JP2011233679A - 剥離方法及び剥離装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明に係る剥離方法は、非極性溶剤に対して溶解性を示す接着化合物又は高極性溶剤に対して溶解性を示す接着化合物により形成された接着剤層4を介してサポートプレート3が貼着されたウエハ2から、サポートプレート3を剥離する剥離方法であって、接着剤層4に上記非極性溶剤又は上記高極性溶剤を供給する供給工程を包含している。したがって、溶剤の供給時に、ウエハ2に貼り付けられたダイシングテープ5を保護する必要がない。
【選択図】図1
Description
本発明の一実施形態に係る剥離方法及び剥離装置について、図1及び2を参照して以下に説明する。
本発明の一実施形態に係る剥離方法において、ウエハ2とサポートプレート3とを貼り付けている接着剤層4に溶剤を供給する供給工程について、図1を参照して以下に説明する。図1は、本発明の一実施形態に係る剥離装置10による供給工程の概略を示す断面図である。供給工程においては、非極性溶剤に対して溶解性を示す接着化合物又は高極性溶剤に対して溶解性を示す接着化合物により形成された接着剤層4に、非極性溶剤又は高極性溶剤を供給する。接着剤層4に非極性溶剤又は高極性溶剤を供給する方法としては、特に限定されないが、図1に示す剥離装置10のような装置を用いて、接着剤層4を含む積層体1に溶剤を噴霧するスプレー方法や、接着剤層4を含む積層体1を溶剤に浸漬する方法等が挙げられる。
積層体1において、ウエハ2とサポートプレート3とは、接着剤層4により貼り付けられている。本実施形態においては、サポートプレート3として、その厚さ方向に複数の貫通孔を有する孔開きサポートプレート3を用いている。孔開きサポートプレート3を用いることによって、接着剤層4への孔を介した溶剤の供給が可能である。積層体1のウエハ2は、円形状であっても、一部にオリフラを有しており、円形状でないものであってもよい。サポートプレート3は、ウエハ2を保持できる形状であればよいが、ウエハ2に対応する形状であることが好ましい。
接着剤層4は、非極性溶剤に対して溶解性を示す接着化合物、又は高極性溶剤に対して溶解性を示す接着化合物により形成されている。したがって、接着剤層4は、非極性溶剤又は高極性溶剤によって溶解し、ウエハ2からサポートプレート3を剥離することが可能となる。
前記樹脂(A)を構成する単量体成分は、前記シクロオレフィン系モノマー(a1)と共重合可能な他のモノマーを含有していてもよく、例えば、下記一般式(2)で示されるようなアルケンモノマー(a2)をも含有することが好ましい。アルケンモノマー(a2)としては、例えば、エチレン、α−オレフィンなどが挙げられる。前記アルケンモノマー(a2)は、直鎖状であってもよいし、分岐状であってもよい。
前記樹脂(A)を構成する単量体成分は、その50質量%以上が前記シクロオレフィン系モノマー(a1)であることが好ましく、より好ましくは60質量%以上が前記シクロオレフィン系モノマー(a1)であるのがよい。シクロオレフィン系モノマー(a1)が単量体成分全体の50質量%以上であると、高温環境下における接着強度が良好なものとなる。
本実施形態に係る剥離方法及び剥離装置10において、接着剤層4に供給される溶剤は、上述した接着化合物により形成された接着剤層4を溶解することができる非極性溶剤又は高極性溶剤である。なお、溶剤の接着剤層4への浸透及び接着剤層4の溶解を促進するために、供給する溶剤の温度を適宜調節してもよい。
本発明の一実施形態に係る剥離方法において、ウエハ2を洗浄する洗浄工程について、図2を参照して以下に説明する。図2は、本発明の一実施形態に係る剥離装置10による洗浄工程の概略を示す断面図である。洗浄工程においては、上記供給工程において溶剤が接着剤層4に供給して接着剤層4が溶解し、サポートプレート3をウエハ2から剥離した後、ウエハ2上に残存する接着剤層4を取り除き、ウエハ2を洗浄する。
2 ウエハ(基板)
3 サポートプレート(支持板)
4 接着剤層
5 ダイシングテープ
6 ダイシングフレーム
10 剥離装置
11 スピンナー
12 ノズル(噴霧ノズル)
Claims (13)
- 非極性溶剤に対して溶解性を示す接着化合物又は高極性溶剤に対して溶解性を示す接着化合物により形成された接着剤層を介して支持板が貼着された基板から、当該支持板を剥離する剥離方法であって、
上記接着剤層に上記非極性溶剤又は上記高極性溶剤を供給する供給工程を包含していることを特徴とする剥離方法。 - 上記支持板には、厚さ方向に貫通した複数の貫通孔が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の剥離方法。
- 上記供給工程において、上記非極性溶剤又は上記高極性溶剤を上記支持板側から噴霧することを特徴とする請求項2に記載の剥離方法。
- 上記供給工程において、少なくとも上記支持板の中央部及び外周部のそれぞれから、上記非極性溶剤又は上記高極性溶剤を噴霧することを特徴とする請求項3に記載の剥離方法。
- 上記非極性溶剤は、溶解パラメータが8以下の溶剤であることを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載の剥離方法。
- 上記非極性溶剤は、メンタン、リモネン、ピネン、トルエン、キシレン、n−ヘキサン、イソヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、及びノナンからなる群より選択されることを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載の剥離方法。
- 上記高極性溶剤は、溶解パラメータが10以上の溶剤であることを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載の剥離方法。
- 上記高極性溶剤は、水、メタノール、エタノール、及びイソプロピルアルコールからなる群より選択されることを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載の剥離方法。
- 上記供給工程後に上記基板から上記支持板を剥離した後、上記基板に上記非極性溶剤又は上記高極性溶剤を供給して上記基板を洗浄する洗浄工程をさらに包含することを特徴とする請求項1〜8の何れか1項に記載の剥離方法。
- 非極性溶剤に対して溶解性を示す接着化合物又は高極性溶剤に対して溶解性を示す接着化合物により形成された接着剤層を介して支持板が貼着された基板から、当該支持板を剥離する剥離装置であって、
上記接着剤層に上記非極性溶剤又は上記高極性溶剤を供給する供給手段を備えていることを特徴とする剥離装置。 - 上記支持板には、厚さ方向に貫通した複数の貫通孔が設けられており、
上記供給手段は、上記支持板側から上記非極性溶剤又は上記高極性溶剤を噴霧する噴霧部を備えていることを特徴とする請求項10に記載の剥離装置。 - 上記噴霧部は、上記非極性溶剤又は上記高極性溶剤を噴霧する複数の噴霧ノズルを備えており、当該複数の噴霧ノズルのうち、少なくとも1つは上記支持板の中央部に噴霧可能に設けられており、他の少なくとも1つは上記支持板の外周部に噴霧可能に設けられていることを特徴とする請求項11に記載の剥離装置。
- 上記基板から上記支持板を剥離した後、上記基板に上記非極性溶剤又は上記高極性溶剤を供給する洗浄液供給手段をさらに備えていることを特徴とする請求項10〜12の何れか1項に記載の剥離装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Applications Claiming Priority (1)
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Publications (2)
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JP2011233679A true JP2011233679A (ja) | 2011-11-17 |
JP5523922B2 JP5523922B2 (ja) | 2014-06-18 |
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JP2010102074A Active JP5523922B2 (ja) | 2010-04-27 | 2010-04-27 | 剥離方法及び剥離装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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