れてパスゲートトラ
ンジスタのスレッシュホールド電圧である。メモリセル
格納コンデンサ上に格納されている電荷は時間と共に減
衰するという事実と結合されて、この最大電圧レベル限
界はダイナミックメモリセルを比較的に頻繁にリフレッ
シュさせることを必要としている。
【0006】ダイナミックメモリセルのリフレッシュ動
作の頻度を減少させるための技術が開発されている。こ
のような技術は、書込動作期間中にメモリセルコンデン
サ上により大きな電荷を格納することを包含している。
ダイナミックメモリセルコンデンサ上により多くの電荷
を格納させる1つの公知の技術は、メモリセル書込動作
を実施する場合に高基準電圧レベル(Vdd)より高い
電圧へ選択したワード線の電圧をブースト即ち上昇させ
ることを包含しており、その場合に、選択されたメモリ
セルのパスゲートトランジスタ上にはより高いゲート電
圧が印加される。書込動作期間中にワード線電圧を上昇
させるために種々のブートストラップ回路が使用されて
いる。ブートストラップ回路を使用することによって、
ダイナミックメモリリフレッシュ動作の頻度を低下させ
るためにダイナミックメモリセルコンデンサ上に完全な
る高基準電圧レベルを格納させることが可能である。
作の頻度を減少させるための技術が開発されている。こ
のような技術は、書込動作期間中にメモリセルコンデン
サ上により大きな電荷を格納することを包含している。
ダイナミックメモリセルコンデンサ上により多くの電荷
を格納させる1つの公知の技術は、メモリセル書込動作
を実施する場合に高基準電圧レベル(Vdd)より高い
電圧へ選択したワード線の電圧をブースト即ち上昇させ
ることを包含しており、その場合に、選択されたメモリ
セルのパスゲートトランジスタ上にはより高いゲート電
圧が印加される。書込動作期間中にワード線電圧を上昇
させるために種々のブートストラップ回路が使用されて
いる。ブートストラップ回路を使用することによって、
ダイナミックメモリリフレッシュ動作の頻度を低下させ
るためにダイナミックメモリセルコンデンサ上に完全な
る高基準電圧レベルを格納させることが可能である。
【0007】典型的に、メモリセル読取動作に続いてビ
ット線上に表われる小さな電圧変化を検知し且つビット
線を例えばVdd又はVss等の適宜の完全な基準電圧
レベルへビット線を駆動させるためにダイナミックメモ
リのビット線にはセンスアンプが接続されている。セン
スアンプがビット線を完全な基準電圧レベルへ駆動する
と、それからデータが読取られたメモリセルはビット線
上に表われる完全な基準電圧信号でリフレッシュされ
る。
ット線上に表われる小さな電圧変化を検知し且つビット
線を例えばVdd又はVss等の適宜の完全な基準電圧
レベルへビット線を駆動させるためにダイナミックメモ
リのビット線にはセンスアンプが接続されている。セン
スアンプがビット線を完全な基準電圧レベルへ駆動する
と、それからデータが読取られたメモリセルはビット線
上に表われる完全な基準電圧信号でリフレッシュされ
る。
【0008】最終的な製品が仕様通りの性能を有するこ
とを確保するために集積回路の機能性及びタイミングの
両方をテストすることが一般的である。ダイナミックメ
モリに関しては、格納電荷を充分に維持する格納コンデ
ンサを具備するダイナミックメモリ装置を格納電荷を充
分に維持することが不可能な「弱い」セルを具備するダ
イナミックメモリ装置から分別させるために格納電荷を
維持するためのダイナミックメモリセルの能力をテスト
することが一般的である。格納されているデータを維持
し、従って適切に機能することのダイナミックメモリの
能力を判別するためにダイナミックメモリの各メモリセ
ルをテストせねばならないので、ダイナミックメモリ及
び関連システムを使用する集積回路に対するテストプロ
グラムがダイナミックメモリを完全に且つ効率的にテス
ト及び/又は特性付けを行うものであることが重要であ
る。
とを確保するために集積回路の機能性及びタイミングの
両方をテストすることが一般的である。ダイナミックメ
モリに関しては、格納電荷を充分に維持する格納コンデ
ンサを具備するダイナミックメモリ装置を格納電荷を充
分に維持することが不可能な「弱い」セルを具備するダ
イナミックメモリ装置から分別させるために格納電荷を
維持するためのダイナミックメモリセルの能力をテスト
することが一般的である。格納されているデータを維持
し、従って適切に機能することのダイナミックメモリの
能力を判別するためにダイナミックメモリの各メモリセ
ルをテストせねばならないので、ダイナミックメモリ及
び関連システムを使用する集積回路に対するテストプロ
グラムがダイナミックメモリを完全に且つ効率的にテス
ト及び/又は特性付けを行うものであることが重要であ
る。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明はメモリ装置を
テストする従来の方法の欠点を解消し且つダイナミック
ランダムアクセスメモリ(DRAM)をテストする効果
的な方法に対する必要性を満足する技術を提供すること
を目的とする。
テストする従来の方法の欠点を解消し且つダイナミック
ランダムアクセスメモリ(DRAM)をテストする効果
的な方法に対する必要性を満足する技術を提供すること
を目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、例えばマイク
ロプセサチップ又は応用特定集積回路(ASIC)等の
集積回路内に埋め込まれているダイナミックメモリ又は
スタンドアローンのダイナミックメモリチップに対して
適用可能なテスト方法を提供している。特に、埋込型の
DRAMに関しては、本発明のテスト方法は、テストさ
れたDRAM機能が仕様通りのものであることを確保す
るためにDRAMに対するビルトイン自己テスト(BI
ST)に関連して使用することが可能である。一方、本
発明のテスト技術は、DRAMを完全に特性付けするた
めにウエハレベルのテスト及びチップレベルのテストに
対するテスト装置に関連して使用されるテストプログラ
ムの一部とすることも可能である。
ロプセサチップ又は応用特定集積回路(ASIC)等の
集積回路内に埋め込まれているダイナミックメモリ又は
スタンドアローンのダイナミックメモリチップに対して
適用可能なテスト方法を提供している。特に、埋込型の
DRAMに関しては、本発明のテスト方法は、テストさ
れたDRAM機能が仕様通りのものであることを確保す
るためにDRAMに対するビルトイン自己テスト(BI
ST)に関連して使用することが可能である。一方、本
発明のテスト技術は、DRAMを完全に特性付けするた
めにウエハレベルのテスト及びチップレベルのテストに
対するテスト装置に関連して使用されるテストプログラ
ムの一部とすることも可能である。
【0011】一般的には、本発明は、ダイナミックメモ
リに関してのタイミングに関連したテストを実施する時
間を短縮させている。書込動作のために高基準電圧レベ
ルより高くダイナミックメモリ装置の選択したワード線
電圧を上昇させるために通常使用されているダイナミッ
クメモリ内に位置されているブーストストラップ回路は
書込動作期間中にディスエーブル即ち動作不能状態とさ
れ、従ってワード線は高基準電圧レベルへ駆動されるに
過ぎない。高論理レベルに対応するデータをメモリセル
内に書込むことによって格納されたメモリセル内に表わ
れる電圧レベルは高基準電圧レベルよりも低いものであ
る。従って、その後、格納された電荷が対応するセンス
アンプによって回復することが不可能な値へ減衰するの
にかかる時間は減少される。従って、DRAMの最小リ
フレッシュ周波数をテストする時間が短縮され、DRA
Mに対する全体的なテスト時間が減少される。
リに関してのタイミングに関連したテストを実施する時
間を短縮させている。書込動作のために高基準電圧レベ
ルより高くダイナミックメモリ装置の選択したワード線
電圧を上昇させるために通常使用されているダイナミッ
クメモリ内に位置されているブーストストラップ回路は
書込動作期間中にディスエーブル即ち動作不能状態とさ
れ、従ってワード線は高基準電圧レベルへ駆動されるに
過ぎない。高論理レベルに対応するデータをメモリセル
内に書込むことによって格納されたメモリセル内に表わ
れる電圧レベルは高基準電圧レベルよりも低いものであ
る。従って、その後、格納された電荷が対応するセンス
アンプによって回復することが不可能な値へ減衰するの
にかかる時間は減少される。従って、DRAMの最小リ
フレッシュ周波数をテストする時間が短縮され、DRA
Mに対する全体的なテスト時間が減少される。
【0012】
【発明の実施の形態】図1を参照するとトランジスタ2
と格納コンデンサ3とを具備するダイナミックランダム
アクセスメモリセル1が示されている。格納コンデンサ
3の一方のプレートは、好適には、例えばVss等の基
準電圧源へ接続されており、且つ他方のプレートはトラ
ンジスタ2のソース2Sへ接続している。トランジスタ
2のゲート電極2Gはワード線4へ接続しており且つト
ランジスタ2のドレイン2Dはビット線5へ接続してい
る。このように、ワード線4上に比較的高い電圧を付与
することによってトランジスタ2をターンオンさせる
と、ビット線5と格納コンデンサ3との間に電荷を共有
させることが可能である。
と格納コンデンサ3とを具備するダイナミックランダム
アクセスメモリセル1が示されている。格納コンデンサ
3の一方のプレートは、好適には、例えばVss等の基
準電圧源へ接続されており、且つ他方のプレートはトラ
ンジスタ2のソース2Sへ接続している。トランジスタ
2のゲート電極2Gはワード線4へ接続しており且つト
ランジスタ2のドレイン2Dはビット線5へ接続してい
る。このように、ワード線4上に比較的高い電圧を付与
することによってトランジスタ2をターンオンさせる
と、ビット線5と格納コンデンサ3との間に電荷を共有
させることが可能である。
【0013】典型的に、ビット線を例えばVdd/2等
の中間電圧レベルへプレチャージさせ、次いでワード線
4を例えばVdd等の高基準電圧源へ駆動させることに
よって、メモリセル1に関して読取動作が行われる。ビ
ット線5と関連するセンスアンプ(不図示)が電圧差を
検知し且つビット線5を適宜の基準電圧レベルへ駆動す
る。最初に所望のデータをビット線5上に配置させ、そ
の後にブートストラップ回路6を使用してワード線4を
高基準電圧源より高い電圧レベルへ駆動することによっ
てメモリセル1に関しての書込動作が行われる。一般的
に、メモリセルに対するリフレッシュ動作は、書込動作
に続いてすぐに読取動作を連続的に行うものである。
の中間電圧レベルへプレチャージさせ、次いでワード線
4を例えばVdd等の高基準電圧源へ駆動させることに
よって、メモリセル1に関して読取動作が行われる。ビ
ット線5と関連するセンスアンプ(不図示)が電圧差を
検知し且つビット線5を適宜の基準電圧レベルへ駆動す
る。最初に所望のデータをビット線5上に配置させ、そ
の後にブートストラップ回路6を使用してワード線4を
高基準電圧源より高い電圧レベルへ駆動することによっ
てメモリセル1に関しての書込動作が行われる。一般的
に、メモリセルに対するリフレッシュ動作は、書込動作
に続いてすぐに読取動作を連続的に行うものである。
【0014】図2(A)及び(B)は、本発明に従っ
て、通常動作期間中及びテスト動作期間中にダイナミッ
クメモリセル内に高論理レベルを表わすデータを格納す
る書込動作を示している。時間T0及び時間T1の間等
の書込動作の実行前に、ビット線5がVddへ駆動され
る。ダイナミックメモリの通常動作期間中の書込動作の
ために、ワード線4(図2(A)においては電圧波形W
1として示されている)がブートストラップ回路6によ
って時間T1においてVddを超える値10へ駆動され
る。このワード線5上の電圧の上昇がトランジスタ2を
ターンオンさせ、そのことは図2(B)において波形W
2で示したように格納コンデンサ3を約Vddへ充電さ
せる。時間T2において、ワード線4が低へ駆動され、
そのことはトランジスタ2をターンオフさせ、それによ
って格納コンデンサ3を非駆動状態とさせる。
て、通常動作期間中及びテスト動作期間中にダイナミッ
クメモリセル内に高論理レベルを表わすデータを格納す
る書込動作を示している。時間T0及び時間T1の間等
の書込動作の実行前に、ビット線5がVddへ駆動され
る。ダイナミックメモリの通常動作期間中の書込動作の
ために、ワード線4(図2(A)においては電圧波形W
1として示されている)がブートストラップ回路6によ
って時間T1においてVddを超える値10へ駆動され
る。このワード線5上の電圧の上昇がトランジスタ2を
ターンオンさせ、そのことは図2(B)において波形W
2で示したように格納コンデンサ3を約Vddへ充電さ
せる。時間T2において、ワード線4が低へ駆動され、
そのことはトランジスタ2をターンオフさせ、それによ
って格納コンデンサ3を非駆動状態とさせる。
【0015】時間T2に続いて、格納コンデンサ3上の
電荷W2がメモリセル1と関連するリーク電流に起因し
て時間に関して指数的に減衰する。究極的に、格納コン
デンサ3上の電圧は時間T3において中間値Vdd/2
に到達する。この時点において、ビット線5と関連する
センスアンプは、最早、格納コンデンサ3上に格納され
ている高論理レベルデータを回復することは不可能であ
る。何故ならば、この実施例におけるセンスアンプは中
間電圧Vdd/2を中心とする対応するビット線対の間
の電圧差を検知する構成とされているからである。格納
コンデンサ3上の電圧がVdd/2に比較的近くに到達
すると、センスアンプは高論理レベルを表わす格納デー
タを低論理レベルを表わす格納データから区別すること
が不可能となる。時間T2と時間T3との間の時間期間
は、メモリセル1に関してのリフレッシュ動作を実施す
るのに必要な最小周波数即ち頻度及び最大時間期間を表
わしている。換言すると、メモリセル1は、高論理レベ
ルを表わす格納データが回復不可能に失われることを防
止するために、時間T2と時間T3との間の高論理レベ
ルを表わすデータでリフレッシュせねばならない。
電荷W2がメモリセル1と関連するリーク電流に起因し
て時間に関して指数的に減衰する。究極的に、格納コン
デンサ3上の電圧は時間T3において中間値Vdd/2
に到達する。この時点において、ビット線5と関連する
センスアンプは、最早、格納コンデンサ3上に格納され
ている高論理レベルデータを回復することは不可能であ
る。何故ならば、この実施例におけるセンスアンプは中
間電圧Vdd/2を中心とする対応するビット線対の間
の電圧差を検知する構成とされているからである。格納
コンデンサ3上の電圧がVdd/2に比較的近くに到達
すると、センスアンプは高論理レベルを表わす格納デー
タを低論理レベルを表わす格納データから区別すること
が不可能となる。時間T2と時間T3との間の時間期間
は、メモリセル1に関してのリフレッシュ動作を実施す
るのに必要な最小周波数即ち頻度及び最大時間期間を表
わしている。換言すると、メモリセル1は、高論理レベ
ルを表わす格納データが回復不可能に失われることを防
止するために、時間T2と時間T3との間の高論理レベ
ルを表わすデータでリフレッシュせねばならない。
【0016】センスアンプが、Vdd/2以外の電圧レ
ベルを中心とする一対のビット線上に表われる電圧差を
検知するようにダイナミックメモリを構成することが可
能である。中間電圧Vdd/2は、しばしば、アクセス
速度を最適化させ、且つ高論理レベルを表わすデータを
格納する場合における不所望の電荷の減衰のみならず、
低論理レベルを表わすデータを格納する場合の不所望の
電荷上昇を考慮に入れるためにセンスアンプがトリガさ
れる電圧レベルとして選択することが可能である。
ベルを中心とする一対のビット線上に表われる電圧差を
検知するようにダイナミックメモリを構成することが可
能である。中間電圧Vdd/2は、しばしば、アクセス
速度を最適化させ、且つ高論理レベルを表わすデータを
格納する場合における不所望の電荷の減衰のみならず、
低論理レベルを表わすデータを格納する場合の不所望の
電荷上昇を考慮に入れるためにセンスアンプがトリガさ
れる電圧レベルとして選択することが可能である。
【0017】図2(A)及び(B)を参照して、高論理
レベルを表わすデータをメモリセル1内に書込むことに
関しての本発明に基づくテスト方法について説明する。
例えば時間T0と時間T1との間等の書込動作の実行の
前に、ビット線5がVddへ駆動される。ダイナミック
メモリの好適なテスト動作期間中における書込動作の場
合には、図2(A)において電圧波形W3として示した
ワード線4がVddより高い電圧へ駆動される代りに
(通常のDRAM動作に関して波形W1で示してある)
代りに時間T1においてVddへ駆動される。ワード線
4上における電圧上昇がトランジスタ2をターンオンさ
せ、そのことは、上述したように、格納コンデンサ3を
Vdd−Vtnへ充電させる。格納コンデンサ3上に格
納された電荷は図2(B)において電圧波形W4で示し
てある。時間T2において、ワード線4が低へ駆動さ
れ、そのことはトランジスタ2をターンオフさせ、それ
によって格納コンデンサ3は非駆動状態とされる。
レベルを表わすデータをメモリセル1内に書込むことに
関しての本発明に基づくテスト方法について説明する。
例えば時間T0と時間T1との間等の書込動作の実行の
前に、ビット線5がVddへ駆動される。ダイナミック
メモリの好適なテスト動作期間中における書込動作の場
合には、図2(A)において電圧波形W3として示した
ワード線4がVddより高い電圧へ駆動される代りに
(通常のDRAM動作に関して波形W1で示してある)
代りに時間T1においてVddへ駆動される。ワード線
4上における電圧上昇がトランジスタ2をターンオンさ
せ、そのことは、上述したように、格納コンデンサ3を
Vdd−Vtnへ充電させる。格納コンデンサ3上に格
納された電荷は図2(B)において電圧波形W4で示し
てある。時間T2において、ワード線4が低へ駆動さ
れ、そのことはトランジスタ2をターンオフさせ、それ
によって格納コンデンサ3は非駆動状態とされる。
【0018】時間T2に続いて、格納コンデンサ3上の
電荷がメモリセル1に関連するリーク電流に起因して指
数的に減衰する。究極的に、格納コンデンサ3上の電圧
は時間T4において中間値Vdd/2に到達する。この
時点において、ビット線5に関連するセンスアンプは最
早格納データを回復することは不可能である。本発明に
基づくテスト動作期間中において格納コンデンサ3上に
表われる電圧は通常動作期間中に格納コンデンサ3上に
表われる電圧よりも低いので、テスト動作期間中に格納
電荷が回復不可能なレベルへ減衰するための時間TD1
は通常のDRAM動作期間中に格納電荷が回復不可能な
レベルへ減衰する時間TD2よりも短い。時間T2と時
間T4との間の時間期間TD1は、従って、本発明の好
適実施例に基づくテストモード期間中においてのメモリ
セル1に関してのリフレッシュ動作を実施するための最
小の周波数(頻度)及び最大時間を表わしている。格納
コンデンサ3をVdd−Vtnへ充電させることの結果
として、メモリセル1に対する最小リフレッシュ周波数
(頻度)を決定するのに必要な時間は実質的に短縮され
ている。
電荷がメモリセル1に関連するリーク電流に起因して指
数的に減衰する。究極的に、格納コンデンサ3上の電圧
は時間T4において中間値Vdd/2に到達する。この
時点において、ビット線5に関連するセンスアンプは最
早格納データを回復することは不可能である。本発明に
基づくテスト動作期間中において格納コンデンサ3上に
表われる電圧は通常動作期間中に格納コンデンサ3上に
表われる電圧よりも低いので、テスト動作期間中に格納
電荷が回復不可能なレベルへ減衰するための時間TD1
は通常のDRAM動作期間中に格納電荷が回復不可能な
レベルへ減衰する時間TD2よりも短い。時間T2と時
間T4との間の時間期間TD1は、従って、本発明の好
適実施例に基づくテストモード期間中においてのメモリ
セル1に関してのリフレッシュ動作を実施するための最
小の周波数(頻度)及び最大時間を表わしている。格納
コンデンサ3をVdd−Vtnへ充電させることの結果
として、メモリセル1に対する最小リフレッシュ周波数
(頻度)を決定するのに必要な時間は実質的に短縮され
ている。
【0019】格納コンデンサ3の容量値及びメモリセル
1のリーク電流は、ダイナミックメモリが通常動作状態
にあるか又は本発明に基づくテスト動作モードにあるか
に拘らずに実質的に同一のままであるので、通常動作期
間中にメモリセル1に対して必要とされる最小リフレッ
シュ周波数は本テスト動作期間中にメモリセル1に対す
る最小リフレッシュ周波数が決定されると決定すること
が可能である。本テスト動作期間中における最小リフレ
ッシュ周波数を決定するのに必要な時間は通常のDRA
M動作期間中における最小リフレッシュ周波数を決定す
るための時間よりも短いので、通常のDRAM動作期間
中におけるメモリセル1の最小リフレッシュ周波数の決
定は本テスト動作期間中における最小リフレッシュ周波
数の決定を使用してより迅速に行うことが可能である。
従って、最小リフレッシュ動作を決定するための本テス
ト動作を使用してDRAM内の各メモリセル1のテスト
を行う場合には、テスト時間が著しく節約される。
1のリーク電流は、ダイナミックメモリが通常動作状態
にあるか又は本発明に基づくテスト動作モードにあるか
に拘らずに実質的に同一のままであるので、通常動作期
間中にメモリセル1に対して必要とされる最小リフレッ
シュ周波数は本テスト動作期間中にメモリセル1に対す
る最小リフレッシュ周波数が決定されると決定すること
が可能である。本テスト動作期間中における最小リフレ
ッシュ周波数を決定するのに必要な時間は通常のDRA
M動作期間中における最小リフレッシュ周波数を決定す
るための時間よりも短いので、通常のDRAM動作期間
中におけるメモリセル1の最小リフレッシュ周波数の決
定は本テスト動作期間中における最小リフレッシュ周波
数の決定を使用してより迅速に行うことが可能である。
従って、最小リフレッシュ動作を決定するための本テス
ト動作を使用してDRAM内の各メモリセル1のテスト
を行う場合には、テスト時間が著しく節約される。
【0020】ダイナミックメモリ内のメモリセルの最小
リフレッシュ周波数を決定する本方法の動作を図3に示
してある。ステップ31において、メモリのリフレッシ
ュがテストされるべきか否かが判別される。ダイナミッ
クメモリリフレッシュがテストされるべきことが判別さ
れると、メモリセル1に対する予測される減衰時間に基
づいて所定の時間期間がステップ35において変数Xに
割り当てられる。テスト信号7(図1)によってステッ
プ33においてブートストラップ回路6がディスエーブ
ルされ、従ってダイナミックメモリのワード線デコーダ
(不図示)がワード線4を包含するワード線をVddよ
り高い電圧の代りにVddへ駆動させることが可能であ
る。例えば、テスト信号7はチップレベル入力テスト信
号及び/又はダイナミックメモリの動作を制御する制御
回路によって発生させることが可能である。次いで、ス
テップ34においてデータがメモリセル1内に書込まれ
る。例えば高論理レベルを表わすデータ等のデータがワ
ード線4を上述した如くVddへ駆動することによって
メモリセル1内に格納される。ステップ35において、
メモリセル1に関する動作は所定の時間期間Xの間中断
される。ステップ36において、メモリセル1に関して
読取動作が行われ、その後に、ステップ34においてメ
モリセル1内において書込まれたデータがステップ37
においてそれから読取られたデータと比較される。書込
まれたデータが読取られたデータと一致する場合には、
ステップ35においてより長い遅延を使用してステップ
34−37が繰返し行われる。ステップ37において、
書込まれたデータが最早読取られたデータと一致しない
場合には、本テスト動作期間中におけるメモリセル1に
対する最小リフレッシュ周波数の決定がステップ38に
おいて行われ、それはステップ37において色良い比較
を発生した最も長い時間期間遅延Xの値に対応する。
リフレッシュ周波数を決定する本方法の動作を図3に示
してある。ステップ31において、メモリのリフレッシ
ュがテストされるべきか否かが判別される。ダイナミッ
クメモリリフレッシュがテストされるべきことが判別さ
れると、メモリセル1に対する予測される減衰時間に基
づいて所定の時間期間がステップ35において変数Xに
割り当てられる。テスト信号7(図1)によってステッ
プ33においてブートストラップ回路6がディスエーブ
ルされ、従ってダイナミックメモリのワード線デコーダ
(不図示)がワード線4を包含するワード線をVddよ
り高い電圧の代りにVddへ駆動させることが可能であ
る。例えば、テスト信号7はチップレベル入力テスト信
号及び/又はダイナミックメモリの動作を制御する制御
回路によって発生させることが可能である。次いで、ス
テップ34においてデータがメモリセル1内に書込まれ
る。例えば高論理レベルを表わすデータ等のデータがワ
ード線4を上述した如くVddへ駆動することによって
メモリセル1内に格納される。ステップ35において、
メモリセル1に関する動作は所定の時間期間Xの間中断
される。ステップ36において、メモリセル1に関して
読取動作が行われ、その後に、ステップ34においてメ
モリセル1内において書込まれたデータがステップ37
においてそれから読取られたデータと比較される。書込
まれたデータが読取られたデータと一致する場合には、
ステップ35においてより長い遅延を使用してステップ
34−37が繰返し行われる。ステップ37において、
書込まれたデータが最早読取られたデータと一致しない
場合には、本テスト動作期間中におけるメモリセル1に
対する最小リフレッシュ周波数の決定がステップ38に
おいて行われ、それはステップ37において色良い比較
を発生した最も長い時間期間遅延Xの値に対応する。
【0021】本発明に基づくテスト動作期間中にメモリ
セル1に対する最小リフレッシュ周波数の決定に続い
て、通常動作(ブートストラップ回路6がイネーブルさ
れてワード線5をVddを超える電圧へ駆動することが
可能)期間中におけるメモリセル1に対する最小リフレ
ッシュ周波数をステップ39において計算することが可
能である。
セル1に対する最小リフレッシュ周波数の決定に続い
て、通常動作(ブートストラップ回路6がイネーブルさ
れてワード線5をVddを超える電圧へ駆動することが
可能)期間中におけるメモリセル1に対する最小リフレ
ッシュ周波数をステップ39において計算することが可
能である。
【0022】ステップ35における異なる遅延期間Xを
使用してステップ34−37を繰返し行うことにより、
本発明テスト方法の上述した動作を使用してメモリセル
1に対する正確なリフレッシュタイミングパラメータを
特性付けする及び/又は決定することが可能である。メ
モリセル1に対するリフレッシュタイミングパラメータ
が許容可能な範囲内にあるか否かを決定するためにステ
ップ34−37を一度だけ実施することが必要であるに
過ぎないことを理解すべきである。この場合には、ステ
ップ35におけるメモリセル1の中断/遅延動作期間
は、ダイナミックメモリに対する最小の所要リフレッシ
ュ周波数に対応するように選択される。書込まれたデー
タがステップ37において検索したデータと一致する場
合には、メモリセル1はその特定されているリフレッシ
ュパラメータに適合するものと判別される。
使用してステップ34−37を繰返し行うことにより、
本発明テスト方法の上述した動作を使用してメモリセル
1に対する正確なリフレッシュタイミングパラメータを
特性付けする及び/又は決定することが可能である。メ
モリセル1に対するリフレッシュタイミングパラメータ
が許容可能な範囲内にあるか否かを決定するためにステ
ップ34−37を一度だけ実施することが必要であるに
過ぎないことを理解すべきである。この場合には、ステ
ップ35におけるメモリセル1の中断/遅延動作期間
は、ダイナミックメモリに対する最小の所要リフレッシ
ュ周波数に対応するように選択される。書込まれたデー
タがステップ37において検索したデータと一致する場
合には、メモリセル1はその特定されているリフレッシ
ュパラメータに適合するものと判別される。
【0023】テスト中のダイナミックメモリセルにおけ
る各メモリセルに対してステップ34−37を実施する
ことが可能である。ブートストラップ回路6は、リフレ
ッシュタイミングパラメータをテストする期間中のみと
する代りにダイナミックメモリ装置の全体的なテストに
わたってディスエーブルさせることが可能である。この
場合には、テスト信号7は、ダイナミックメモリを例え
ばBIST関連回路等のテストモードの形態とさせる回
路又は信号によって発生させることが可能である。
る各メモリセルに対してステップ34−37を実施する
ことが可能である。ブートストラップ回路6は、リフレ
ッシュタイミングパラメータをテストする期間中のみと
する代りにダイナミックメモリ装置の全体的なテストに
わたってディスエーブルさせることが可能である。この
場合には、テスト信号7は、ダイナミックメモリを例え
ばBIST関連回路等のテストモードの形態とさせる回
路又は信号によって発生させることが可能である。
【0024】本方法は、ダイナミックメモリの最小リフ
レッシュ周波数を決定するためにダイナミックメモリ用
の自動リフレッシュ発生回路に関連して使用することが
可能である。この場合には、ダイナミックメモリ用の自
動リフレッシュ発生回路(不図示)は、異なる周波数に
おいてリフレッシュ動作を実施すべくチップレベルテス
ト信号7に応答してプログラムすることが可能である。
メモリ動作の任意のシーケンス内において、書込動作及
びリフレッシュ動作のいずれか一方又は両方が、ブート
ストラップ回路6がディスエーブルされている間に実施
される。あるリフレッシュ周波数においてのリフレッシ
ュ動作が関与するテストシーケンス期間中において1つ
又はそれ以上のメモリ読取動作が失敗すると、成功した
読取動作に対応する最も高いリフレッシュ周波数がテス
トモードの形態とされているダイナミックメモリの最小
リフレッシュ周波数を表わす。通常即ち動作モードで動
作しているダイナミックメモリに対する最小リフレッシ
ュ周波数はそれから計算することが可能である。
レッシュ周波数を決定するためにダイナミックメモリ用
の自動リフレッシュ発生回路に関連して使用することが
可能である。この場合には、ダイナミックメモリ用の自
動リフレッシュ発生回路(不図示)は、異なる周波数に
おいてリフレッシュ動作を実施すべくチップレベルテス
ト信号7に応答してプログラムすることが可能である。
メモリ動作の任意のシーケンス内において、書込動作及
びリフレッシュ動作のいずれか一方又は両方が、ブート
ストラップ回路6がディスエーブルされている間に実施
される。あるリフレッシュ周波数においてのリフレッシ
ュ動作が関与するテストシーケンス期間中において1つ
又はそれ以上のメモリ読取動作が失敗すると、成功した
読取動作に対応する最も高いリフレッシュ周波数がテス
トモードの形態とされているダイナミックメモリの最小
リフレッシュ周波数を表わす。通常即ち動作モードで動
作しているダイナミックメモリに対する最小リフレッシ
ュ周波数はそれから計算することが可能である。
【0025】以上、本発明の具体的実施の態様について
詳細に説明したが、本発明は、これら具体例にのみ制限
されるべきものではなく、本発明の技術的範囲を逸脱す
ることなしに種々の変形が可能であることは勿論であ
る。
詳細に説明したが、本発明は、これら具体例にのみ制限
されるべきものではなく、本発明の技術的範囲を逸脱す
ることなしに種々の変形が可能であることは勿論であ
る。
【図1】 本発明の好適実施例に基づくダイナミックラ
ンダムアクセスメモリ格納セル及び対応するブートスト
ラップ回路を示した概略図。
ンダムアクセスメモリ格納セル及び対応するブートスト
ラップ回路を示した概略図。
【図2】 (A)及び(B)は本発明の好適実施例に基
づくテスト方法及びダイナミックメモリに対する従来の
書込動作に関連する電圧波形を示した各グラフ図。
づくテスト方法及びダイナミックメモリに対する従来の
書込動作に関連する電圧波形を示した各グラフ図。
【図3】 本発明の好適実施例に基づくテスト方法を示
したフローチャート。
したフローチャート。
1 ダイナミックランダムアクセスメモリ 2 トランジスタ 3 格納コンデンサ 4 ワード線 5 ビット線 6 ブートストラップ回路
Claims (20)
- 【請求項1】 高基準電圧源及び低基準電圧源へ接続さ
れており且つ少なくとも1個のメモリセルと、前記メモ
リセルへ選択的に接続される少なくとも1本のビット線
と、前記メモリセルへ接続されている少なくとも1本の
ワード線と、書込動作期間中に前記基準電圧源を超える
電圧を供給するために前記ワード線へ接続されているブ
ートストラップ回路とを具備するダイナミックメモリ装
置のリフレッシュタイミングをテストする方法におい
て、 前記ダイナミックメモリのメモリセル内にデータを書込
み、 所定時間期間の間待機し、 前記メモリセル内に格納されているデータを読取り、 前記メモリセル内に書込んだデータを前記メモリセルか
ら読取ったデータと比較する、上記各ステップを有して
おり、前記メモリセル内へデータを書込むステップが、
前記高基準電圧源を超えるブートストラップ回路駆動電
圧レベルよりも低い電圧レベルへ前記ワード線を駆動さ
せることを包含していることを特徴とする方法。 - 【請求項2】 請求項1において、前記メモリセル内に
データを書込むステップが、更に、前記メモリセル内へ
データを書込む場合に前記ブートストラップ回路をディ
スエーブルさせることを包含していることを特徴とする
方法。 - 【請求項3】 請求項2において、更に、 最初に前記ダイナミックメモリをテストモードの形態と
させる、上記ステップを有しており、前記ブートストラ
ップ回路をディスエーブルさせるステップが、前記ダイ
ナミックメモリがテストモードの形態とされていること
の確認に応答して実施されることを特徴とする方法。 - 【請求項4】 請求項1において、更に、 前記データの書込ステップと、待機ステップと、データ
の読取ステップと、を連続して繰返し行い且つ多数回の
比較を行い、 前記各待機ステップを異なる所定時間期間でアップデー
トする、上記各ステップを有することを特徴とする方
法。 - 【請求項5】 請求項4において、前記データの書込ス
テップ、待機ステップ、データの読取ステップ及び比較
ステップを、前記メモリセルから読取ったデータが前記
比較ステップにおいて前記メモリセル内に書込んだデー
タと一致しなくなるまで連続的に繰返し行うことを特徴
とする方法。 - 【請求項6】 請求項1において、更に、前記比較ステ
ップに基づいて前記ダイナミックメモリに対する最小リ
フレッシュ周波数を決定するステップを有していること
を特徴とする方法。 - 【請求項7】 請求項6において、前記ダイナミックメ
モリが動作モード及びテストモードに選択的に形態を特
定することが可能であり、且つ前記最小リフレッシュ周
波数を決定するステップが、前記テストモードの形態と
されている場合に前記ダイナミクメモリの最小リフレッ
シュ周波数を決定するステップと前記動作モードの形態
とされている場合に前記ダイナミックメモリの最小リフ
レッシュ周波数を決定するステップとを包含しているこ
とを特徴とする方法。 - 【請求項8】 請求項7において、前記動作モードにあ
る場合に前記ダイナミックメモリの最小リフレッシュ周
波数を決定するステップが、前記テストモードにある場
合に前記ダイナミックメモリの最小リフレッシュ周波数
を決定するステップに基づいて動作モードにある場合に
前記ダイナミックメモリに対する最小リフレッシュ周波
数を計算するステップを包含していることを特徴とする
方法。 - 【請求項9】 請求項1において、前記データを書込む
ステップが、高論理レベルを表わすデータを前記ダイナ
ミックメモリのメモリセル内に書込むことを包含してい
ることを特徴とする方法。 - 【請求項10】 高基準電圧源及び低基準電圧源へ接続
されており且つ複数個のメモリセルと、少なくとも1個
のワード線と、前記高基準電圧源より一層高い電圧を前
記ワード線へ供給する手段とを具備しているダイナミッ
クメモリをテストする方法において、 前記ダイナミックメモリを選択的にテストモードの形態
とさせ、 前記ダイナミックメモリのメモリセル内にデータを書込
み、 前記ダイナミックメモリのメモリセルからデータを読取
り、 前記ダイナミックメモリのメモリセル内に書込んだデー
タをそれから読取ったデータと比較する、上記各ステッ
プを有しており、前記ダイナミックメモリのメモリセル
内にデータを書込むステップが、前記データを書込むス
テップ期間中に前記電圧供給手段を選択的にディスエー
ブルさせることを包含していることを特徴とする方法。 - 【請求項11】 請求項10において、前記電圧供給手
段をディスエーブルさせるステップが、前記ダイナミッ
クメモリがテストモードの形態とされていることの確認
に基づいて行われることを特徴とする方法。 - 【請求項12】 請求項10において、更に、前記ダイ
ナミックメモリのメモリセルを所定の頻度でリフレッシ
ュさせるステップを有していることを特徴とする方法。 - 【請求項13】 請求項10において、1個のメモリセ
ルに対して、前記メモリセル内のデータを読取るステッ
プが前記メモリセル内にデータを書込むステップに続く
所定の時間期間において実施されることを特徴とする方
法。 - 【請求項14】 請求項10において、更に、前記ダイ
ナミックメモリに対する最小リフレッシュ周波数を決定
するステップを有していることを特徴とする方法。 - 【請求項15】 請求項14において、前記最小リフレ
ッシュ周波数を決定するステップが、テストモードにあ
る場合に前記ダイナミックメモリの最小リフレッシュ周
波数を決定することを包含していることを特徴とする方
法。 - 【請求項16】 請求項15において、前記最小リフレ
ッシュ周波数を決定するステップが、テストモードにあ
る場合に前記ダイナミックメモリの最小リフレッシュ周
波数を決定するステップに基づいて動作モードにある場
合に前記ダイナミックメモリの最小リフレッシュ周波数
を計算することを包含していることを特徴とする方法。 - 【請求項17】 請求項14において、前記最小リフレ
ッシュ周波数を決定するステップが、メモリセル内にデ
ータを書込むステップの実行と前記メモリセルからデー
タを読取るステップの実行との間の時間期間に基づいて
行われることを特徴とする方法。 - 【請求項18】 請求項17において、前記メモリセル
内にデータを書込むステップの実行と前記メモリセルか
らデータを読取るステップの実行との間の前記時間期間
が予め定められていることを特徴とする方法。 - 【請求項19】 高基準電圧源及び低基準電圧源へ接続
可能なダイナミックランダムアクセスメモリ装置におい
て、 少なくとも1個のメモリセル、 前記メモリセルへ選択的に接続される少なくとも1本の
ビット線、 前記メモリセルへ接続されている少なくとも1本のワー
ド線、 前記高基準電圧源を超える電圧を前記ワード線上へ供給
する手段、 前記メモリセル内にデータを書込む場合に前記電圧を供
給する手段を選択的にディスエーブルさせ且つ前記高基
準電圧源を超える前記電圧より低い電圧を前記ワード線
上に供給する手段、を有していることを特徴とする装
置。 - 【請求項20】 請求項19において、前記選択的にデ
ィスエーブルさせる手段がメモリセルリフレッシュパラ
メータをテストする場合に前記電圧を供給する手段をデ
ィスエーブルさせることを特徴とする装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/136,175 US6167544A (en) | 1998-08-19 | 1998-08-19 | Method and apparatus for testing dynamic random access memory |
US09/136175 | 1998-08-19 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000067600A true JP2000067600A (ja) | 2000-03-03 |
Family
ID=22471675
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11232152A Pending JP2000067600A (ja) | 1998-08-19 | 1999-08-19 | ダイナミックランダムアクセスメモリをテストする方法及び装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6167544A (ja) |
EP (1) | EP0987717B1 (ja) |
JP (1) | JP2000067600A (ja) |
DE (1) | DE69931442D1 (ja) |
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JP2011502326A (ja) * | 2007-10-29 | 2011-01-20 | アギア システムズ インコーポレーテッド | メモリ・デバイスをテストする方法および機器 |
JP2011128451A (ja) * | 2009-12-18 | 2011-06-30 | Toshiba Corp | 記憶制御装置、電子機器、および記憶制御方法 |
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KR100689708B1 (ko) * | 2005-01-05 | 2007-03-08 | 삼성전자주식회사 | 반도체 장치 |
US20110156357A1 (en) * | 2009-12-28 | 2011-06-30 | Nissin Kogyo Co., Ltd. | Dynamic seal member |
KR20170090357A (ko) * | 2016-01-28 | 2017-08-07 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치의 동작 방법 |
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US20220230677A1 (en) * | 2021-01-15 | 2022-07-21 | Changxin Memory Technologies, Inc. | Self-refresh frequency detection method |
CN114187955B (zh) * | 2022-01-10 | 2023-09-05 | 长鑫存储技术有限公司 | 存储器阵列的测试方法、装置、设备及存储介质 |
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JP3776461B2 (ja) * | 1991-08-30 | 2006-05-17 | 株式会社東芝 | 半導体集積回路装置およびチップ選別方法 |
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-
1998
- 1998-08-19 US US09/136,175 patent/US6167544A/en not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-08-19 JP JP11232152A patent/JP2000067600A/ja active Pending
- 1999-08-19 DE DE69931442T patent/DE69931442D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-08-19 EP EP99306571A patent/EP0987717B1/en not_active Expired - Lifetime
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---|---|
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DE69931442D1 (de) | 2006-06-29 |
EP0987717A1 (en) | 2000-03-22 |
EP0987717B1 (en) | 2006-05-24 |
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