JP2011233692A - 光電変換素子、有機太陽電池及びそれらを用いた光電変換装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板上に、少なくとも一方が透光性を有する第1及び第2の電極と、この第1及び第2の電極間に、第1の電極側から、正孔輸送性材料と金属酸化物からなる第1の有機化合物層と、電子輸送性材料からなる第2の有機化合物層とを有し、前記第1の有機化合物層が、金属酸化物を、正孔輸送性材料と混合して含むか、又は第1の有機化合物層中に層として含み、前記正孔輸送性材料と金属酸化物のモル比が、100:0.1〜50であることを特徴とする光電変換素子。
【選択図】なし
Description
本発明によれば、以下の光電変換素子等が提供される。
1.基板上に、少なくとも一方が透光性を有する第1及び第2の電極と、
この第1及び第2の電極間に、第1の電極側から、正孔輸送性材料と金属酸化物からなる第1の有機化合物層と、電子輸送性材料からなる第2の有機化合物層とを有し、
前記第1の有機化合物層が、金属酸化物を、正孔輸送性材料と混合して含むか、又は第1の有機化合物層中に層として含み、
前記正孔輸送性材料と金属酸化物のモル比が、100:0.1〜50であることを特徴とする光電変換素子。
2.前記金属酸化物層が、厚さ0.05〜10nmの島状構造又は薄膜であることを特徴とする1に記載の光電変換素子。
3.前記金属酸化物層が、前記第2の有機化合物層との界面又は前記第1の電極との界面にあることを特徴とする1又は2に記載の光電変換素子。
4.前記金属酸化物が、モリブデン酸化物、バナジウム酸化物、タングステン酸化物、ルテニウム酸化物、レニウム酸化物、インジウム酸化物、スズ酸化物及び亜鉛酸化物の少なくとも一種であることを特徴とする1乃至3のいずれかに記載の光電変換素子。
5.前記第1の電極と第1の有機化合物層の間、及び前記第2の電極と第2の有機化合物層との間の少なくとも一方にバッファー層があることを特徴とする1乃至4のいずれかに記載の光電変換素子。
6.前記基板と共に、前記第1及び第2の電極及び第1及び第2の有機化合物層を封止する封止部材をさらに有することを特徴とする1乃至5のいずれかに記載の光電変換素子。
7.有機太陽電池である1乃至6のいずれかに記載の光電変換素子。
8.1乃至7のいずれかに記載の光電変換素子を有する光電変換装置。
第1の有機化合物層に含まれる正孔輸送性材料と金属酸化物のモル比は100:0.1〜50である。
また、基板側の電極は第1の電極でも第2の電極でもよい。
その結果デバイスの正孔輸送性が向上し、導電率の向上にも寄与する。従ってpドーパントはp層の中に分散して混合しているか、又はpドーパント層としてp層と接して位置し、p材料と一体になって機能する。
このようなpドーパントの一連の働きは、所謂ルイス酸によるものであり、このルイス酸は金属酸化物に限らず、例えばBF3,ZnCl2、SnCl4,FeCl3,AlCl3等が挙げられる。これらの中では、素子の製造安定性や変換効率の点で、金属酸化物が好ましい。
また、蒸着により製造する場合、金属酸化物は蒸着温度が高いため、有機物と等モル量入れると熱輻射等様々な問題が生じる恐れがある。
概ね膜厚範囲は0.05nm〜10nmである。好ましくは0.1nm〜5nm、さらに好ましくは0.3nm〜1nmである。しかしこれらの値はp材料の分子量及び金属酸化物の分子量に依存し、明確に定められない。尚膜厚の薄い1nm程度以下の領域では金属酸化物は膜としては形成されず、島状構造をとっている可能性があるが、そのような小さな膜厚領域でもpドーピング効果が有効に発現する。
金属酸化物は適合する蒸着温度が高い場合が多く、膜厚が10nmを超えると蒸着が難しくなる可能性がある。
特許文献1及び特許文献2では、p材料からpドーパントの電荷移動で新たに形成される電荷移動(CT)吸収の出現が光電流増加の一因となっている。しかし、本発明ではドーピング濃度がこれらの従来技術における濃度に比べ小さく、後述する図1に示すように光電流の波長依存性に関し上記CT吸収の寄与は明確にはみられない。
pドーピングの原理によれば、局所的にはCT吸収に相当する電荷移動状態が形成されていると考えられるが、それが電荷移動吸収ピークとして観測されないということは、デバイス全体の分光学的な吸収を変化させるほどの吸収はないということである。
即ち、本発明では、CT吸収に基づく励起状態(CT状態)は従来技術に比べて少ないと考えられる。
励起状態の増加が少ないにも関わらず、光電流が明確に増加する理由は、そのCT状態が内部電界を形成し、キャリヤ生成効率の向上、或いは、電極へのキャリヤ移動及び注入の向上に寄与していると考えられる。
(1)下部電極/[p層/金属酸化物層/p層]/n層/上部電極
(2)下部電極/[(p:金属酸化物)層]/n層/上部電極
(3)下部電極/[p層/金属酸化物層]/n層/上部電極
(4)下部電極/バッファー層/[p層/金属酸化物層/p層]/n層/上部電極
(5)下部電極/バッファー層/[(p:金属酸化物)層]/n層/上部電極
(6)下部電極/バッファー層/[p層/金属酸化物層]/n層/上部電極
(7)下部電極/[p層/金属酸化物層/p層]/n層/バッファー層/上部電極
(8)下部電極/[(p:金属酸化物)層]/n層/バッファー層/上部電極
(9)下部電極/[p層/金属酸化物層]/n層/バッファー層/上部電極
(10)下部電極/バッファー層/[p層/金属酸化物層/p層]/n層/バッファー層/上部電極
(11)下部電極/バッファー層/[(p:金属酸化物)層]/n層/バッファー層/上部電極
(12)下部電極/バッファー層/[p層/金属酸化物層]/n層/バッファー層/上部電極
上記(1)の構成にi層を設ける場合は、以下の構成となる。
(13)下部電極/[p層/金属酸化物層/p層]/i層/n層/上部電極
このように、i層を上記構成(2)〜(12)に対し、[p材料と金属酸化物からなる層]とn層との間に挿入することが可能である。
本発明の光電変換素子は、上記(1)〜(13)の素子を直列に積層するタンデムセル構成を採用することもできる。この場合、積層する素子の構成は同一でも異なっていてもよい。
下部電極、上部電極の材料は特に制限はなく、公知の導電性材料を使用できる。例えば、第1の有機化合物層と接続する電極としては、錫ドープ酸化インジウム(ITO)、フッ素ドープ酸化錫(FTO)、金(Au)、パラジウム(Pd)等の金属が使用でき、第2の有機化合物層と接続する電極としては、銀(Ag)、アルミニウム(Al)、インジウム(In),カルシウム(Ca),白金(Pt)リチウム(Li)等の金属やMg:Ag、Mg:InやAl:Li等の二成分金属系,さらには上記第1の有機化合物層と接続する電極例示材料が使用できる。
正孔輸送性材料は、正孔の移動度が高い材料が好ましい。正孔輸送性材料を含む第1の有機化合物層の典型的な膜厚は10〜150nmである。材料にも依存するが、好ましくは20〜100nm、さらに好ましくは30〜60nmである。
正孔輸送性材料と電子輸送性材料の混合比についても材料によっても異なるが、質量比で、正孔輸送性材料:電子輸送性材料が1:9〜9:1の範囲から最適な組み合わせを選択すればよい。典型的な膜厚は10〜100nm、材料にも依存するが、好ましくは20〜80nm,さらに好ましくは30〜50nmである。
pドーパントとして用いる金属酸化物は、とり得る酸化数が多いものが望ましい。例えば3酸化モリブデンMoO3はMoの酸化数は6であるが、蒸着時には5、4或いは3等の酸化数に対応する酸化物が混入していると考えられる。これらがp材料上に蒸着されると、より安定な6或いは5へ変化するために電子を下地のp材料から取り去り自身は安定化する。このように金属酸化物は自身が強アクセプターであるので、p材料は電子を抜き取られカチオンラジカル即ち、正孔が生成される。
一般に、有機薄膜太陽電池は総膜厚が薄いことが多く、そのため上部電極と下部電極が短絡し、セル作製の歩留まりが低下することが多い。このような場合には、バッファー層を積層することによってこれを防止することが好ましい。また、発生した電流を効率よく外部に取り出すためにもバッファー層を設けることが好ましい。第1の有機化合物層側及び第2の有機化合物層側いずれか一方或いは両側に挿入してもよい。膜厚は材料に依存するが、第1の有機化合物層或いは第2の有機化合物層の膜厚と同程度、即ち10〜100nm、材料にも依存するが、好ましくは20〜80nm,さらに好ましくは30〜50nmである。
基板は、機械的、熱的強度を有し、透明性を有するものが好ましい。例えば、ガラス基板及び透明性樹脂フィルムがある。透明性樹脂フィルムとしては、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリメチルメタアクリレート、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ナイロン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリサルホン、ポリエーテルサルフォン、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、ポリビニルフルオライド、テトラフルオロエチレン−エチレン共重合体、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリイミド、ポリプロピレン等が挙げられる。
さらに、封止デシカント(乾燥剤)として、アルミナ等の乾燥剤を封入することができる。この場合、封止デシカントは、例えばシリコーン系樹脂に配合して封入することができる。
封止方法としては、グローブボックス等の不活性雰囲気中で、ザグリガラス等のザグリ加工した封止部材に封止デシカントを挿入し、UV硬化型接着剤を用いて、素子が形成された基板と接着させる方法が例示される。
25mm×75mm×0.7mm厚のITO透明電極付きガラス基板をイソプロピルアルコール、純水、イソプロピルアルコールの順で各5分間超音波洗浄を行なった後、UVオゾン洗浄を30分間実施した。洗浄後の透明電極パターン付きガラス基板を真空蒸着装置の基板ホルダーに下面が、透明電極がパターンされた側となるように装着し、真空蒸着装置を真空排気した。真空度が5.0×10−4Paとなったところで、下部電極である透明電極パターンが形成されている側の面上に、正孔輸送性であるp材料のmTPDを0.5Å/sで15nm形成した。次にpドーパントとして、三酸化モリブデンMoO3を0.5Å/sで1nm蒸着形成した。さらにこの上にp材料のmTPDを0.5Å/sで15nm形成し、次に電子輸送性であるn材料C60を0.5Å/sで60nm蒸着形成した。続けてこの上にバッファー層として、10nmのバソクプロイン(BCP)を抵抗加熱蒸着により0.5Å/sで10nm成膜した。最後に対向電極として金属Alを膜厚100nm蒸着し、有機薄膜太陽電池を形成した。素子面積は0.6cm2であった。
尚、mTPD層30nmと三酸化モリブデン層1nmは、mTPD:三酸化モリブデンのモル比100:12に相当する。
p−ドーパントを蒸着しなかった以外は実施例1と同様にして有機薄膜太陽電池を形成し評価した。素子面積は0.6cm2であった。開放端電圧(Voc)は0.88V、短絡電流密度(Jsc)は2.39mA/cm2、曲線因子(FF)は0.39、変換効率(η)が0.82であった。
p−ドーパントとしてWO3を用いた以外は実施例1と同様にして有機薄膜太陽電池を形成し評価した。結果を表1に示す。
p−ドーパントとしてV2O5を用いた以外は実施例1と同様にして有機薄膜太陽電池を形成し評価した。結果を表1に示す。
実施例1と同じ構成の太陽電池素子をグローブボックスが接続した蒸着装置で作製し、素子を大気に晒すことなく封止した。封止は、ザグリガラスに、素子が4つ入るサイズのものを用い、UV硬化・加熱併用タイプの接着剤(スリーボンド社製、液晶デバイス向け接着剤)でザグリガラスを上記ITO付ガラス基板に固定した。このように作製した有機薄膜太陽電池を実施例1と同様に評価した。その結果、開放端電圧(Voc)が0.87V、短絡電流密度(Jsc)が3.38mA/cm2、曲線因子(FF)が0.39、変換効率(η)が1.19であった。
ピークは、p材料であるmTPD及びn材料であるC60の吸収と対応している。これらピークを形成している吸収波長に比べれば、800〜2000nmの波長域はたとえ吸収はあってもわずかである。
このことは、ドーピング量が特許文献1と異なり数パーセントレベルと非常に少なく、しかも薄膜単独層の形で挿入しても、本実施例のJscは高く、多くの光キャリヤを生成できることを示す。
太陽電池素子として比較例1と同じ構成の素子を用いた以外は実施例4と同様にして有機薄膜太陽電池を形成し評価した。結果を表1に示す。
p材料及びpドーパントの蒸着を以下のように変更した以外は実施例4と同様にして有機薄膜太陽電池を形成し評価した。
mTPDを0.5Å/sで7.5nm形成してから、三酸化モリブデンMoO3を0.5Å/sで1nm形成し、さらにこの上にmTPDを0.5Å/sで22.5nm形成した。即ち、7.5nmのmTPD層/1nmの三酸化モリブデン層/22.5nmのmTPD層の積層構造とした。即ち実施例4と比較し、本実施例はpドーパントをドーピングする位置が陽極ITO界面からp層の厚みの丁度1/4の位置に相当している。結果を表1に示す。
p材料及びpドーパントの蒸着を以下のように変更した以外は実施例4と同様にして有機薄膜太陽電池を形成し評価した。
mTPDを0.5Å/sで22.5nm形成してから、三酸化モリブデンMoO3を0.5Å/sで1nm形成し、さらにこの上にmTPDを0.5Å/sで7.5nm形成した。即ち、22.5nmのmTPD層/1nmの三酸化モリブデン層/7.5nmのmTPD層の積層構造とした。結果を表1に示す。
p材料及びpドーパントの蒸着を以下のように変更した以外は実施例4と同様にして有機薄膜太陽電池を形成し評価した。
mTPDを0.5Å/sで30nm形成してから、三酸化モリブデンMoO3を0.5Å/sで1nm形成した。即ち、30nmのmTPD層/1nmの三酸化モリブデン層の積層構造とした。結果を表1に示す。
三酸化モリブデン層の厚みを0.3nmにした以外は実施例4と同様にして有機薄膜太陽電池を形成し評価した。mTPD層30nmと三酸化モリブデン層0.3nmは、mTPD:三酸化モリブデンのモル比100:4に相当する。結果を表1に示す。
Claims (8)
- 基板上に、少なくとも一方が透光性を有する第1及び第2の電極と、
この第1及び第2の電極間に、第1の電極側から、正孔輸送性材料と金属酸化物からなる第1の有機化合物層と、電子輸送性材料からなる第2の有機化合物層とを有し、
前記第1の有機化合物層が、金属酸化物を、正孔輸送性材料と混合して含むか、又は第1の有機化合物層中に層として含み、
前記正孔輸送性材料と金属酸化物のモル比が、100:0.1〜50であることを特徴とする光電変換素子。 - 前記金属酸化物層が、厚さ0.05〜10nmの島状構造又は薄膜であることを特徴とする請求項1に記載の光電変換素子。
- 前記金属酸化物層が、前記第2の有機化合物層との界面又は前記第1の電極との界面にあることを特徴とする請求項1又は2に記載の光電変換素子。
- 前記金属酸化物が、モリブデン酸化物、バナジウム酸化物、タングステン酸化物、ルテニウム酸化物、レニウム酸化物、インジウム酸化物、スズ酸化物及び亜鉛酸化物の少なくとも一種であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の光電変換素子。
- 前記第1の電極と第1の有機化合物層の間、及び前記第2の電極と第2の有機化合物層との間の少なくとも一方にバッファー層があることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の光電変換素子。
- 前記基板と共に、前記第1及び第2の電極及び第1及び第2の有機化合物層を封止する封止部材をさらに有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の光電変換素子。
- 有機太陽電池である請求項1乃至6のいずれかに記載の光電変換素子。
- 請求項1乃至7のいずれかに記載の光電変換素子を有する光電変換装置。
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