JP2011237769A - カラーフィルタ用着色組成物、カラーフィルタ及びカラー液晶表示素子 - Google Patents
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Abstract
Description
したがって、本発明の課題は、色度特性に優れ、現像性及び保存安定性の良好なカラーフィルタ用着色組成物を提供することにある。さらに本発明の課題は、上記着色組成物から形成された着色層を備えてなるカラーフィルタ、及び当該カラーフィルタを具備するカラー液晶表示素子を提供することにある。
(A)顔料を含む着色剤、
(B)下記式(1)で表される繰り返し単位(1)と、下記式(2)で表される繰り返し単位(2)と、酸性基を有する繰り返し単位(3)を有するブロック共重合体であって、繰り返し単位(1)を含むAブロックと、繰り返し単位(2)及び繰り返し単位(3)を含むBブロックとを有するブロック共重合体、
(C)架橋剤
を含有することを特徴とするカラーフィルタ用着色組成物を提供するものである。
しがたって、本発明のカラーフィルタ用着色組成物は、カラー液晶表示素子用カラーフィルタ、固体撮像素子の色分解用カラーフィルタ、有機EL表示素子用カラーフィルタ、電子ペーパー用カラーフィルタを始めとする各種のカラーフィルタの作製に極めて好適に使用することができる。
カラーフィルタ用着色組成物
以下、本発明のカラーフィルタ用着色組成物(以下、単に「着色組成物」という。)の構成成分について説明する。
本発明の着色組成物は、(A)着色剤として顔料を含有する。顔料としては特に限定されるものではなく、有機顔料、無機顔料のいずれでもよい。本発明において顔料は、単独で又は2種以上を混合して使用することができる。もちろん、有機顔料と無機顔料を混合して使用することもできる。
C.I.ピグメントブルー15、C.I.ピグメントブルー15:3、C.I.ピグメントブルー15:4、C.I.ピグメントブルー15:6、C.I.ピグメントブルー60、C.I.ピグメントブルー80;
C.I.ピグメントグリーン7、C.I.ピグメントグリーン36、C.I.ピグメントグリーン58;
C.I.ピグメントブラウン23、C.I.ピグメントブラウン25;
C.I.ピグメントブラック1、C.I.ピグメントブラック7。
C.I.バットブルー4、C.I.アシッドブルー40、C.I.アシッドグリーン25、C.I.リアクティブブルー19、C.I.リアクティブブルー49、C.I.ディスパースレッド60、C.I.ディスパースブルー56、C.I.ディスパースブルー60等のアントラキノン系染料;
C.I.パッドブルー5等のフタロシアニン系染料;
C.I.ベーシックブルー3、C.I.ベーシックブルー9等のキノンイミン系染料;
C.I.ソルベントイエロー33、C.I.アシッドイエロー3、C.I.ディスパースイエロー64等のキノリン系染料;
C.I.アシッドイエロー1、C.I.アシッドオレンジ3、C.I.ディスパースイエロー42等のニトロ系染料;
ディスパースイエロー201等のメチン系染料。
本発明における(B)ブロック共重合体は、繰り返し単位(1)、繰り返し単位(2)及び繰り返し単位(3)を有し、かつ繰り返し単位(1)を有するAブロックと、繰り返し単位(2)及び前記繰り返し単位(3)を有するBブロックを有するものであるが、(A)着色剤の分散剤として機能する。
上記式(1)において、R1としては、水素原子及びメチル基のうち、メチル基が好ましい。
また、Zは−N+R2R3R4Y-、−NR5R6又は置換基を有していてもよい含窒素複素環基を示し、R2〜R6は、相互に独立に、水素原子、又は置換基を有していてもよい炭化水素基を示すが、本発明において「炭化水素基」とは、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基を包含する概念であり、直鎖状、分岐状及び環状のいずれの形態であってもよく、また飽和炭化水素基でも不飽和炭化水素基でもよく、不飽和結合を分子内及び末端のいずれに有していてもよい。
上記脂肪族炭化水素基としては、炭素数1〜20(好ましくは1〜12)の脂肪族炭化水素基が好ましく、より具体的には、炭素数1〜20(好ましくは1〜12)のアルキル基、炭素数2〜20(好ましくは2〜12)のアルケニル基、炭素数2〜20(好ましくは2〜12)のアルキニル基が挙げられる。また、上記脂環式炭化水素としては、炭素数3〜20(好ましくは3〜12)の脂環式炭化水素基が好ましく、より具体的には、炭素数3〜20(好ましくは3〜12)のシクロアルキル基が挙げられる。更に、上記芳香族炭化水素基としては、炭素数6〜20(好ましくは6〜10)の芳香族炭化水素基が好ましく、より具体的には、炭素数6〜20(好ましくは6〜10)のアリール基、炭素数7〜16(好ましくは7〜12)のアラルキル基が挙げられる。ここで、本発明において「アリール基」とは、単環〜3環式芳香族炭化水素基をいう。
また、R2〜R6における置換基としては、例えば、炭素数1〜6のアルキル基、ハロゲン原子、水酸基、置換又は非置換のアミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、アルコキシ基を挙げることができる。
中でも、R2〜R6における炭化水素基としては、炭素数1〜12(好ましくは1〜6)のアルキル基、炭素数7〜16(好ましくは7〜12)のアラルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ベンジル基が特に好ましい。
不飽和複素環としては、例えば、ピリジン環、イミダゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、トリアゾール環、イミダゾリン環、テトラヒドロピリミジン環等が挙げられる。また、飽和複素環としては、例えば、モルホリン環、ピペリジン環、ピペラジン環等が挙げられる。なお、含窒素複素環基における置換基としては、例えば、炭素数1〜6のアルキル基、ハロゲン原子、カルボキシル基、エステル基、エーテル基、水酸基、アミノ基、アミド基、チオール基、チオエーテル基等が挙げられる。
上記式(2)において、R7は炭素数2〜4のアルキレン基を示すが、2種以上のアルキレン基により構成されていてもよく、エチレン基及び/又はプロピレン基が好ましい。
R8は炭素数1〜6のアルキル基を示すが、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が好ましい。
R9としては水素原子及びメチル基のうち、メチル基が好ましい。
nは1〜150の整数を示すが、1〜20の整数が好ましく、1〜10の整数がより好ましく、1〜5の整数が特に好ましい。
2価の連結基(X2)としては、例えば、メチレン基、炭素数2〜10(好ましくは2〜6)のアルキレン基、アリーレン基、−CONH−R11−基、−COO−R12−基、−OCOR13−基、−R14−OCO−R15−、−COO−(CmH2mCOO)l−CmH2m−基、−COO−R16−OCO−R17−等が挙げられる。ここで、R11〜R15は、相互に独立に、単結合、メチレン基、炭素数2〜10(好ましくは2〜6)のアルキレン基、又は炭素数2〜10のエーテル基(アルキレンオキシアルキレン基)を示し、mは1〜10の整数を示し、lは1〜4の整数を示し、R16はメチレン基又は炭素数2〜10(好ましくは2〜6)のアルキレン基を示し、R17は単結合、メチレン基、炭素数2〜10(好ましくは2〜6)のアルキレン基、シクロヘキサン−1,2−ジイル基又はフェニレン基(例えば、1,2−フェニレン基、1,4−フェニレン基)を示す。
中でも、X2としては、単結合、フェニレン基、−COO−R12−基、−COO−(CmH2mCOO)l−CmH2m−基又は−COO−R16−OCO−R17−が好ましい。
R18における炭化水素基としては上記R2と同様のものが挙げられ、上記R2と同様の置換基を有することができる。中でも、R18としては、炭素数1〜12(好ましくは1〜10)のアルキル基、炭素数6〜14のアリール基、炭素数7〜16のアラルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、2−エチルヘキシル基、フェニル基、ベンジル基、フェニルエチル基が特に好ましい。
(B)ブロック共重合体におけるAブロック/Bブロックの共重合比(質量比)は、1/99〜90/10が好ましく、10/90〜70/30がより好ましく、15/85〜60/30が特に好ましい。
Bブロックを構成する繰り返し単位は、ランダム共重合、ブロック共重合のいずれの態様で含有されていてもよい。また、各繰り返し単位は、1つのBブロック中に各々2種以上含有されていてもよく、その場合、各々の繰り返し単位は、該Bブロック中においてランダム共重合、ブロック共重合のいずれの態様で含有されていてもよい。
このような分散剤の具体例としては、商品名で、EFKA(エフカーケミカルズビーブイ(EFKA)社製)、Disperbyk(ビックケミー(BYK)社製)、ディスパロン(楠本化成(株)製)、Solsperse(ルーブリゾール社製)、KP(信越化学工業(株)製)、ポリフロー(共栄社化学(株)製)、エフトップ(トーケムプロダクツ社製)、メガファック(大日本インキ化学工業(株)製)、フロラード(住友スリーエム(株)製)、アサヒガード、サーフロン(以上、旭硝子(株)製)等を挙げることができる。また、顔料誘導体の具体例としては、銅フタロシアニン、ジケトピロロピロール、キノフタロンのスルホン酸誘導体等を挙げることができる。
本発明において(C)架橋剤とは、2個以上の重合可能な基を有する化合物をいう。重合可能な基としては、例えば、エチレン性不飽和基、オキシラニル基、オキセタニル基、N−アルコキシメチルアミノ基等を挙げることができる。本発明において、(C)架橋剤としては、2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物、又は2個以上のN−アルコキシメチルアミノ基を有する化合物が好ましい。
本発明において、(C)架橋剤は、単独で又は2種以上を混合して使用することができる。
本発明の着色組成物には、(D)バインダー樹脂を含有せしめることができる。これにより、着色組成物にアルカリ現像性や基板への結着性を高めることができる。このようなバインダー樹脂としては、特に限定されるものではないが、カルボキシル基、フェノール性水酸基等の酸性官能基を有する樹脂であることが好ましい。中でも、カルボキシル基を有する重合体(以下、「カルボキシル基含有重合体」という。)が好ましく、例えば、1個以上のカルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体(以下、「不飽和単量体(d1)」という。)と他の共重合可能なエチレン性不飽和単量体(以下、「不飽和単量体(d2)」という。)との共重合体を挙げることができる。
これらの不飽和単量体(d1)は、単独で又は2種以上を混合して使用することができる。
N−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミドの如きN−位置換マレイミド;スチレン、α−メチルスチレン、p−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、p−ビニルベンジルグリシジルエーテル、アセナフチレンの如き芳香族ビニル化合物;
ポリスチレン、ポリメチル(メタ)アクリレート、ポリ−n−ブチル(メタ)アクリレート、ポリシロキサンの如き重合体分子鎖の末端にモノ(メタ)アクリロイル基を有するマクロモノマー等を挙げることができる。
これらの不飽和単量体(d2)は、単独で又は2種以上を混合して使用することができる。
本発明の着色組成物には、(E)光重合開始剤を含有せしめることができる。これにより、着色組成物に感放射線性を付与することができる。本発明に用いる(E)光重合開始剤は、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、X線等の放射線の露光により、上記(C)架橋剤の重合を開始しうる活性種を発生する化合物である。
本発明の着色組成物は、通常、(A)顔料を含む着色剤を(F)溶剤中、(B)ブロック共重合体及び必要に応じて他の分散剤や(D)バインダー樹脂の一部と共に、例えばビーズミル、ロールミル等を用いて、粉砕しつつ混合・分散して顔料分散液とし、次いで、この顔料分散液に、(C)架橋剤と、必要に応じて(D)バインダー樹脂、(E)光重合開始剤、更に追加の(F)溶媒等を添加し、混合する方法により調製される。(F)溶媒としては、着色組成物を構成する成分(A)〜(C)や他の成分を分散又は溶解し、かつこれらの成分と反応せず、適度の揮発性を有するものである限り、適宜に選択して使用することができる。但し、上記顔料分散液を調製する際には、分散性及び安定性の点から、(f1)水酸基を有する溶媒(以下、「溶媒(f1)」とも称する。)と、(f2)水酸基を有しない溶媒(以下、「溶媒(f2)」とも称する。)を併用することが好ましい。
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテル類;
メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソプロパノール、イソブタノール、t−ブタノール、オクタノール、2−エチルヘキサノール、シクロヘキサノール等の(シクロ)アルキルアルコール類;
ジアセトンアルコール等のケトアルコール類
等を挙げることができる。
エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;
ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類;
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等のケトン類;
3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、3−メチル−3−メトキシブチルプロピオネート等のアルコキシカルボン酸エステル類;
酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸i−プロピル、酢酸n−ブチル、酢酸i−ブチル、ぎ酸n−アミル、酢酸i−アミル、プロピオン酸n−ブチル、酪酸エチル、酪酸n−プロピル、酪酸i−プロピル、酪酸n−ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸n−プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸エチル等の他のエステル類;
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;
N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド又はラクタム類
等を挙げることができる。
本発明の着色組成物は、必要に応じて、種々の添加剤を含有することもできる。
添加剤としては、例えば、ガラス、アルミナ等の充填剤;ポリビニルアルコール、ポリ(フロオロアルキルアクリレート)類等の高分子化合物;フッ素系界面活性剤、シリコン系界面活性剤等の界面活性剤;ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロイロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等の密着促進剤;2,2−チオビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,6−ジ−t−ブチルフェノール等の酸化防止剤;2−(3−t−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノン類等の紫外線吸収剤;ポリアクリル酸ナトリウム等の凝集防止剤;マロン酸、アジピン酸、イタコン酸、シトラコン酸、フマル酸、メサコン酸、2−アミノエタノール、3−アミノ−1−プロパノール、5−アミノ−1−ペンタノール、3−アミノ−1,2−プロパンジオール、2−アミノ−1,3−プロパンジオール、4−アミノ−1,2−ブタンジオール等の残渣改善剤;こはく酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕、フタル酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート等の現像性改善剤等を挙げることができる。
本発明のカラーフィルタは、本発明の着色組成物を用いて形成された着色層を備えるものである。
また、これらの基板には、所望により、シランカップリング剤等による薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティング、スパッタリング、気相反応法、真空蒸着等の適宜の前処理を施しておくこともできる。
また、上記アルカリ現像液としては、例えば、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、コリン、1,8−ジアザビシクロ−[5.4.0]−7−ウンデセン、1,5−ジアザビシクロ−[4.3.0]−5−ノネン等の水溶液が好ましい。
現像処理法としては、シャワー現像法、スプレー現像法、ディップ(浸漬)現像法、パドル(液盛り)現像法等を適用することができる。現像条件は、常温で5〜300秒が好ましい。
このようにして形成された画素の膜厚は、通常0.5〜5.0μm、好ましくは1.0〜3.0μmである。
カラーフィルタを形成する際に使用される基板や放射線の光源、また、プレベークやポストベークの方法や条件は、上記した第一の方法と同様である。このようにして、インクジェット方式により形成された画素の膜厚は、ブラックマトリックスの厚さと同程度である。
このようにして得られる本発明のカラーフィルタは、輝度及び色純度が極めて高いため、カラー液晶表素子、カラー撮像管素子、カラーセンサー、有機EL表示素子、電子ペーパー等に極めて有用である。
本発明のカラー液晶表示素子は、本発明のカラーフィルタを具備するものである。
本発明のカラー液晶表示素子は、適宜の構造をとることができる。例えば、カラーフィルタを、薄膜トランジスター(TFT)が配置された駆動用基板とは別の基板上に形成して、駆動用基板とカラーフィルタを形成した基板とが、液晶層を介して対向した構造をとることができ、さらに薄膜トランジスター(TFT)が配置された駆動用基板の表面上にカラーフィルタを形成した基板と、ITO(錫をドープした酸化インジュウム)電極を形成した基板とが、液晶層を介して対向した構造をとることもできる。後者の構造は、開口率を格段に向上させることができ、明るく高精細な液晶表示素子が得られるという利点を有する。
は、下記実施例に限定されるものではない。
合成例1
攪拌子を備えたフラスコ内で、メタクリル酸(以下、「MA」と称する。)1.4g、メトキシポリエチレングリコールモノメタクリレート(PME−200 日油株式会社製)(以下、「PME−200」と称する。)5.6g、ノルマルブチルメタクリレート(以下、「nBMA」と称する。)5.0g、2−エチルヘキシルメタクリレート(以下、「EHMA」と称する。)5.0g、ベンジルメタクリレート(以下、「BzMA」と称する。)1.7g、メタクリル酸メチル(以下、「MMA」と称する。)7.8g、2,2'−アゾビスイソブチロニトリル(以下、「AIBN」と称する。)303mg及びピラゾール−1−ジチオカルボン酸シアノ(ジメチル)メチルエステル781mgを、トルエン30mLに溶解し、30分間窒素バブリングを行った。その後ゆるやかに攪拌して、反応溶液の温度を60℃に上昇させ、この温度を24時間保持してリビングラジカル重合を行った。
次いで、AIBN73mgとジメチルアミノエチルメタクリレート(以下、「DAMA」と称する。)1.4gをトルエン20mLに溶解し30分間窒素置換を行った溶液を上記反応溶液に添加し、60℃で24時間リビングラジカル重合を行った。その後、減圧濃縮により溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに置換するとともに、不揮発分を40質量%とした。このようにして、DAMA由来の繰り返し単位を有するAブロックと、MA、PME−200、nBMA、EHMA、BzMA及びMMA由来の繰り返し単位を有するBブロックからなるブロック共重合体溶液を得た。得られたブロック共重合体を「ブロック共重合体(B−1)」とする。
攪拌子を備えたフラスコ内で、MA1.4g、PME−200を8.4g、nBMA12.9g、AIBN224mg及びピラゾール−1−ジチオカルボン酸シアノ(ジメチル)メチルエステル579mgを、トルエン30mLに溶解し、30分間窒素バブリングを行った。その後ゆるやかに攪拌して、反応溶液の温度を57℃に上昇させ、この温度を34時間保持してリビングラジカル重合を行った。
次いで、AIBN277mgとDAMA5.3gをトルエン20mLに溶解し30分間窒素置換を行った溶液を上記反応溶液に添加し、57℃で34時間リビングラジカル重合を行った。その後、減圧濃縮により溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに置換するとともに、不揮発分を40質量%とした。このようにして、DAMA由来の繰り返し単位を有するAブロックと、MA、PME−200及びnBMA由来の繰り返し単位を有するBブロックからなるブロック共重合体を得た。得られたブロック共重合体を「ブロック共重合体(B−2)」とする。
攪拌子を備えたフラスコ内で、MA1.4g、PME−200を4.2g、nBMA2.8g、MMA3.4g、AIBN139mg及びピラゾール−1−ジチオカルボン酸シアノ(ジメチル)メチルエステル357mgを、トルエン30mLに溶解し、30分間窒素バブリングを行った。その後ゆるやかに攪拌して、反応溶液の温度を60℃に上昇させ、この温度を24時間保持してリビングラジカル重合を行った。
次いで、AIBN277mgとDAMA16.2gをトルエン20mLに溶解し30分間窒素置換を行った溶液を上記反応溶液に添加し、60℃で24時間リビングラジカル重合を行った。その後、減圧濃縮により溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに置換するとともに、不揮発分を40質量%とした。このようにして、DAMA由来の繰り返し単位を有するAブロックと、MA、PME−200、nBMA及びMMA由来の繰り返し単位を有するBブロックからなるブロック共重合体を得た。得られたブロック共重合体を「ブロック共重合体(B−3)」とする。
攪拌子を備えたフラスコ内で、MA1.4g、PME−200を2.8g、nBMA2.8g、BzMA2.8g、AIBN101mg及びピラゾール−1−ジチオカルボン酸シアノ(ジメチル)メチルエステル261mgを、トルエン30mLに溶解し、30分間窒素バブリングを行った。その後ゆるやかに攪拌して、反応溶液の温度を60℃に上昇させ、この温度を24時間保持してリビングラジカル重合を行った。
次いで、AIBN946mgとDAMA18.2gをトルエン20mLに溶解し30分間窒素置換を行った溶液を上記反応溶液に添加し、60℃で24時間リビングラジカル重合を行った。その後、減圧濃縮により溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに置換するとともに、不揮発分を40質量%とした。このようにして、DAMA由来の繰り返し単位を有するAブロックと、MA、PME−200、nBMA及びBzMA由来の繰り返し単位を有するBブロックからなるブロック共重合体を得た。得られたブロック共重合体を「ブロック共重合体(B−4)」とする。
攪拌子を備えたフラスコ内で、MA0.5g、PME−200を10.6g、nBMA10.9g、AIBN199mg及びピラゾール−1−ジチオカルボン酸シアノ(ジメチル)メチルエステル513mgを、トルエン30mLに溶解し、30分間窒素バブリングを行った。その後ゆるやかに攪拌して、反応溶液の温度を57℃に上昇させ、この温度を34時間保持してリビングラジカル重合を行った。
次いで、AIBN306mgとDAMA5.9gをトルエン20mLに溶解し30分間窒素置換を行った溶液を上記反応溶液に添加し、57℃で34時間リビングラジカル重合を行った。その後、減圧濃縮により溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに置換するとともに、不揮発分を40質量%とした。このようにして、DAMA由来の繰り返し単位を有するAブロックと、MA、PME−200及びnBMA由来の繰り返し単位を有するBブロックからなるブロック共重合体を得た。得られたブロック共重合体を「ブロック共重合体(B−5)」とする。
攪拌子を備えたフラスコ内で、MA3.1g、PME−200を2.8g、nBMA3.6g、EHMA3.6g、BzMA1.4g、MMA7.6g、AIBN312mg及びピラゾール−1−ジチオカルボン酸シアノ(ジメチル)メチルエステル768mgを、トルエン30mLに溶解し、30分間窒素バブリングを行った。その後ゆるやかに攪拌して、反応溶液の温度を57℃に上昇させ、この温度を34時間保持してリビングラジカル重合を行った。
次いで、AIBN336mgとDAMA5.9gをトルエン20mLに溶解し30分間窒素置換を行った溶液を上記反応溶液に添加し、57℃で34時間リビングラジカル重合を行った。その後、減圧濃縮により溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに置換するとともに、不揮発分を40質量%とした。このようにして、DAMA由来の繰り返し単位を有するAブロックと、MA、PME−200、nBMA、EHMA、BzMA及びMMA由来の繰り返し単位を有するBブロックからなるブロック共重合体を得た。得られたブロック共重合体を「ブロック共重合体(B−6)」とする。
攪拌子を備えたフラスコ内で、MA5.6g、PME−200を4.8g、nBMA11.8g、AIBN270mg及びピラゾール−1−ジチオカルボン酸シアノ(ジメチル)メチルエステル696mgを、トルエン30mLに溶解し、30分間窒素バブリングを行った。その後ゆるやかに攪拌して、反応溶液の温度を60℃に上昇させ、この温度を24時間保持してリビングラジカル重合を行った。
次いで、AIBN306mgとDAMA5.9gをトルエン20mLに溶解し30分間窒素置換を行った溶液を上記反応溶液に添加し、60℃で24時間リビングラジカル重合を行った。その後、減圧濃縮により溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに置換するとともに、不揮発分を40質量%とした。このようにして、DAMA由来の繰り返し単位を有するAブロックと、MA、PME−200及びnBMA由来の繰り返し単位を有するBブロックからなるブロック共重合体を得た。得られたブロック共重合体を「ブロック共重合体(B−7)」とする。
攪拌子を備えたフラスコ内で、MA11.2g、PME−200を2.8g、nBMA2.8g、EHMA1.4g、BzMA1.4g、MMA2.8g、AIBN332mg及びピラゾール−1−ジチオカルボン酸シアノ(ジメチル)メチルエステル856mgを、トルエン30mLに溶解し、30分間窒素バブリングを行った。その後ゆるやかに攪拌して、反応溶液の温度を60℃に上昇させ、この温度を24時間保持してリビングラジカル重合を行った。
次いで、AIBN291mgとDAMA5.6gをトルエン20mLに溶解し30分間窒素置換を行った溶液を上記反応溶液に添加し、60℃で24時間リビングラジカル重合を行った。その後、減圧濃縮により溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに置換するとともに、不揮発分を40質量%とした。このようにして、DAMA由来の繰り返し単位を有するAブロックと、MA、PME−200、nBMA、EHMA、BzMA及びMMA由来の繰り返し単位を有するBブロックからなるブロック共重合体を得た。得られたブロック共重合体を「ブロック共重合体(B−8)」とする。
攪拌子を備えたフラスコ内で、MA1.4g、PME−200を1.9g、nBMA3.5g、EHMA3.5g、BzMA1.6g、MMA7.2g、AIBN337mg及びピラゾール−1−ジチオカルボン酸シアノ(ジメチル)メチルエステル621mgを、トルエン30mLに溶解し、30分間窒素バブリングを行った。その後ゆるやかに攪拌して、反応溶液の温度を62℃に上昇させ、この温度を20時間保持してリビングラジカル重合を行った。
次いで、AIBN640mgとDAMA8.8gをトルエン20mLに溶解し30分間窒素置換を行った溶液を上記反応溶液に添加し、62℃で20時間リビングラジカル重合を行った。その後、減圧濃縮により溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに置換するとともに、不揮発分を40質量%とした。このようにして、DAMA由来の繰り返し単位を有するAブロックと、MA、PME−200、nBMA、EHMA、BzMA及びMMA由来の繰り返し単位を有するBブロックからなるブロック共重合体を得た。得られたブロック共重合体を「ブロック共重合体(B−9)」とする。
攪拌子を備えたフラスコ内で、MA1.4g、PME−200を7.3g、nBMA5.6g、EHMA2.8g、BzMA1.5g、MMA1.5g、AIBN197mg及びピラゾール−1−ジチオカルボン酸シアノ(ジメチル)メチルエステル507mgを、トルエン30mLに溶解し、30分間窒素バブリングを行った。その後ゆるやかに攪拌して、反応溶液の温度を57℃に上昇させ、この温度を34時間保持してリビングラジカル重合を行った。
次いで、AIBN312mgと、上記モノマー1を7.8gをトルエン20mLに溶解し30分間窒素置換を行った溶液を上記反応溶液に添加し、57℃で34時間リビングラジカル重合を行った。その後、減圧濃縮により溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに置換するとともに、不揮発分を40質量%とした。このようにして、モノマー1由来の繰り返し単位を有するAブロックと、MA、PME−200、nBMA、EHMA、BzMA及びMMA由来の繰り返し単位を有するBブロックからなるブロック共重合体を得た。得られたブロック共重合体を「ブロック共重合体(B−10)」とする。
フラスコにテトラヒドロフラン(以下、「THF」と称する。)594.35g、塩化リチウム(3.63質量%濃度THF溶液)10.98gを加え、−60℃まで冷却した。その後、n−ブチルリチウム7.89g(15.36質量%濃度ヘキサン溶液)を加え、10分間熟成した。
次に、メタクリル酸1−エトキシエチル(以下、「EEMA」と称する。)4.04g、nBMA61.33g、PME−200、26.19gの混合液を30分かけて滴下し、滴下後30分反応を継続した。そしてガスクロマトグラフィー(以下、「GC」と称する。)・GPC(移動相THF、DMF)を測定し、モノマーの消失を確認した。
次に、DAMA39.71gを滴下し、滴下後30分反応継続した。そして、GC・GPC(移動相DMF)を測定し、モノマーの消失を確認した後、メタノール3.21gを加えて反応を停止した。
得られた前駆体共重合体の50質量%濃度のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液200gを、160℃に加温し3時間反応させることにより、EEMAの脱保護を行った。その後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを添加することにより、不揮発分を40質量%とした。このようにして、DAMA由来の繰り返し単位を有するAブロックと、MA、PME−200及びnBMA由来の繰り返し単位を有するBブロックからなるブロック共重合体を得た。得られたブロック共重合体を「ブロック共重合体(B−11)」とする。
フラスコにTHF578.66g、塩化リチウム(3.63質量%濃度THF溶液)11.20gを加え、−60℃まで冷却した。その後、n−ブチルリチウム(15.36質量%濃度ヘキサン溶液)7.34gを加え、10分間熟成した。
続いて、MMA4.30gを添加し、5分間反応を継続した。そして、GC測定でモノマーの消失を確認後、一部をサンプリングしてGPC測定を行ったところ、分子量293(2.92量体)の重合体が生成していた。
次に、EEMA4.52g、EHMA19.80g、nBMA19.50g、MMA36.48g、BzMA15.03g、PME−200、11.99gの混合液を30分かけて滴下し、滴下後30分間反応を継続した。そしてGC・GPC(移動相THF、DMF)を測定しモノマーの消失を確認した。
次にDAMA36.98gを滴下し、滴下後30分間、反応を継続した。そしてGC・GPC(移動相DMF)を測定しモノマーの消失を確認した後、メタノール3.21gを加えて反応を停止した。
得られた前駆体共重合体の50質量%濃度のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液200gを、160℃に加温し3時間反応させることにより、EEMAの脱保護を行った。その後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを添加することにより、不揮発分を40質量%とした。このようにして、DAMA由来の繰り返し単位を有するAブロックと、MA、PME−200、nBMA、EHMA、BzMA及びMMA由来の繰り返し単位を有するBブロックからなるブロック共重合体を得た。得られたブロック共重合体を「ブロック共重合体(B−12)」とする。
フラスコにTHF558.67g、塩化リチウム(3.63質量%濃度THF溶液)10.28gを加え、−60℃まで冷却した。その後、n−ブチルリチウム(15.36質量%濃度ヘキサン溶液)7.60gを加え、10分間熟成した。
続いて、MMA4.38gを添加し、5分間反応を継続した。そしてGC測定でモノマーの消失を確認後、一部をサンプリングしてGPC測定を行ったところ、分子量346(3.46量体)の重合体が生成していた。
次に、EHMA17.08g、nBMA16.95g、MMA31.66g、BzMA8.01g、PME−200、9.48gの混合液を30分かけて滴下し、滴下後30分反応を継続した。そしてGC・GPC(移動相THF、DMF)を測定しモノマーの消失を確認した。
次に、DAMA42.98gを滴下し、滴下後30分反応継続した。そしてGC・GPC(移動相DMF)を測定しモノマーの消失を確認した後、メタノール2.40gを加えて反応を停止した。その後、減圧濃縮により溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに置換するとともに、不揮発分を40質量%とした。このようにして、DAMA由来の繰り返し単位を有するAブロックと、PME−200、nBMA、EHMA、BzMA及びMMA由来の繰り返し単位を有するBブロックからなるブロック共重合体を得た。得られたブロック共重合体を「ブロック共重合体(b−1)」とする。
攪拌子を備えたフラスコ内で、MA1.4g、PME−200を8.4g、nBMA12.9g、DAMA5.3g、AIBN451mg及びピラゾール−1−ジチオカルボン酸シアノ(ジメチル)メチルエステル579mgを、トルエン50mLに溶解し、30分間窒素バブリングを行った。その後ゆるやかに攪拌して、反応溶液の温度を57℃に上昇させ、この温度を34時間保持してラジカル重合を行った。
その後、減圧濃縮により溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに置換するとともに、不揮発分を40質量%とした。このようにして、MA、PME−200、nBMA及びDAMA由来の繰り返し単位を有するランダム共重合体を得た。得られたランダム共重合体を「共重合体(b−2)」とする。
上記各合成例で得た(B)ブロック共重合体のMw及びMnは、下記仕様のGPCにより測定した。表1に、測定結果を、(B)ブロック共重合体における各単量体の共重合割合(質量%)と共に示す。
装置 :GPC−104(昭和電工株式会社製)。
カラム:KD−G、KF−603、KF−602、KF−601を結合して用いた。
移動相:DMF。
上記各合成例で得た(B)ブロック共重合体の酸価を下記の要領で測定した。表1に測定結果を示す。
ブロック共重合体溶液0.5gを1mgの単位まで精密に秤量し、硝子容器に取り分けた。プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートにより50mLに希釈した後、フェノールフタレインを添加し、0.1Nエタノール性水酸化カリウム水溶液で滴定を行い、ピンク色に着色した点を終点とした。同様に空試験を行なった。(B)ブロック共重合体と空試験の0.1Nエタノール性水酸化カリウム水溶液滴下量から酸価(単位:mgKOH/g)を算出した。なお、本発明における酸価は、ブロック共重合体溶液の溶媒を除いた不揮発分1gを中和するのに必要なKOHのmg数を表す。
上記各合成例で得た(B)ブロック共重合体のアミン価を下記の要領で測定した。表1に測定結果を示す。
ブロック共重合体溶液0.5gを1mgの単位まで精密に秤量し、硝子容器に取り分けた。無水酢酸/酢酸=9/1(体積比)20mlを添加し溶解し、室温で3時間放置した。その後、さらに酢酸30mLを加えた後、電位差測定装置AT−510(京都電子工業株式会社製)を用いて、0.1mol/L過塩素酸・酢酸溶液で滴定を行った。同様に空試験を行なった。(B)ブロック共重合体と空試験の0.1mol/L過塩素酸・酢酸溶液滴下量からアミン価(単位:mgKOH/g)を算出した。なお、本発明におけるアミン価は、ブロック共重合体溶液の溶媒を除いた不揮発分1gを中和するのに必要な酸と当量のKOHのmg数を表す。
調製例1
着色剤としてC.I.ピグメントグリーン58(DIC社製)を9質量部とC.I.ピグメントイエロー150を6質量部、ブロック共重合体(B−1)溶液12.5質量部(不揮発成分=40質量%)、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート64.5質量部とプロピレングリコールモノメチルエーテル8質量部を用いて、ビーズミルにより処理して、着色剤分散液(A−1)を調製した。
調製例1において、着色剤、ブロック共重合体(B)及び溶媒の種類及び量を表2に示すように変更した以外は調製例1と同様にして、着色剤分散液(A−2)〜(A−19)
を調製した。
得られた着色剤分散液の粘度を、E型粘度計(東京計器製)を用いて測定した。また、得られた着色剤分散液を遮光ガラス容器に充填し、密閉状態で23℃にて14日間静置した後、E型粘度計(東京計器製)を用いて再度粘度を測定した。そして、調製直後の粘度に対する14日間保存後の粘度の増加率を算出し、増加率が5%未満の場合を「A」、5%以上10%未満の場合を「B」、10%以上の場合を「C」として評価した。評価結果を表2に示す。
合成例13
冷却管と攪拌機を備えたフラスコに、p−ビニルベンジルグリシジルエーテル44.0g、N−フェニルマレイミド40.0g、BzMA16.0gをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート300gに溶解し、さらにAIBN8.0g及びα−メチルスチレンダイマー8.0gを投入し、その後15分間窒素パージした。窒素パージの後、反応溶液を攪拌及び窒素バブリングしながら80℃に加熱し5時間重合した。
次いで、この反応溶液にMA17.0g、p−メトキシフェノール0.5g及びテトラブチルアンモニウムブロマイド4.4gを添加し、120℃で9時間反応させた。さらに、無水こはく酸18.5gを添加し、100℃で6時間反応させた後、液温を85℃に保持したまま2回水洗し、減圧濃縮を行うことにより、バインダー樹脂(D−1)を33質量%含む溶液を得た。このバインダー樹脂(D−1)は、GPC(溶出溶媒:テトラヒドロフラン)で測定したポリスチレン換算の重量平均分子量=7,800、GPC(溶出溶媒:テトラヒドロフラン)で測定したポリスチレン換算の重量平均分子量と数平均分子量との比=2.8であった。
冷却管と攪拌機を備えたフラスコに、BzMA30.0g、nBMA20.0g、ヒドロキシエチルメタクリレート15.0g、スチレン20.0g及びMA15.0gをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート200gに溶解し、さらにAIBN3.0g及びα−メチルスチレンダイマー5.0gを投入し、その後15分間窒素パージした。窒素パージの後、反応液を攪拌及び窒素バブリングしながら80℃に加熱し、5時間重合することにより、バインダー樹脂(D−2)を33質量%含む溶液を得た。このバインダー樹脂(D−2)は、GPC(溶出溶媒:テトラヒドロフラン)で測定したポリスチレン換算の重量平均分子量=10,000、GPC(溶出溶媒:テトラヒドロフラン)で測定したポリスチレン換算の重量平均分子量と数平均分子量との比=2.5であった。
冷却管と攪拌機を備えたフラスコに、3−メタクリロイルオキシメチル−3−エチルオキセタン25.0g、メタクリル酸18.0g、こはく酸モノ2−アクリロキシエチル9.0g、N−フェニルマレイミド10.0g、BzMA24.0g、ヒドロキシエチルメタクリレート14.0gをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート300gに溶解し、さらにAIBN6.0g及びα−メチルスチレンダイマー6.0gを投入し、その後15分間窒素パージした。窒素パージの後、反応液を攪拌及び窒素バブリングしながら80℃に加熱し、5時間重合することにより、前駆体共重合体溶液を得た。
得られた前駆体共重合体溶液200gに、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート13.4g、重合禁止剤として4−メトキシフェノール0.2gを添加し、90℃で2時間反応させた。この反応液につき、1回当たり75gのイオン交換水で2回水洗し、減圧濃縮を行うことにより、バインダー樹脂(D−3)を33質量%含む溶液を得た。バインダー樹脂(D−3)は、GPC(溶出溶媒:テトラヒドロフラン)で測定したポリスチレン換算の重量平均分子量=11,000、GPC(溶出溶媒:テトラヒドロフラン)で測定したポリスチレン換算の重量平均分子量と数平均分子量との比=1.9であった。
着色組成物の調製
実施例1
着色剤分散液(A−1)100質量部、バインダー樹脂としてバインダー樹脂(D−2)溶液33.5質量部、架橋剤として東亞合成株式会社製M−402(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートが主成分)9.7質量部、光重合開始剤として2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン(商品名イルガキュア369、チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製)4.3質量部、及び溶剤として3−エトキシプロピオン酸エチル78.4質量部を混合して、液状の着色組成物を調製した。
得られた液状組成物を、ガラス基板上に、スピンコーターを用いて塗布した後、100℃のホットプレートで2分間プレベークを行って、膜厚2.7μmの塗膜を形成した。次いで、この基板を室温に冷却したのち、基板上の塗膜に、高圧水銀ランプを用い、各塗膜に365nm、405nm及び436nmの各波長を含む放射線を、フォトマスクを介して、1,000J/m2の露光量で露光した。その後、基板上の塗膜に、23℃の0.04質量%水酸化カリウム水溶液を吐出することによりシャワー現像を行った。この際、未露光部の塗膜が完全に剥離するまでの時間(抜け時間)を測定した。そして、抜け時間が60秒未満の場合を「A」、60秒以上120秒未満の場合を「B」、120秒以上の場合を「C」として評価した。この時間が短いほど、現像速度が速く、カラーフィルタ製造のタクトタイムを短縮できるという利点がある。評価結果を表3に示す。
得られた着色組成物を、ガラス基板上に、スピンコーターを用いて塗布した後、100℃のホットプレートで2分間プレベークを行って、膜厚の異なる3枚の塗膜を形成した。次いで、これらの基板を室温に冷却したのち、基板上の塗膜に、高圧水銀ランプを用い、各塗膜に365nm、405nm及び436nmの各波長を含む放射線を、フォトマスクを介さずに、1,000J/m2の露光量で露光した。その後、220℃で20分間ポストベークを行い、基板上に硬化膜を形成した。得られた3枚の硬化膜について、カラーアナライザー(大塚電子(株)製MCPD2000)を用い、C光源、2度視野にて、CIE表色系における色度座標値(x,y)及び刺激値(Y)を測定した。測定結果より、色度座標値y=0.590のときの色度座標値x及び刺激値(Y)を求めた。評価結果を表3に示す。Blueではy値が0.090のときのY値、x値を求めた。
実施例1において、着色剤分散液、バインダー樹脂、架橋剤、光重合開始剤及び溶媒の種類及び量を表3に示すように変更した以外は実施例1と同様にして、着色組成物の調製及び評価を行った。評価結果を表3に示す。なお、青色の着色組成物(実施例6及び比較例3)に関しては、色度座標値y=0.090での色度座標値x及び刺激値(Y)を求めた。評価結果を表3に示す。
C−1:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混合物(商品名M−402、東亞合成株式会社製)
C−2:ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとこはく酸とのモノエステル化物、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート並びにジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混合物(商品名TO−1382、東亞合成株式会社製)
E−1:エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−,1−(O−アセチルオキシム)(商品名IRGACURE OX02、チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製)
E−2:2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン(商品名イルガキュア369、チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製)
EEP:3−エトキシプロピオン酸エチル
MBA:3−メトキシブチルアセテート
Claims (11)
- 次の成分(A)、(B)及び(C);
(A)顔料を含む着色剤、
(B)下記式(1)で表される繰り返し単位(1)と、下記式(2)で表される繰り返し単位(2)と、酸性基を有する繰り返し単位(3)を有するブロック共重合体であって、前記繰り返し単位(1)を含むAブロックと、前記繰り返し単位(2)及び前記繰り返し単位(3)を含むBブロックとを有するブロック共重合体、
(C)架橋剤
を含有することを特徴とするカラーフィルタ用着色組成物。
R1は、水素原子又はメチル基を示し、
Zは、−N+R2R3R4Y-(但し、R2〜R4は、相互に独立に、水素原子、又は置換基を有していてもよい炭化水素基を示し、Y-は対アニオンを示す。)、−NR5R6(但し、R5及びR6は、相互に独立に、水素原子、又は置換基を有していてもよい炭化水素基を示す。)、又は置換基を有していてもよい含窒素複素環基を示し、
X1は、2価の連結基を示す。〕
R7は、相互に独立に、炭素数2〜4のアルキレン基を示し、
R8は、炭素数1〜6のアルキル基を示し、
R9は、水素原子又はメチル基を示し、
nは、1〜150の整数を示す。〕 - 前記(B)ブロック共重合体において、全繰り返し単位中の前記繰り返し単位(1)の共重合割合が5〜70質量%である、請求項1に記載のカラーフィルタ用着色組成物。
- 前記(B)ブロック共重合体において、全繰り返し単位中の前記繰り返し単位(3)の共重合割合が0.5〜20質量%である、請求項1又は2に記載のカラーフィルタ用着色組成物。
- 前記(B)ブロック共重合体の重量平均分子量Mwと数平均分子量Mnとの比(Mw/Mn)が1.0〜1.8である、請求項1〜3のいずれか1項に記載のカラーフィルタ用着色組成物。
- 更に(D)バインダー樹脂(但し、前記(B)成分を除く。)を含有する、請求項1〜4のいずれか1項に記載のカラーフィルタ用着色組成物。
- 更に(E)光重合開始剤を含有する、請求項1〜5のいずれか1項に記載のカラーフィルタ用着色組成物。
- 着色剤として染料を更に含有するものである、請求項1〜6のいずれか1項に記載のカラーフィルタ用着色組成物。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の着色組成物を用いて形成された着色層を備えてなるカラーフィルタ。
- 請求項8に記載のカラーフィルタを具備するカラー液晶表示素子。
- 次の成分(A)、(B)及び(F);
(A)顔料を含む着色剤、
(B)下記式(1)で表される繰り返し単位(1)と、下記式(2)で表される繰り返し単位(2)と、酸性基を有する繰り返し単位(3)を有するブロック共重合体であって、前記繰り返し単位(1)を含むAブロックと、前記繰り返し単位(2)及び前記繰り返し単位(3)を含むBブロックとを有するブロック共重合体、
(F)溶媒
を含有することを特徴とするカラーフィルタ用顔料分散液。
R1は、水素原子又はメチル基を示し、
Zは、−N+R2R3R4Y-(但し、R2〜R4は、相互に独立に、水素原子、又は置換基を有していてもよい炭化水素基を示し、Y-は対アニオンを示す。)、−NR5R6(但し、R5及びR6は、相互に独立に、水素原子、又は置換基を有していてもよい炭化水素基を示す。)、又は置換基を有していてもよい含窒素複素環基を示し、
X1は、2価の連結基を示す。〕
R7は、相互に独立に、炭素数2〜4のアルキレン基を示し、
R8は、炭素数1〜6のアルキル基を示し、
R9は、水素原子又はメチル基を示し、
nは、1〜150の整数を示す。〕 - 前記(F)溶媒が(f1)水酸基を有する溶媒及び(f2)水酸基を有しない溶媒を含有するものである、請求項10に記載のカラーフィルタ用顔料分散液。
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