JP2011222603A - 光半導体装置用リードフレームおよび光半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】波長500nm以下の紫外〜青色領域の光においても、良好な発光輝度を発揮させることを目的とする。
【解決手段】外囲樹脂内に露出するリードフレームの最表面に微粒子が共析した複合めっき層2aを形成することにより、純Agめっきに比べて可視光から紫外光までの広範囲にわたる波長領域の光の反射率を維持し、良好な発光輝度を発揮させることができる。
【選択図】図3
【解決手段】外囲樹脂内に露出するリードフレームの最表面に微粒子が共析した複合めっき層2aを形成することにより、純Agめっきに比べて可視光から紫外光までの広範囲にわたる波長領域の光の反射率を維持し、良好な発光輝度を発揮させることができる。
【選択図】図3
Description
本発明は、発光素子の搭載領域を備えるリードフレームに搭載領域を開口して外囲樹脂が形成された光半導体装置用リードフレームおよびこれを用いる光半導体装置に関するものである。
近年各種の表示用・照明用光源としてLED素子を光源とした光半導体装置が広く利用されている。特に照明用途等では、光の三原色を組み合わせて白色発光且つ高出力で使用するニーズが高まっており、高い光特性が要求されている。そこで従来の光半導体用リードフレームでは、高反射率であるAgを最表面にめっきしていた(例えば特許文献1参照)。
図7はAgめっきおよびAg−アルミナ複合めっきの反射率を示す図、図8は従来の光半導体装置の構成を示す断面図である。
図8において、一対の給電リード領域209と、一方の給電リード領域209の先端の素子が実装される素子実装部209a上に接合される発光素子208と、上記発光素子208及び各給電リード領域209の一部を覆う透光性の封止樹脂207とを含む光半導体装置201であって、上記各給電リード領域209が、それぞれ少なくとも表面が金属層から構成されていて、上記各給電リード領域209を外側に引き出した外部接続リード領域210を少なくとも含んで、上記金属層の表面に形成されたAu層を備えていて、少なくとも素子実装部209a上が上記封止樹脂207により覆われており、上記各給電リード領域209の素子実装部209a及びその周辺領域が、表面に上記Au層から分離されたAg層を備えるように、光半導体装置201を構成する。
図8において、一対の給電リード領域209と、一方の給電リード領域209の先端の素子が実装される素子実装部209a上に接合される発光素子208と、上記発光素子208及び各給電リード領域209の一部を覆う透光性の封止樹脂207とを含む光半導体装置201であって、上記各給電リード領域209が、それぞれ少なくとも表面が金属層から構成されていて、上記各給電リード領域209を外側に引き出した外部接続リード領域210を少なくとも含んで、上記金属層の表面に形成されたAu層を備えていて、少なくとも素子実装部209a上が上記封止樹脂207により覆われており、上記各給電リード領域209の素子実装部209a及びその周辺領域が、表面に上記Au層から分離されたAg層を備えるように、光半導体装置201を構成する。
しかしながら、前記従来の光半導体装置用リードフレームおよびこれを用いた光半導体装置は、リードフレーム上に施されるAgは反射率の高い金属であるものの、図7に示すように、一般的なAgめっきの反射率は、波長500nm以下の紫外〜青色領域において急激に反射率が低下するため、波長500nm以下の光の一部はAg自体によって吸収されてしまい、光半導体装置としての輝度が低下するという問題があった。
本発明は、前記従来の課題を解決するものであり、波長500nm以下の紫外〜青色領域の光においても、良好な発光輝度を発揮させることを目的とする。
前記目的を達成するために、本発明の光半導体装置用リードフレームは、素子実装部および金属細線接続部を備えるリードフレームとキャビティが形成される外囲樹脂とからなる光半導体装置用リードフレームであって、前記リードフレームが、金属芯体と、前記金属芯体上にめっきされるAgまたはAg合金めっき層と、前記AgまたはAg合金めっき層上にめっきされるAgまたはAg合金をマトリックス金属として微粒子が共析する複合めっき層とを有することを特徴とする。
また、前記金属芯体と前記AgまたはAg合金めっき層との間に下地めっき層を設けることが好ましい。
また、前記複合めっき層が、少なくとも前記素子実装部および前記金属細線接続部の前記AgまたはAg合金めっき層を露出させて前記キャビティ内にのみ施されることが好ましい。
また、前記複合めっき層が、少なくとも前記素子実装部および前記金属細線接続部の前記AgまたはAg合金めっき層を露出させて前記キャビティ内にのみ施されることが好ましい。
また、前記微粒子が3.0vol%以上30.0vol%未満で共析されることが好ましい。
また、前記複合めっき層は、AgまたはAg合金をマトリックスとし、前記微粒子としてAl2O3、BaSO4、フッ素樹脂の少なくともいずれかが共析することが好ましい。
また、前記複合めっき層は、AgまたはAg合金をマトリックスとし、前記微粒子としてAl2O3、BaSO4、フッ素樹脂の少なくともいずれかが共析することが好ましい。
また、前記微粒子の粒子径が0.1μm以上5.0μm以下であることが好ましい。
また、前記複合めっき層の厚みが1.0μm以上20.0μm以下であることが好ましい。
また、前記複合めっき層の厚みが1.0μm以上20.0μm以下であることが好ましい。
また、前記AgまたはAg合金めっき層の厚みが0.5μm以上4.0μm以下であることが好ましい。
さらに、本発明の光半導体装置は、前記光半導体装置用リードフレームと、前記素子実装部に搭載される発光素子と、前記発光素子と前記金属細線接続部とを電気的に接続する導電体と、前記キャビティ内を樹脂封止する透光性の封止樹脂とを有することを特徴とする。
さらに、本発明の光半導体装置は、前記光半導体装置用リードフレームと、前記素子実装部に搭載される発光素子と、前記発光素子と前記金属細線接続部とを電気的に接続する導電体と、前記キャビティ内を樹脂封止する透光性の封止樹脂とを有することを特徴とする。
以上により、波長500nm以下の紫外〜青色領域の光においても、良好な発光輝度を発揮させることができる。
以上のように、外囲樹脂内に露出するリードフレームの最表面に微粒子が共析した複合めっき層を形成することにより、純Agめっきに比べて可視光から紫外光までの広範囲にわたる波長領域の光の反射率を維持し、良好な発光輝度を発揮させることができる。
以下に、本発明の実施の形態を説明する。
(実施の形態1)
<光半導体装置の構成>
図1は本発明の光半導体装置の模式的な断面図、図2は本発明の光半導体装置の模式的な平面図であり、図1は図2のX−X’部分の断面に相当する。図3は実施の形態1におけるリードフレームの要部拡大断面図であり、図1のA領域に対応する領域付近を拡大したリードフレームの模式的な断面図である。図4は実施の形態1におけるリードフレームの複合めっき層形成境界部の断面図である。
(実施の形態1)
<光半導体装置の構成>
図1は本発明の光半導体装置の模式的な断面図、図2は本発明の光半導体装置の模式的な平面図であり、図1は図2のX−X’部分の断面に相当する。図3は実施の形態1におけるリードフレームの要部拡大断面図であり、図1のA領域に対応する領域付近を拡大したリードフレームの模式的な断面図である。図4は実施の形態1におけるリードフレームの複合めっき層形成境界部の断面図である。
図1に示すように、光半導体装置用リードフレームは、1または複数の素子実装部9aおよび1または複数の金属細線接続部9bを備えるリードフレーム4に対して、リードフレーム4を保持すると共に、素子実装部9aおよび金属細線接続部9bを露出する外囲樹脂5を形成するように樹脂形成することにより形成される。この外囲樹脂5によりキャビティが形成される。また、このような光半導体装置用リードフレームの素子実装部9aに発光素子8を実装し、電気接続用金属細線6を用いて発光素子8と金属細線接続部9bとを電気的に接続し、外囲樹脂5に囲まれた領域を発光素子8および電気接続用金属細線6を封止するように透光性を有する封止樹脂7にて樹脂封止することにより光半導体装置1を形成する。
本発明におけるリードフレーム4は図3に示すように、Cu、Cu合金、Fe、Fe合金等の導電性に優れる板状の金属芯体3の表面に、0.5μm以上4.0μm以下の厚み、好ましくは1.6μmの厚みでAgまたはAg合金めっき層2cが施された基本構造を持つ。
AgまたはAg合金めっき層2c上には複合めっき層2aが施される。複合めっき層2aは微粒子が共析しためっき層であり、AgまたはAg合金をマトリックス金属とし、共析微粒子2bが3.0vol%以上30.0vol%以下の範囲で含まれてなり、共析微粒子2bが均一に共析する。当該複合めっき層2aは、1.0μm以上20.0μm以下の厚み、好ましくは3.0μm〜10.0μmの厚みで施されてなる。ここで、AgまたはAg合金めっき層2cと複合めっき層2aとを合わせてめっき積層体2と称し、その合計厚みは例えば9.6μmとする。また、複合めっき層2aとして、Al2O3、BaSO4、フッ素樹脂の少なくともいずれかの共析微粒子2bが共析させることが好ましい。また、共析微粒子2bの粒子径は0.1μm以上5.0μm以下であることが好ましい。
図1において、封止樹脂7に封止されるリードフレーム4の領域が給電リード領域9であり、給電リード領域9内に素子実装部9aおよび金属細線接続部9bが構成される。リードフレーム4において、素子実装部9aおよび金属細線接続部9bの周辺であるキャビティ領域以外は外部接続リード領域10となるように配設される。外部接続リード領域10には、発光素子8に対して外部から電力供給されるように外部配線が別途接続される。他にもグランドや信号配線と接続されても良く、図に示す例では2端子のリードフレームを例示しているが、電気的に独立する3以上の端子を有する外部接続リード領域10とすることもできる。
ここで、図4に示すように、複合めっき層2aは封止樹脂7形成領域で露出するキャビティ部分のみに施され、素子実装部9aおよび金属細線接続部9bならびに外部接続リード領域10には複合めっき層2aを施さないことが好ましい。図4において、Bは図2における素子実装部9aの境界、金属細線接続部9bの境界、あるいは外部接続リード領域10と給電リード領域9との境界を表している。外部接続リード領域10と給電リード領域9との境界は外囲樹脂5の端部または外囲樹脂5の形成領域に設けられる。上記素子実装部9aと金属細線接続部9bおよび外部接続リード領域10には、複合めっき層2aは施さず、複合めっき層2aの下層であるAgまたはAg合金めっき層2cが最表層として露出させることにより、発光素子8の接続性やハンダ付け性に影響を与えないようにできる。
素子実装部9aには、例えばLED素子等としての発光素子8が図1の紙面上部方向を発光方向として配設される。金属細線接続部9bには、発光素子8と電気接続するために金属細線6等の導電体の端部が接続される。
発光素子8の周囲には、光反射性に優れた擂り鉢状の断面形状を持つ外囲樹脂5が配設される。当該外囲樹脂5は、例えば光反射性に優れた酸化チタンを含有するポリマー樹脂を射出成型することで形成される。
封止樹脂7は、耐熱・透明性に優れる樹脂材料から構成され、発光素子8および金属細線6を含むキャビティ内を樹脂封止する。ここでは、発光素子8の発光特性に合わせ、例えば比較的短波長領域での発光に適したシリコーン樹脂材料を用いている。
以上のように、封止樹脂7の内部に露出するリードフレーム4、すなわち給電リード領域9を、最上層として微粒子を共析した複合めっき層2a、複合めっき層2aの下層としてAgまたはAg合金めっき層2cが積層された構成とすることによって、共析微粒子の一部が常に最表面に露出した状態となり、共析微粒子は短波長領域においてAgよりも高い反射率を示すため、純Agめっきに比べて可視光から紫外光までの広範囲にわたる波長領域の光の反射率を向上することができる。
さらに、単体のAgは、封止樹脂7中に含まれる金属塩化物・金属硫化物等の樹脂硬化触媒と反応し、AgClやAg2Sなどの化合物を比較的容易に形成し、変色するため、反射率低下の大きな要因となっていた。本発明では、リードフレーム4最表面に複合めっき層2aを形成することにより、表面に露出するAgの割合を低減することができる。これによって、リードフレーム表面の変色を抑制することができ、長期にわたりリードフレームに施しためっき層の良好な反射作用を維持でき、優れた発光輝度の発揮を維持することができるものである。
(実施の形態2)
<構成>
図5は実施の形態2におけるリードフレームの要部拡大断面図である。当該部分は図1におけるA領域に対応する領域付近を拡大した領域に相当する。
(実施の形態2)
<構成>
図5は実施の形態2におけるリードフレームの要部拡大断面図である。当該部分は図1におけるA領域に対応する領域付近を拡大した領域に相当する。
当該リードフレーム4の特徴は、AgまたはAg合金めっき層2cの下層で金属芯体3との間に下地めっき層2dを施し、複合めっき層2a,AgまたはAg合金めっき層2cおよび下地めっき層2dをめっき積層体2とした点にある。下地めっき層2dの材質としては、NiもしくはNi合金、CoもしくはCo合金が好適であり、下地めっき層2dの厚みは0.1μm〜2.0μmとすることが好ましい。複合めっき層2aおよびAgまたはAg合金めっき層2cの厚みは実施の形態1と同様である。
このようにAgまたはAg合金めっき層2cの下層で金属芯体3との間にさらに下地めっき層2dを施すことにより、実施の形態1と同様の効果が奏されるほか、外囲樹脂5の成形時や実装時のリフロー温度などの熱履歴による金属芯体3成分の熱拡散を遮蔽することから、めっき積層体2最表層の変色を防止し、かつ発光素子の接続性やはんだ付け性の低下を抑制することができる。よって、光半導体装置としての信頼性向上に非常に効果的な構成となっている。
<反射率測定試験>
以下、リードフレームの反射率測定試験を行った結果を示す。
<反射率測定試験>
以下、リードフレームの反射率測定試験を行った結果を示す。
図7はAgめっきおよびAg−アルミナ複合めっきの各リードフレームの反射率測定結果である。
各リードフレームの反射率を比較すると、Agめっきが施された従来のリードフレームでは、500nmあたりから反射率が低下し始め、430nmで90%、350nmでの反射率は60%あまりしかない。これに対し、本発明の実施の形態1および実施の形態2のリードフレーム4では、400nmにおいても高い反射率を維持しており、375nmで90%、350nmでも80%以上の反射率を有する。
各リードフレームの反射率を比較すると、Agめっきが施された従来のリードフレームでは、500nmあたりから反射率が低下し始め、430nmで90%、350nmでの反射率は60%あまりしかない。これに対し、本発明の実施の形態1および実施の形態2のリードフレーム4では、400nmにおいても高い反射率を維持しており、375nmで90%、350nmでも80%以上の反射率を有する。
以上の測定結果より、本発明の優位性が確認された。
<リードフレーム4を用いた効果について>
以上の構成を有する本発明の光半導体装置用リードフレームを用いた光半導体装置1では、光半導体装置1としての発光輝度や光の取り出し効率を向上するべく、リードフレーっム4の給電リード領域9における最表面に、AgまたはAg合金をマトリックスとした、Al2O3、BaSO4、フッ素樹脂の少なくともいずれかの共析微粒子9bが共析した複合めっき層2aが形成された構成となっている。
<リードフレーム4を用いた効果について>
以上の構成を有する本発明の光半導体装置用リードフレームを用いた光半導体装置1では、光半導体装置1としての発光輝度や光の取り出し効率を向上するべく、リードフレーっム4の給電リード領域9における最表面に、AgまたはAg合金をマトリックスとした、Al2O3、BaSO4、フッ素樹脂の少なくともいずれかの共析微粒子9bが共析した複合めっき層2aが形成された構成となっている。
かかる構成によれば、給電リード領域9において、AgまたはAg合金めっき層2cが最表面に施されている図6の従来のリードフレームの要部拡大断面図に示すような従来構成に比べ、当該給電リード領域9における最表面のめっき層の特に短波長領域における光の反射率を向上する効果が得られる。これにより光半導体装置1では、光半導体装置1の輝度低下の原因となる短波長領域におけるAgの光吸収を効果的に低減し、反射効率の向上ができるようになっている。
本発明は、波長500nm以下の紫外〜青色領域の光においても、良好な発光輝度を発揮させることができ、発光素子の搭載領域を備えるリードフレームに搭載領域を開口して外囲樹脂が形成された光半導体装置用リードフレームおよびこれを用いる光半導体装置等に有用である。
1 光半導体装置
2 めっき積層体
2a 複合めっき層
2b 共析微粒子
2c AgまたはAg合金めっき層
2d 下地めっき層
3 金属芯体
4 リードフレーム
5 外囲樹脂
6 電気接続用金属細線
7 封止樹脂
8 発光素子
9 給電リード領域
9a 素子実装部
9b 金属細線接続部
10 外部接続リード領域
201 光半導体装置
207 封止樹脂
208 発光素子
209 給電リード領域
209a 素子実装部
210 外部接続リード領域
2 めっき積層体
2a 複合めっき層
2b 共析微粒子
2c AgまたはAg合金めっき層
2d 下地めっき層
3 金属芯体
4 リードフレーム
5 外囲樹脂
6 電気接続用金属細線
7 封止樹脂
8 発光素子
9 給電リード領域
9a 素子実装部
9b 金属細線接続部
10 外部接続リード領域
201 光半導体装置
207 封止樹脂
208 発光素子
209 給電リード領域
209a 素子実装部
210 外部接続リード領域
Claims (9)
- 素子実装部および金属細線接続部を備えるリードフレームとキャビティが形成される外囲樹脂とからなる光半導体装置用リードフレームであって、
前記リードフレームが、
金属芯体と、
前記金属芯体上にめっきされるAgまたはAg合金めっき層と、
前記AgまたはAg合金めっき層上にめっきされるAgまたはAg合金をマトリックス金属として微粒子が共析する複合めっき層と
を有することを特徴とする光半導体装置用リードフレーム。 - 前記金属芯体と前記AgまたはAg合金めっき層との間に下地めっき層を設けることを特徴とする請求項1記載の光半導体装置用リードフレーム。
- 前記複合めっき層が、少なくとも前記素子実装部および前記金属細線接続部の前記AgまたはAg合金めっき層を露出させて前記キャビティ内にのみ施されることを特徴とする請求項1または請求項2のいずれかに記載の光半導体装置用リードフレーム。
- 前記微粒子が3.0vol%以上30.0vol%未満で共析されることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかに記載の光半導体装置用リードフレーム。
- 前記複合めっき層は、AgまたはAg合金をマトリックスとし、前記微粒子としてAl2O3、BaSO4、フッ素樹脂の少なくともいずれかが共析することを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれかに記載の光半導体装置用リードフレーム。
- 前記微粒子の粒子径が0.1μm以上5.0μm以下であることを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれかに記載の光半導体装置用リードフレーム。
- 前記複合めっき層の厚みが1.0μm以上20.0μm以下であることを特徴とする請求項1〜請求項6のいずれかに記載の光半導体装置用リードフレーム。
- 前記AgまたはAg合金めっき層の厚みが0.5μm以上4.0μm以下であることを特徴とする請求項1〜請求項7のいずれかに記載の光半導体装置用リードフレーム。
- 請求項1〜請求項8のいずれかに記載の光半導体装置用リードフレームと、
前記素子実装部に搭載される発光素子と、
前記発光素子と前記金属細線接続部とを電気的に接続する導電体と、
前記キャビティ内を樹脂封止する透光性の封止樹脂と
を有することを特徴とする光半導体装置。
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