JP2011246736A - 酸化マグネシウム膜の成膜方法、およびプラズマ生成電極の製造方法 - Google Patents
酸化マグネシウム膜の成膜方法、およびプラズマ生成電極の製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】原料水溶液として、酢酸マグネシウム四水和物10gを水190gに溶解し、さらにエチレングリコールを2g添加したものを用意する。原料水溶液を原料霧化装置2の霧化容器21内に入れると共に、反応空間61の底部にセットした基板8をヒータ7によって400℃まで昇温させる。超音波振動子22を作動させて原料水溶液を霧化し、空気に原料水溶液のミストをキャリアさせた原料ガスを反応空間61に供給する。基板8の表面に沿って原料ガスが流れると、基板8の表面に酸化マグネシウム膜が形成される。形成された膜は、膜厚が厚くなっても透過率が低下しないことが確認された。また、エチレングリコールの代わりにジエチレングリコールを用いても同じ結果が得られることが確認された。
【選択図】図2
Description
水溶性のマグネシウム原料および多価アルコールを含有する原料水溶液を霧化し、
ミスト状になった前記原料水溶液を、加熱された基材の表面に供給することにより、当該基材の表面に酸化マグネシウム膜を形成することを特徴とする。
本実施形態の成膜方法に用いる原料水溶液は、水溶性のマグネシウム原料を水に溶解させてマグネシウム水溶液とし、これに多価アルコールを添加したものである。ここで、本実施形態の原料水溶液は、水溶性のマグネシウム原料および多価アルコールを含有したものであればよく、溶媒である水に多価アルコールを添加した後にマグネシウム原料を溶解させてもよい。また、他の添加物を含有していてもよい。
原料水溶液として、酢酸マグネシウム四水和物10gを水190gに溶解し、さらにエチレングリコールを2g(1重量%)添加したものを用意した。また、石英ガラス製の透明な基板8を用意した。原料水溶液を成膜装置1の原料霧化装置2の霧化容器21内に入れると共に、反応空間61の底部に基板8をセットし、ヒータ7の加熱により、基板8を400℃まで昇温させる。続いて、超音波振動子22を作動させて原料水溶液を霧化し、キャリアガスとして空気を用いて、このキャリアガスに原料水溶液のミストをキャリアさせた原料ガスを所定の供給速度で反応部1Bに供給する。これにより、基板8の表面に原料ガスを流し、酸化マグネシウム膜を形成した。
原料水溶液として、酢酸マグネシウム四水和物10gを水190gに溶解し、エチレングリコールに代えてジエチレングリコールを2g(1重量%)添加したものを用意した。そして、実施例1と同様に、成膜装置1を用いて、石英ガラス製の透明な基板8の表面に酸化マグネシウム膜を形成した。なお、実施例1、2において、原料水溶液におけるマグネシウム原料の含有量は上記のような値(水を95重量部に対して、酢酸マグネシウム四水和物を5重量部の比率で溶解させた値)に限定されるものではない。例えば、水を93重量部に対して、酢酸マグネシウム四水和物を7重量部の比率で溶解させても良く、実施例1、2よりもマグネシウム原料の含有量が多い原料水溶液の組成とすることも可能である。
比較例1として、酢酸マグネシウム四水和物10gを水190gに溶解したのみで、エチレングリコールやジエチレングリコールなどの多価アルコールを添加していない原料水溶液を用意した。そして、実施例1、2と同様に成膜装置1を用いて、石英ガラス製の透明な基板8の表面に酸化マグネシウム膜を形成した。
次に、本発明者らは、実施例1、2の酸化マグネシウム膜を表面に形成した電極と、比較例1の酸化マグネシウム膜を表面に形成した電極を作成した。また、比較例2として、真空蒸着法により成膜した酸化マグネシウム膜を表面に形成した電極を作成した。そして、各電極における放電開始電圧を測定した。その結果を表2に示す。
1A 原料供給部
1B 反応部
2 原料霧化装置
3 キャリアガス供給配管
4 原料ガス供給配管
5 希釈ガス供給配管
6 成膜室
7 ヒータ
8 基板
21 霧化容器
22 超音波振動子
23 原料水溶液
61 反応空間
62 整流空間
63 ガス排出口
Claims (6)
- 水溶性のマグネシウム原料および多価アルコールを含有する原料水溶液を霧化し、
ミスト状になった前記原料水溶液を、加熱された基材の表面に供給することにより、当該基材の表面に酸化マグネシウム膜を形成することを特徴とする酸化マグネシウム膜の成膜方法。 - 請求項1において、
前記多価アルコールは、エチレングリコールもしくはジエチレングリコールであることを特徴とする酸化マグネシウム膜の成膜方法。 - 請求項2において、
前記原料水溶液は、溶媒である水および前記マグネシウム原料の合計重量の少なくとも0.5重量%の前記多価アルコールを含有することを特徴とする酸化マグネシウム膜の成膜方法。 - 請求項1ないし3のいずれかの項において、
前記マグネシウム原料として、酢酸マグネシウムを用いることを特徴とする酸化マグネシウム膜の成膜方法。 - 請求項4において、
前記原料水溶液は、溶媒である水を95重量部、酢酸マグネシウム四水和物を5重量部含有し、更に、前記多価アルコールを少なくとも0.5重量部含有することを特徴とする酸化マグネシウム膜の成膜方法。 - 請求項1ないし5のいずれかの項に記載の酸化マグネシウム膜の成膜方法により、電極の表面に酸化マグネシウム膜からなる電極保護膜を形成することを特徴とするプラズマ生成電極の製造方法。
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