JP2011215449A - 斜方蒸着基板、液晶装置、液晶装置の製造方法、投射型表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】画素部同士の配向特性のばらつきを抑制することができ、且つ、画素部を斜方蒸着基板から切り出す際の作業も容易な斜方蒸着基板を提供する。
【解決手段】本発明の斜方蒸着基板１は、複数の画素部１０ａが、直線的に交差した２方向（第１方向ａ、第２方向ｂ）に間隙を有して配列され、斜方蒸着膜の蒸着方向の分布を考慮して、各画素部１０ａが斜方蒸着基板１の面内において相対的に回転されていることを特徴とする。
【選択図】図３

Description

本発明は、斜方蒸着基板、液晶装置、液晶装置の製造方法、投射型表示装置に関するものである。

基板に対して斜めに蒸着材料を堆積させる斜方蒸着法は、液晶装置の無機配向膜の形成方法として一般的である。基板の表面には、蒸着材料の結晶が斜めに成長し、柱状の結晶体となる。液晶分子は、結晶体の成長方向に沿って配向する。基板と平行な面内において液晶分子長軸が配向している平均的な方位軸を配向容易軸とすると、配向容易軸は結晶体の成長方向、すなわち蒸着材料が基板に入射する方向（蒸着方向）によって制御される。

蒸着源からは蒸着材料は放射状に広がって放出される。そのため、基板面内では、結晶体の成長方向にばらつきが生じる。通常、液晶装置は、複数の画素部を有する大型の斜方蒸着基板を用いて複数の液晶装置が同時に作製される。その場合、斜方蒸着基板上に無機配向膜を形成すると、斜方蒸着基板の面内で結晶体の成長方向がばらつき、画素部毎、すなわち液晶装置毎に配向容易軸が異なったものとなる。

そのため、特許文献１では、複数の画素部を円弧状に配置し、各画素部の長手方向を、隣接する画素部同士で少しずつ異ならせるようにしている。この方法によれば、斜方蒸着基板の面内で蒸着方向の分布（配向容易軸のばらつき）ができる場合でも、斜方蒸着基板から切り出された個々の画素部においては、配向容易軸は概ね狙い通りの方向に定められる。

特開２００８−３４０５号公報

特許文献１の斜方蒸着基板には、複数の画素部がいびつな状態で配置される。そのため、次のような課題が発生する。斜方蒸着基板上に複数のパネル領域を形成する場合、各画素部は通常、直線的に交差する２方向にマトリクス状に配置される。この場合、画素部の配列方向に沿って直線的にスクライブ（切断）ラインを形成することで、容易に斜方蒸着基板を切断することができる。しかし、特許文献１のように複数の画素部がいびつな状態で配置されていると、直線的なスクライブラインを形成することができないため、特殊な切断方法が必要となり、切断作業が煩雑になる。

本発明の目的は、画素部同士の配向特性のばらつきを抑制することができ、且つ、画素部を斜方蒸着基板から切り出す際の作業も容易な斜方蒸着基板、液晶装置、液晶装置の製造方法、投射型表示装置を提供することにある。

本発明の斜方蒸着基板は、斜方蒸着膜が形成される斜方蒸着基板であって、複数の画素部が、直線的に交差した２方向に間隙を有して配列され、斜方蒸着膜の蒸着方向の分布を考慮して、各画素部が斜方蒸着基板の面内において相対的に回転されていることを特徴とする。

この構成によれば、斜方蒸着基板の面内で蒸着方向の分布（配向容易軸のばらつき）ができる場合でも、斜方蒸着基板から切り出された個々の画素部においては、配向容易軸は概ね狙い通りの方向に定められる。また、パネル領域は、直線的に交差した２方向に間隙を有して配列されているため、斜方蒸着基板を画素部毎に切断する際に、画素部の境界部に沿って直線的なスクライブラインを形成することができる。そのため、特殊な切断方法が必要なく、切断作業が容易になる。

前記画素部は、矩形形状を有し、前記複数の画素部には、前記画素部の外形線が前記２方向に対して斜めに傾いて配置された画素部が含まれていることが望ましい。具体的には、前記画素部は、長辺方向と短辺方向とを有し、前記画素部の長辺と所定の角度で交差する仮想線を前記画素部毎に設定したときに、各画素部に設定された仮想線は、斜方蒸着基板から離間する所定の位置に向けて収束するように延びていることが望ましい。

この構成によれば、画素部毎の配向容易軸のばらつきを抑制することができる。

前記画素部の中心は、前記２方向に沿ってそれぞれ一定の間隔で配置され、前記２方向のうち、前記画素部の短辺同士の間隙に沿って延びる方向を第１方向とし、前記画素部の長辺同士の間隙に沿って延びる方向を第２方向としたときに、前記第１方向の画素部の中心間隔は前記第２方向の画素部の中心間隔よりも小さいことが望ましい。

この構成によれば、画素部を高い密度で配置することができる。そのため、１つの斜方蒸着基板から多くの画素部を切り出すことができる。

本発明の液晶装置は、斜方蒸着膜が形成された矩形の第１基板を有する液晶装置であって、前記第１基板は矩形の第１画素部を備えており、前記第１基板の外形線と前記第１画素部の外形線とが斜めに傾いて配置されていることを特徴とする。

第１基板は、上述した本発明の斜方蒸着基板を用いて製造されたものである。そのため、所望の配向特性を実現しやすい。また、斜方蒸着基板から第１基板を切り出す作業も容易であるため、製造コストが抑えられる。よって、安価で且つ表示品質に優れた液晶装置が提供できる。

斜方蒸着膜が形成された矩形の第２基板を有し、前記第２基板は矩形の第２画素部を備えており、前記第２基板の外形線と前記第２画素部の外形線とが斜めに傾いて配置されており、前記第１基板と前記第２基板とは、前記第１画素部と前記第２画素部とを対向させて貼り合わされていることが望ましい。

第２基板は、上述した本発明の斜方蒸着基板を用いて製造されたものである。そのため、所望の配向特性を実現しやすい。また、斜方蒸着基板から第２基板を切り出す作業も容易であるため、製造コストが抑えられる。よって、安価で且つ表示品質に優れた液晶装置が提供できる。

本発明の液晶装置の製造方法は、複数の画素部が、直線的に交差した２方向に間隙を有して配列されてなる斜方蒸着基板上に斜方蒸着膜を形成する工程と、前記複数の画素部の境界部を前記２方向にスクライブする工程と、を有し、前記斜方蒸着基板は、斜方蒸着膜の蒸着方向の分布を考慮して、各画素部が斜方蒸着基板の面内において相対的に回転されていることを特徴とする。

この構成によれば、斜方蒸着基板の面内で蒸着方向の分布（配向容易軸のばらつき）ができる場合でも、斜方蒸着基板から切り出された個々の画素部においては、配向容易軸は概ね狙い通りの方向に定められる。また、パネル領域は、直線的に交差した２方向に間隙を有して配列されているため、斜方蒸着基板を画素部毎に切断する際に、画素部の境界部に沿って直線的なスクライブラインを形成することができる。そのため、特殊な切断方法が必要なく、切断作業が容易になる。

本発明の投射型表示装置は、上述の液晶装置を実装ケースに収容してなる液晶ライトバルブを光変調手段として用いた投射型表示装置であって、前記液晶装置は、前記第１基板と、前記第１基板と液晶を介して対向配置された第２基板と、前記第２基板の前記液晶側とは反対側に配置された防塵用基板と、を有し、前記防塵用基板は矩形形状を有し、前記防塵用基板の外形線は、前記第１基板の第１画素部の外形線と平行に配置され、前記実装ケースは、前記防塵用基板を嵌め込む凹形状を有したフレーム部を有し、前記フレーム部の前記第１画素部と対向する面に前記第１画素部に光を透過させるための窓部を有することを特徴とする。

この構成によれば、第１画素部の外形線と第１基板の外形線とが平行でない液晶装置を用いた場合でも、実装ケースの窓部と液晶装置の第１画素部とが位置ずれを生じる惧れが少なくなる。

斜方蒸着基板の第１形態の平面図である。 斜方蒸着基板に斜方蒸着膜を形成する蒸着装置の概略構成図である。 斜方蒸着基板１の一部の画素部を拡大して示す平面図である。 画素部の位置と画素部の回転量との関係を示す図である。 画素部の配置の変形例を示す平面図である。 斜方蒸着基板の第２形態の平面図である。 画素部の位置と画素部の回転量との関係を示す図である。 斜方蒸着基板から切り出されるパネル領域の一例を示す平面図である。 ＴＦＴアレイ基板を備えた液晶装置の第１形態の平面図である。 図９のＡ−Ａ線に沿う断面図である。 液晶装置と実装ケースとを含む液晶ライトバルブの分解斜視図である。 実装ケースの平面図及び断面図である。 フレームと液晶装置との配置関係を説明するための平面図である。 図１３のＢ−Ｂ線に沿う断面図である。 ＴＦＴアレイ基板を備えた液晶装置の第２形態の平面図である。 図１５のＣ−Ｃ線に沿う断面図である。 フレームと液晶装置との配置関係を説明するための平面図である。 図１７のＤ−Ｄ線に沿う断面図である。 ＴＦＴアレイ基板を備えた液晶装置の第３形態の平面図である。 図１９のＥ−Ｅ線に沿う断面図である。 フレームと液晶装置との配置関係を説明するための平面図である。 図２１のＦ−Ｆ線に沿う断面図である。 電子機器の一形態である投射型表示装置の概略構成図である。 変形例を示す断面図である。

［斜方蒸着基板−１］
図１は、斜方蒸着基板の第１形態の平面図である。

斜方蒸着基板１は、ガラス基板又は単結晶シリコン基板からなる円形のウエハーである。斜方蒸着基板１の表面には、液晶装置複数個分の画素部１０ａが形成されている。各画素部１０ａには、画素電極や画素スイッチング素子を含む複数の画素が形成されている。斜方蒸着基板１の表面には、１インチ程度の大きさの画素部１０ａが、直線的に交差する第１方向ａ及び第２方向ｂに間隙を有して複数個（図１では６１個）配列されている。第１方向ａ及び第２方向ｂは、例えば、オリフラ１Ａと直交する方向に対してそれぞれ時計回りに４５°、反時計回りに４５°傾斜する方向である。

斜方蒸着基板１の表面には、図２に示す蒸着装置９によって、無機配向膜１５が形成される。無機配向膜１５は、蒸着材料が斜方蒸着基板１に対して斜め方向に結晶成長した斜方蒸着膜である。蒸着装置９は、酸化シリコン等の無機配向膜の形成材料を含む蒸着源４を有する。蒸着源４から放出された蒸着材料は、蒸着源４と斜方蒸着基板１との間に配置された遮蔽板３によって、斜方蒸着基板１の法線に対して所定の角度θで入射する蒸着材料のみが選択的に蒸着される。遮蔽板３には、帯状のスリット３ａが形成されており、スリット３ａを通過する蒸着材料のみが、斜方蒸着基板１に到達する。斜方蒸着基板１は、スリット３ａの長手方向と直交する方向に搬送され、斜方蒸着基板１の全面に無機配向膜１５が形成される。

図１に示すように、スリット３ａは、オリフラ１Ａと平行な方向に長手方向を有する。蒸着源４から放出された蒸着材料は、蒸着源４から放射状に広がるため、スリット３ａを通過する位置によって、蒸着材料の蒸着方向（斜方蒸着基板１と平行な面内における方向）が異なる。例えば、スリット３ａの左側を通過した蒸着材料の蒸着方向は、オリフラ１Ａと直交する方向に対して反時計回りに所定角度だけ交差する方向に傾いている。逆に、スリット３ａの右側を通過した蒸着材料の蒸着方向は、オリフラ１Ａと直交する方向に対して時計回りに所定角度だけ交差する方向に傾いている。

斜方蒸着基板１上に堆積した蒸着材料は、斜方蒸着基板１の法線に対して斜め方向に結晶成長する。そして、斜めに結晶成長した多数の柱状結晶体によって無機配向膜１５が形成される。無機配向膜１５は、柱状結晶体の成長方向に沿って液晶分子を配向させる。蒸着材料の蒸着方向は、斜方蒸着基板１の面内でばらつき（分布）を有するため、液晶分子の配向方向も斜方蒸着基板１の面内でばらつきを有する。よって、無機配向膜１５によって液晶分子が配向する際の、液晶分子長軸が配向している平均的な方位軸を配向容易軸とすると、配向容易軸は斜方蒸着基板１の面内の位置によって異なることになる。

斜方蒸着基板１には複数の画素部１０ａが形成されているため、異なる画素部１０ａの配向容易軸は異なる。１画素部１０ａ内でも厳密には配向容易軸は連続的に変化しているが、画素部１０ａの大きさはせいぜい１インチ程度であるため、配向容易軸のばらつきは軽微である。問題となるのは、異なる画素部１０ａ同士の配向容易軸の分布である。本形態の斜方蒸着基板１では、このような問題点を以下の方法により解決している。

図３は、斜方蒸着基板１の一部の画素部１０ａを拡大して示す平面図である。図３において、符号ＳＬ１，ＳＬ２はスクライブラインであり、符号１０はパネル領域である。符号７は、画素部１０ａを含む最小の正方形を仮想的に示すものであり、符号６は、正方形７に外接する最小の円を仮想的に示すものである。

斜方蒸着基板１には、画素部１０ａを備えた複数のパネル領域１０が、直線的に交差した２方向ａ，ｂに間隙を有して配列されている。画素部１０ａは、長辺方向と短辺方向とを有する矩形形状を有する。画素部１０ａの短辺同士の間隙に沿って延びる方向を第１方向ａとし、画素部１０ａの長辺同士の間隙に沿って延びる方向を第２方向ｂとすると、各画素部１０ａの中心（画素部１０ａの対角線の交点）Ｃは、第１方向ａと第２方向ｂに沿って一定の間隔で配置されている。

スクライブラインＳＬ１は、画素部１０ａの短辺同士の間隙に沿って第１方向ａと平行に延びている。スクライブラインＳＬ２は、画素部１０ａの長辺同士の間隙に沿って第２方向ｂと平行に延びている。斜方蒸着基板１は、スクライブラインＳＬ１，ＳＬ２に沿って切断され、個々のパネル領域１０に分離される。各パネル領域１０は、液晶ライトバルブ等の小型の液晶装置の一方の基板となる。

斜方蒸着基板１では、斜方蒸着膜の蒸着方向の分布を考慮して、複数の画素部１０ａが斜方蒸着基板１の面内において相対的に回転されている。各画素部１０ａの外形線（長辺と短辺）は、第１方向ａと第２方向ｂに対して概ね平行に配置されているが、蒸着材料の蒸着方向を画素部１０ａ毎に最適化するために、複数の画素部１０ａのうち少なくとも一部の画素部１０ａにおいて、画素部１０ａの外形線を第１方向ａと第２方向ｂに対して斜めに傾けて配置している。

図４は、画素部１０ａの位置と画素部１０ａの回転量との関係を示す図である。

前述のように、無機配向膜１５の柱状結晶体は、蒸着材料の蒸着方向に沿って成長する。配向容易軸は蒸着材料の蒸着方向を斜方蒸着基板１と平行な面内に投影した方向と一致する。そのため、配向容易軸は蒸着源を斜方蒸着基板１と平行な面内に投影した位置４Ｄに向けて延びる。

配向容易軸を画素部１０ａ毎に最適化するためには、画素部１０ａの外形線を配向容易軸に合わせて斜方蒸着基板１と平行な面内で所定角度だけ回転させればよい。例えば、配向容易軸を画素部１０ａの長辺に対して角度ψだけ傾く方向に設定した場合には、画素部１０ａの中心Ｃと位置４Ｄとを結ぶ仮想線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３（配向容易軸と平行な線）が、画素部１０ａの長辺に対して角度ψで交差するように、画素部１０ａの外形線を回転させればよい。

本形態の斜方蒸着基板１では、画素部１０ａの長辺と角度ψで交差する仮想線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３を画素部１０ａ毎に設定すると、各画素部１０ａの仮想線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３は、斜方蒸着基板１から離間する所定の位置４Ｄに向けて収束する。仮想線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３は、各画素部１０ａの配向容易軸と平行な線である。仮想線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３が収束する位置４Ｄは、蒸着源の位置に対応する。蒸着源を点源とみなせる場合には、画素部１０ａの中心Ｃを通る仮想線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３は概ね１点に収束される。こうすることで、斜方蒸着基板１の面内で配向容易軸に分布ができる場合でも、斜方蒸着基板１から切り出された個々の画素部１０ａにおいては、配向容易軸は概ね狙い通りの方向に定められる。

図３に戻る。複数の画素部１０ａは、斜方蒸着膜の蒸着方向の分布を考慮して、斜方蒸着基板１の面内において相対的に回転されている。画素部１０ａ同士の間隔が小さいと、画素部１０ａ同士が干渉する惧れがある。そこで、複数の画素部１０ａは次のように配置されている。まず、画素部１０ａを内包する最小の正方形７を仮想的に設定する。次に、正方形７に外接する最小の円６を仮想的に設定する。円６の中心を画素部１０ａの中心とし、円６同士が重ならないように画素部１０ａを第１方向ａ及び第２方向ｂに配列する。正方形７を円６に内接させつつＣの周りに回転させることで、画素部１０ａの斜方蒸着基板１上での回転量を調節する。こうすることで、画素部１０ａ同士の干渉を防止しつつ、画素部１０ａを高い密度で整然と配置することができる。

図３では、円６同士が重ならないように配置したが、円６の配置はこれに限定されない。例えば、図５のように、円６を第１方向ａにおいて一部重なるように配置し、第１方向ａの画素部１０ａの中心間隔Ｗａが第２方向ｂの画素部１０ａの中心間隔Ｗｂよりも小さくなるようにしても良い。図３では、画素部１０ａの第１方向ａ（短辺と概ね平行な方向）と第２方向ｂ（長辺と概ね平行な方向）の配置間隔は等しくなる。第１方向ａは、画素部１０ａの短辺方向と概ね平行な方向である。そのため、第１方向ａにおいて、配置間隔が必要以上に広くなる可能性がある。よって、図５のように、第１方向ａの配置間隔Ｗａを小さくすることで、第１方向ａの配置密度を高めることができる。

図５では、スクライブラインＳＬ２を円６の重なり部分の中央部に設定したが、スクライブラインＳＬ２の位置はこれに限定されない。スクライブラインＳＬ２をこの位置から第１方向ａに沿ってずれた位置に設定することもできる。こうすることで、斜方蒸着基板１をパネル領域毎に切り出したときに、パネル領域内の画素部１０ａの位置を自由に変えることができる。

図５では、第１方向の配置間隔Ｗａだけを短くしたが、第２方向ｂの配置間隔Ｗｂを小さくしてもよい。すなわち、円６を第１方向ａと第２方向ｂの双方において一部重なるように配置し、第１方向ａの画素部１０ａの中心間隔Ｗａと第２方向ｂの画素部１０ａの中心間隔Ｗｂの双方が円６の半径よりも小さくなるようにしても良い。こうすることで、画素部１０ａの周辺の無駄な領域を最小限に抑えることができる。

［斜方蒸着基板−２］
図６は、斜方蒸着基板の第２形態の平面図である。本形態の斜方蒸着基板２において第１形態の斜方蒸着基板１と共通する構成については、同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。

斜方蒸着基板２は、ガラス基板又は単結晶シリコン基板からなる円形のウエハーである。斜方蒸着基板２の表面には、液晶装置複数個分の画素部１０ａが形成されている。各画素部１０ａには、画素電極や画素スイッチング素子を含む複数の画素が形成されている。斜方蒸着基板２の表面には、１インチ程度の大きさの画素部１０ａが、直線的に交差する第１方向ｃ及び第２方向ｄに間隙を有して複数個（図６では６１個）配列されている。第１方向ｃ及び第２方向ｄは、例えば、オリフラ１Ａと直交する方向に対してそれぞれ０°、９０°を成す方向である。

斜方蒸着基板２の表面には、図２に示した蒸着装置によって、無機配向膜が形成される。蒸着装置のスリット３ａは、オリフラ２Ａと平行な方向に長手方向を有する。蒸着源から放出された蒸着材料は、蒸着源から放射状に広がるため、スリット３ａを通過する位置によって、蒸着材料の蒸着方向（斜方蒸着基板２と平行な面内における方向）が異なる。例えば、スリット３ａの左側を通過した蒸着材料の蒸着方向は、オリフラ２Ａと直交する方向に対して反時計回りに所定角度だけ交差する方向に傾いている。逆に、スリット３ａの右側を通過した蒸着材料の蒸着方向は、オリフラ２Ａと直交する方向に対して時計回りに所定角度だけ交差する方向に傾いている。

画素部１０ａは、長辺方向と短辺方向とを有する矩形形状を有する。画素部１０ａの短辺同士の間隙に沿って延びる方向を第１方向ｃとし、画素部１０ａの長辺同士の間隙に沿って延びる方向を第２方向ｄとすると、各画素部１０ａの中心（画素部１０ａの対角線の交点）は、第１方向ｃと第２方向ｄに沿って一定の間隔で配置されている。

斜方蒸着基板２には、画素部１０ａの短辺同士の間隙及び長辺同士の間隙に沿って２方向ｃ、ｄに延びる図示略のスクライブラインが形成される。そして、このスクライブラインに沿って斜方蒸着基板２が切断されることで、個々のパネル領域に分離される。各パネル領域は、液晶ライトバルブ等の小型の液晶装置の一方の基板となる。

斜方蒸着基板２では、斜方蒸着膜の蒸着方向の分布を考慮して、複数の画素部１０ａが斜方蒸着基板２の面内において相対的に回転されている。各画素部１０ａの外形線（長辺と短辺）は、第１方向ｃと第２方向ｄに対して概ね平行に配置されているが、蒸着材料の蒸着方向を画素部１０ａ毎に最適化するために、複数の画素部１０ａのうち少なくとも一部の画素部１０ａにおいて、画素部１０ａの外形線を第１方向ｃと第２方向ｄに対して斜めに傾けて配置している。

図７は、画素部１０ａの位置と画素部１０ａの回転量との関係を示す図である。

前述のように、無機配向膜１５の柱状結晶体は、蒸着材料の蒸着方向に沿って成長する。配向容易軸は蒸着材料の蒸着方向を斜方蒸着基板２と平行な面内に投影した方向と一致する。そのため、配向容易軸は蒸着源を斜方蒸着基板２と平行な面内に投影した位置４Ｄに向けて延びる。

配向容易軸を画素部１０ａ毎に最適化するためには、画素部１０ａの外形線を配向容易軸に合わせて斜方蒸着基板２と平行な面内で所定角度だけ回転させればよい。例えば、配向容易軸を画素部１０ａの長辺に対して角度ψだけ傾く方向に設定した場合には、画素部１０ａの中心Ｃと位置４Ｄとを結ぶ仮想線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３（配向容易軸と平行な線）が、画素部１０ａの長辺に対して角度ψで交差するように、画素部１０ａの外形線を回転させればよい。

本形態の斜方蒸着基板２では、画素部１０ａの長辺と角度ψで交差する仮想線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３を画素部１０ａ毎に設定すると、各画素部１０ａの仮想線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３は、斜方蒸着基板２から離間する所定の位置４Ｄに向けて収束する。仮想線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３は、各画素部１０ａの配向容易軸と平行な線である。仮想線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３が収束する位置４Ｄは、蒸着源の位置に対応する。蒸着源を点源とみなせる場合には、画素部１０ａの中心Ｃを通る仮想線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３は概ね１点に収束される。こうすることで、斜方蒸着基板２の面内で配向容易軸に分布ができる場合でも、斜方蒸着基板１から切り出された個々の画素部１０ａにおいては、配向容易軸は概ね狙い通りの方向に定められる。

［パネル領域］
図８は、斜方蒸着基板から切り出されるパネル領域１０の一例を示す平面図である。

パネル領域１０の中央部には、画素部１０ａが設けられている。画素部１０ａには、複数の画素ＰＸがＸ方向及びＹ方向にマトリクス状に配置されている。各画素ＰＸには、画素電極や画素スイッチング素子（ＴＦＴ等）が形成されている。画素部１０ａの長辺に沿って複数の外部回路接続端子１０２が設けられている。外部回路接続端子１０２は、画素部１０ａと同時に形成された図示略の配線によって画素ＰＸと接続されている。

パネル領域１０は、液晶ライトバルブ等の小型の液晶装置の一方の基板として用いられる。以下では、パネル領域１０を透過型液晶ライトバルブのＴＦＴアレイ基板１０として用いた例を説明する。なお、以下の説明では、ＴＦＴアレイ基板１０と平行な面内の直交する２方向をＸ方向及びＹ方向とし、Ｘ方向及びＹ方向と直交する方向をＺ方向とする。Ｘ方向は、画素部１０ａの長辺と平行な方向であり、Ｙ方向は、画素部１０ａの短辺と平行な方向である。

［液晶装置−１］
図９は、ＴＦＴアレイ基板１０を備えた液晶装置の第１形態の平面図である。図１０は、図９のＡ−Ａ線に沿う断面図である。

液晶装置５００は、互いに対向して配置されたＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とを備えている。液晶装置５００は透過型の液晶装置であり、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０には、ガラス基板等の透光性の基板が用いられている。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とは、互いに対向する対向面の周縁部に矩形枠状に設けられたシール材５２により貼り合わされている。ＴＦＴアレイ基板１０、対向基板２０及びシール材５２により囲まれた領域には液晶５０が封入されている。

ＴＦＴアレイ基板１０の中央部には、画素電極を含む複数の画素がＸ方向及びＹ方向に配列してなる画素部（第１画素部）１０ａが設けられている。画素部１０ａの外形線は、画素部１０ａの最外周部に位置する画素電極の外形線によって規定される。画素部１０ａの最外周部の画素電極の外形線によって得られる画素部１０ａの外形線は、Ｘ方向に長手を有する矩形形状を有する。画素部１０ａには、画素電極を含む複数の画素が、画素部１０ａの長辺方向（Ｘ方向）及び短辺方向（Ｙ方向）に沿ってマトリクス状に配列されている。

対向基板２０の中央部には、画素電極の間隙に対向して遮光膜がＸ方向及びＹ方向に形成されてなる画素部（第２画素部）２０ａ設けられている。画素部２０ａの外形線は、画素部２０ａの最外周部に位置する遮光膜の外形線によって規定される。画素部２０ａの最外周部の遮光膜の外形線によって得られる画素部２０ａの外形線は、Ｘ方向に長手を有する矩形形状を有する。画素部２０ａには、画素部２０ａの長辺方向（Ｘ方向）及び短辺方向（Ｙ方向）に沿って遮光膜が格子状に設けられている。画素部１０ａと画素部２０ａの外形形状は概ね一致している。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０は、画素部１０ａと画素部２０ａとを対向させて貼り合わされている。

ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とが対向する領域の周囲には、複数の外部回路接続端子１０２が画素部１０ａの１辺に沿って設けられている。外部回路接続端子１０２には、ＦＰＣ（フレキシブルプリント配線板）５０１が接続されている。

ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０は、それぞれ長辺及び短辺を有する矩形形状を有する。ＴＦＴアレイ基板１０の長辺及び短辺は、画素部１０ａの長辺及び短辺に対して数度傾斜する方向に配置されている。対向基板２０の長辺及び短辺は、画素部１０ａの長辺及び短辺と平行に配置されている。

ＴＦＴアレイ基板１０の液晶５０側の面には配向膜１５が設けられている。対向基板２０の液晶５０側の面には、配向膜２５が設けられている。配向膜１５及び配向膜２５は、酸化シリコン等の無機材料を斜方蒸着して得られた無機配向膜である。配向膜１５の配向容易軸の方向と配向膜２５の配向容易軸の方向は、液晶装置５００で採用される表示方式（ＶＡ方式、ＩＰＳ方式等）に応じて設定される。

ＴＦＴアレイ基板１０の液晶５０側とは反対側の面には第１防塵用基板４０１が設けられている。対向基板２０の液晶５０側とは反対側の面には第２防塵用基板４０２が設けられている。第１防塵用基板４０１はＴＦＴアレイ基板１０と同じ形状及び大きさで形成され、ＴＦＴアレイ基板１０とＺ方向から見てぴったり重なるように配置されている。第２防塵用基板４０２は対向基板２０と同じ形状及び大きさで形成され、対向基板２０とＺ方向から見てぴったり重なるように配置されている。

図１１は、液晶装置５００と該液晶装置５００を収容する実装ケースとを含む液晶ライトバルブ１００の分解斜視図である。図１２は、実装ケースの平面図及び断面図である。

実装ケース６０１は、液晶装置５００を収容するフレーム６１０と、フレーム６１０に被さるカバー部材６３０とからなる。カバー部材６３０は、両側縁のフック６３１をフレーム６１０の側面に形成された爪部６１７に引っ掛けることによって、フレーム６１０と組み合せられている。液晶装置５００は、フレーム６１０に対向基板２０側が面する向きに収容され、ＴＦＴアレイ基板１０側の外表面をカバー部材６３０で覆われている。液晶ライトバルブ１００は、フレーム６１０の側から光が入射し、液晶装置５００を透過して、カバー部材６３０の側から出射するという構成を前提としている。

カバー部材６３０は、窓部６３２が開口された額縁状の本体と、本体の両脇に配置されたフック６３１とを備えている。窓部６３２は、液晶装置５００の画素部から射出される光を取り出すために、画素部と対向するように開口されている。

フレーム６１０は、液晶装置５００を収容する本体部６１３と、液晶ライトバルブ１００を液晶プロジェクタの筐体に取り付けるための取付孔６１１ａ〜６１１ｅと、冷却用の導風部６１２と、放熱用の羽根部６１４Ｆと、を備えている。

本体部６１３は、ＴＦＴアレイ基板１０及び第１防塵用基板４０１を収容する第１フレーム部６２１と、対向基板２０及び第２防塵用基板４０２を収容する第２フレーム部６２２とを有する。本体部６１３はまた、第２フレーム部６２２の天面に設けられた窓部６１５と、第１フレーム部６２１の側面に設けられたガイド部６１６及び爪部６１７と、を備えている。窓部６１５は、収容された液晶装置５００の画素部に光を透過させるために、画素部と対向するように開口されている。爪部６１７は、フック６３１を引っ掛けるために用いられる。ガイド部６１６は、爪部６１７側の段差がフック６３１を爪部６１７に案内する溝として機能する。ＦＰＣ５０１は、第１フレーム部６２１の側面に設けられた開口６１４から実装ケース６０１の外部へ引き出される。

図１３は、フレーム６１０と液晶装置５００との配置関係を説明するための平面図である。図１４は、図１３のＢ−Ｂ線に沿う断面図である。図１３及び図１４では、説明に必要な構成部材のみを示し、ＦＰＣ等の付帯的な構成については図示を省略している。

第１フレーム部６２１と第２フレーム部６２１の長辺及び短辺は、液晶装置５００の画素部１０ａ，２０ａの長辺及び短辺と平行に配置されている。液晶装置５００の対向基板２０及び第２防塵用基板４０２の長辺及び短辺は、画素部１０ａ，２０ａの長辺及び短辺と平行に配置されており、液晶装置５００のＴＦＴアレイ基板１０及び第１防塵用基板４０１の長辺及び短辺は、画素部１０ａ，２０ａの長辺及び短辺に対して斜めに傾斜して配置されている。

第１フレーム部６２１は、ＴＦＴアレイ基板１０及び第１防塵用基板４０１よりも大きく形成されている。第１フレーム部６２１の側面とＴＦＴアレイ基板１０及び第１防塵用基板４０１の側面との間には、隙間７００が形成されている。第２フレーム部６２２は、対向基板２０及び第２防塵用基板４０２と略同じ形状及び大きさで形成されている。第２フレーム部６２２の側面と対向基板２０及び第２防塵用基板４０２の側面との間には、隙間は殆ど形成されていない。第２フレーム部６２２には、対向基板２０及び第２防塵用基板４０２をぴったりと嵌め込む凹形状を有する。液晶装置５００は、対向基板２０及び第２防塵用基板４０２を第２フレーム部６２２に嵌め込むことでフレーム６１０に固定される。これにより、画素部１０ａ，２０ａと窓部６１５との位置決めが行われる。

［液晶装置−２］
図１５は、ＴＦＴアレイ基板１０を備えた液晶装置の第２形態の平面図である。図１６は、図１５のＣ−Ｃ線に沿う断面図である。本形態の液晶装置５５０において第１形態の液晶装置５００と共通する構成については、同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。

液晶装置５５０は、互いに対向して配置されたＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２１とを備えている。ＴＦＴアレイ基板１０の中央部には、画素電極を含む複数の画素がＸ方向及びＹ方向に配列してなる画素部（第１画素部）１０ａが設けられている。対向基板２０の中央部には、画素電極の間隙に対向して遮光膜がＸ方向及びＹ方向に形成されてなる画素部（第２画素部）２０ａ設けられている。画素部１０ａの最外周部に位置する複数の画素電極の外形線によって規定される画素部１０ａの外形線は、長手方向と短手方向とを有する矩形形状を有する。画素部２０ａの最外周部に位置する遮光膜の外形線によって規定される画素部２０ａの外形線は、長手方向と短手方向とを有する矩形形状を有する。

ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２１は、それぞれ長辺及び短辺を有する矩形形状を有する。ＴＦＴアレイ基板１０の長辺及び短辺は、画素部１０ａの長辺及び短辺に対して数度傾斜する方向に配置されている。対向基板２１の長辺及び短辺は、画素部１０ａの長辺及び短辺に対して数度傾斜して配置されている。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２１の長辺同士及び短辺同士は、それぞれ平行に配置されている。画素部１０ａと画素部２０ａの外形形状は概ね一致している。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２１は、画素部１０ａと画素部２０ａとを対向させて貼り合わされている。

対向基板２１の配向膜２５は、ＴＦＴアレイ基板１０の配向膜１５と同じ方法で形成されている。すなわち、複数の第２画素部２０ａが、直線的に交差した２方向に間隙を有して配列されてなる斜方蒸着基板上に斜方蒸着膜を形成し、複数の第２画素部２０ａの境界部を前記２方向にスクライブすることにより作製されるものである。対向基板２１を作製するための斜方蒸着基板は、斜方蒸着膜の蒸着方向の分布を考慮して、各第２画素部２０ａが斜方蒸着基板の面内において相対的に回転されている。そのため、斜方蒸着基板から切り出される個々の対向基板２１においては、対向基板２１の長辺及び短辺と第２画素部２０ａの長辺及び短辺とが数度傾斜して配置されている。

ＴＦＴアレイ基板１０の液晶５０側とは反対側の面には第１防塵用基板４０１が設けられている。対向基板２１の液晶５０側とは反対側の面には第２防塵用基板４０３が設けられている。第１防塵用基板４０１はＴＦＴアレイ基板１０と同じ形状及び大きさで形成され、ＴＦＴアレイ基板１０とＺ方向から見てぴったり重なるように配置されている。第２防塵用基板４０３の長辺及び短辺は、画素部１０ａ，２０ａの長辺及び短辺と平行に配置されており、対向基板２１よりも小さい大きさで形成されている。

図１７は、フレーム６５０と液晶装置５５０との配置関係を説明するための平面図である。図１８は、図１７のＤ−Ｄ線に沿う断面図である。フレーム６５０は、第１形態のフレーム６１０に対応するものである。

フレーム６５０は、液晶装置５５０を収容する本体部６５３を備えている。本体部６５３は、ＴＦＴアレイ基板１０及び第１防塵用基板４０１を収容する第１フレーム部６２３と、対向基板２１を収容する第２フレーム部６２４と、第２防塵用基板４０３を収容する第３フレーム部６２５とを有する。本体部６５３はまた、第３フレーム部６２５の天面に設けられた窓部６２６を備えている。窓部６２６は、収容された液晶装置５５０の画素部１０ａ，２０ａに光を透過させるために、画素部１０ａ，２０ａと対向するように開口されている。

第１フレーム部６２３、第２フレーム部６２４及び第３フレーム部６２５の長辺及び短辺は、液晶装置５５０の画素部１０ａ，２０ａの長辺及び短辺と平行に配置されている。液晶装置５５０の第２防塵用基板４０３の長辺及び短辺は、画素部１０ａ，２０ａの長辺及び短辺と平行に配置されており、液晶装置５５０のＴＦＴアレイ基板１０、対向基板２１及び第１防塵用基板４０１の長辺及び短辺は、画素部１０ａ，２０ａの長辺及び短辺に対して斜めに傾斜して配置されている。

第１フレーム部６２３は、ＴＦＴアレイ基板１０及び第１防塵用基板４０１よりも大きく形成されている。第１フレーム部６２３の側面とＴＦＴアレイ基板１０及び第１防塵用基板４０１の側面との間には、隙間７０１が形成されている。第２フレーム部６２４は、対向基板２１よりも大きく形成されている。第２フレーム部６２４の側面と対向基板２１の側面との間には、隙間７０２が形成されている。第３フレーム部６２５は、第２防塵用基板４０３と略同じ形状及び大きさで形成されている。第３フレーム部６２５の側面と第２防塵用基板４０３の側面との間には、隙間は殆ど形成されていない。第３フレーム部６２５には、第２防塵用基板４０３をぴったりと嵌め込む凹形状を有する。液晶装置５５０は、第２防塵用基板４０３を第３フレーム部６２５に嵌め込むことでフレーム６５０に固定される。これにより、画素部１０ａ，２０ａと窓部６２６との位置決めが行われる。

［液晶装置−３］
図１９は、ＴＦＴアレイ基板１０を備えた液晶装置の第３形態の平面図である。図２０は、図１９のＥ−Ｅ線に沿う断面図である。本形態の液晶装置５６０において第１形態の液晶装置５００と共通する構成については、同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。

液晶装置５６０は、互いに対向して配置されたＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２２とを備えている。ＴＦＴアレイ基板１０の中央部には、画素電極を含む複数の画素がＸ方向及びＹ方向に配列してなる画素部（第１画素部）１０ａが設けられている。対向基板２２の中央部には、画素電極の間隙に対向して遮光膜がＸ方向及びＹ方向に形成されてなる画素部（第２画素部）２０ａ設けられている。画素部１０ａの最外周部に位置する複数の画素電極の外形線によって規定される画素部１０ａの外形線は、長手方向と短手方向とを有する矩形形状を有する。画素部２０ａの最外周部に位置する遮光膜の外形線によって規定される画素部２０ａの外形線は、長手方向と短手方向とを有する矩形形状を有する。

ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２２は、それぞれ長辺及び短辺を有する矩形形状を有
する。ＴＦＴアレイ基板１０の長辺及び短辺は、画素部１０ａの長辺及び短辺に対して数度傾斜して配置されている。対向基板２２の長辺及び短辺は、画素部１０ａの長辺及び短辺に対して数度傾斜する方向に配置されている。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２２の長辺同士及び短辺同士は、それぞれ平行に配置されている。画素部１０ａと画素部２０ａの外形形状は概ね一致している。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２２は、画素部１０ａと画素部２０ａとを対向させて貼り合わされている。

対向基板２２の配向膜２５は、ＴＦＴアレイ基板１０の配向膜１５と同じ方法で形成されている。すなわち、複数の第２画素部２０ａが、直線的に交差した２方向に間隙を有して配列されてなる斜方蒸着基板上に斜方蒸着膜を形成し、複数の第２画素部２０ａの境界部を前記２方向にスクライブすることにより作製されるものである。対向基板２２を作製するための斜方蒸着基板は、斜方蒸着膜の蒸着方向の分布を考慮して、各第２画素部２０ａが斜方蒸着基板の面内において相対的に回転されている。そのため、斜方蒸着基板から切り出される個々の対向基板２２においては、対向基板２２の長辺及び短辺と第２画素部２０ａの長辺及び短辺とが数度傾斜して配置されている。

ＴＦＴアレイ基板１０の液晶５０側とは反対側の面には第１防塵用基板４０１が設けられている。対向基板２２の液晶５０側とは反対側の面には第２防塵用基板４０４が設けられている。第１防塵用基板４０１はＴＦＴアレイ基板１０と同じ形状及び大きさで形成され、ＴＦＴアレイ基板１０とＺ方向から見てぴったり重なるように配置されている。第２防塵用基板４０４の長辺及び短辺は、画素部１０ａ，２０ａの長辺及び短辺と平行に配置されており、対向基板２２よりも大きい大きさで形成されている。

図２１は、フレーム６６０と液晶装置５６０との配置関係を説明するための平面図である。図２２は、図２１のＦ−Ｆ線に沿う断面図である。フレーム６６０は、第１形態のフレーム６１０に対応するものである。

フレーム６６０は、液晶装置５６０を収容する本体部６６３を備えている。本体部６６３は、ＴＦＴアレイ基板１０及び第１防塵用基板４０１を収容する第１フレーム部６２７と、対向基板２２及び第２防塵用基板４０４を収容する第２フレーム部６２８とを有する。本体部６６３はまた、第２フレーム部６２８の天面に設けられた窓部６２９を備えている。窓部６２９は、収容された液晶装置５６０の画素部１０ａ，２０ａに光を透過させるために、画素部１０ａ，２０ａと対向するように開口されている。

第１フレーム部６２７、第２フレーム部６２８の長辺及び短辺は、液晶装置５６０の画素部１０ａ，２０ａの長辺及び短辺と平行に配置されている。液晶装置５６０の第２防塵用基板４０４の長辺及び短辺は、画素部１０ａ，２０ａの長辺及び短辺と平行に配置されており、液晶装置５６０のＴＦＴアレイ基板１０、対向基板２２及び第１防塵用基板４０１の長辺及び短辺は、画素部１０ａ，２０ａの長辺及び短辺に対して斜めに傾斜して配置されている。

第１フレーム部６２７は、ＴＦＴアレイ基板１０及び第１防塵用基板４０１よりも大きく形成されている。第１フレーム部６２７の側面とＴＦＴアレイ基板１０及び第１防塵用基板４０１の側面との間には、隙間７０３が形成されている。第２フレーム部６２８は、対向基板２２よりも大きく形成されている。第２フレーム部６２８の側面と対向基板２２の側面との間には、隙間７０４が形成されている。第２フレーム部６２８は、第２防塵用基板４０４と略同じ形状及び大きさで形成されている。第２フレーム部６２８の側面と第２防塵用基板４０４の側面との間には、隙間は殆ど形成されていない。第２フレーム部６２８には、第２防塵用基板４０４をぴったりと嵌め込む凹形状を有する。液晶装置５６０は、第２防塵用基板４０４を第２フレーム部６２８に嵌め込むことでフレーム６６０に固定される。これにより、画素部１０ａ，２０ａと窓部６２９との位置決めが行われる。

［電子機器］
図２３は、電子機器の一形態である投射型表示装置（液晶プロジェクタ）の概略構成図である。投射型表示装置８００は、光変調手段として、［液晶装置−１］〜［液晶装置−３］に記載した透過型の液晶ライトバルブを用いている。

８１０は光源、８１３、８１４はダイクロイックミラー、８１５、８１６、８１７は反射ミラー、８１８は入射レンズ、８１９はリレーレンズ、８２０は出射レンズ、８２２、８２３、８２４は光変調手段、８２５はクロスダイクロイックプリズム、８２６は投射レンズである。光源８１０は、メタルハライド等のランプ８１１とランプの光を反射するリフレクタ８１２とからなる。

ダイクロイックミラー８１３は、光源８１０からの白色光に含まれる赤色光を透過させるとともに、青色光と緑色光とを反射する。透過した赤色光は反射ミラー８１７で反射されて、赤色光用光変調手段８２２に入射される。また、ダイクロイックミラー８１３で反射された緑色光は、ダイクロイックミラー８１４によって反射され、緑色光用光変調手段８２３に入射される。さらに、ダイクロイックミラー８１３で反射された青色光は、ダイクロイックミラー８１４を透過する。青色光に対しては、長い光路による光損失を防ぐため、入射レンズ８１８、リレーレンズ８１９および出射レンズ８２０を含むリレーレンズ系からなる導光手段８２１が設けられている。この導光手段８２１を介して、青色光が青色光用光変調手段８２４に入射される。なお、光変調手段８２２，８２３，８２４には、［液晶装置−１］〜［液晶装置−３］に記載した透過型の液晶ライトバルブが用いられている。

各光変調手段により変調された３つの色光は、クロスダイクロイックプリズム８２５に入射する。このクロスダイクロイックプリズム８２５は４つの直角プリズムを貼り合わせたものであり、その界面には赤光を反射する誘電体多層膜と青光を反射する誘電体多層膜とがＸ字状に形成されている。これらの誘電体多層膜により３つの色光が合成されて、カラー画像を表す光が形成される。合成された光は、投射光学系である投射レンズ８２６によってスクリーン８２７上に投影され、画像が拡大されて表示される。

［変形例］
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施の形態例について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。

例えば、［液晶装置−１］〜［液晶装置−３］では、図８に示したパネル領域１０を透過型液晶ライトバルブのＴＦＴアレイ基板として用いた。しかし、図８のパネル領域１０は、反射型液晶ライトバルブのＴＦＴアレイ基板として用いることもできる。反射型液晶ライトバルブは、対向基板側から入射した光をＴＦＴアレイ基板で反射し、対向基板から射出するものである。

図２４は、図８のパネル領域１０を反射型液晶ライトバルブ１７０のＴＦＴアレイ基板１０として用いた例の断面図である。図２４は、第１形態の図１４に対応する図である。図２４において、第１形態と共通する構成については、同じ符号を付している。

液晶装置５７０は、互いに対向して配置されたＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とを備えている。液晶装置５７０は反射型の液晶装置であり、ＴＦＴアレイ基板１０には、単結晶シリコン基板等の不透明な基板、又は、ガラス基板等の透光性の基板の表面にＡｌやＡｇ等の反射膜を形成したもの、が用いられている。反射膜は、画素電極の下に形成しても良いし、画素電極をＡｌやＡｇ等で構成し、これを反射膜としても良い。液晶装置５７０は、ＴＦＴアレイ基板１０に反射膜を設けた点、ＴＦＴアレイ基板１０の裏面側に第１防塵用基板４０１を設けない点以外は、第１形態の液晶装置５００と同じである。

液晶装置５７０の実装ケースは、第１フレーム部６４１の大きさがＴＦＴアレイ基板１０を収容可能な大きさとされている点で、第１形態の実装ケース６０１と異なっている。実装ケースのフレーム６７０は、液晶装置５７０を収容する本体部６７３を有している。本体部６７３は、ＴＦＴアレイ基板１０を収容する第１フレーム部６４１と、対向基板２０及び第２防塵用基板４０２を収容する第２フレーム部６４２とを有する。本体部６７３は、第２フレーム部６４２の天面に設けられた窓部６４５を備えている。窓部６４５は、収容された液晶装置５７０の画素部に光を透過させるために、画素部と対向するように開口されている。実装ケースには、フレーム６７０に被さる図示略のカバー部材が設けられているが、カバー部材には、図１１に示したような窓部６３２は設けられていない。

第１フレーム部６４１は、ＴＦＴアレイ基板１０よりも大きく形成されている。第１フレーム部６４１の側面とＴＦＴアレイ基板１０の側面との間には、隙間７０５が形成されている。第２フレーム部６４２は、対向基板２０及び第２防塵用基板４０２と略同じ形状及び大きさで形成されている。第２フレーム部６４２の側面と対向基板２０及び第２防塵用基板４０２の側面との間には、隙間は殆ど形成されていない。第２フレーム部６４２には、対向基板２０及び第２防塵用基板４０２をぴったりと嵌め込む凹形状を有する。液晶装置５７０は、対向基板２０及び第２防塵用基板４０２を第２フレーム部６４２に嵌め込むことでフレーム６７０に固定される。これにより、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の画素部と窓部６４５との位置決めが行われる。

図２４では、［液晶装置−１］の構成を一部変更することにより、反射型液晶ライトバルブに適用したが、［液晶装置−２］や［液晶装置−３］も、同様の設計変更を行うことにより、反射型液晶ライトバルブに適用することができる。［液晶装置−２］や［液晶装置−３］でも、ＴＦＴアレイ基板１０に反射膜を設け、ＴＦＴアレイ基板１０の裏面側の第１防塵用基板４０１を省略し、第１フレーム部の大きさをＴＦＴアレイ基板１０を収容可能な大きさとすることで、反射型液晶ライトバルブに適用することができる。

上述の液晶装置は、投射型表示装置の光変調手段に限らず、液晶テレビ、ヘッドマウントディスプレイ、ヘッドアップディスプレイ、電子ブック、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器等々の画像表示手段として好適に用いることができる。

１…斜方蒸着基板、２…斜方蒸着基板、４Ｄ…斜方蒸着基板から離間した所定の位置、１０…ＴＦＴアレイ基板（第１基板）、１０ａ…画素部（第１画素部）、１５…配向膜（斜方蒸着膜）、２０…対向基板（第２基板）、２０ａ…画素部（第２画素部）、２５…配向膜（斜方蒸着膜）、１００…液晶ライトバルブ、１５０…液晶ライトバルブ、１６０…液晶ライトバルブ、１７０…液晶ライトバルブ、４０２…第２防塵用基板、４０３…第２防塵用基板、４０４…第２防塵用基板、５００…液晶装置、５５０…液晶装置、５６０…液晶装置、５７０…液晶装置、６０１…実装ケース、６１５…窓部、６２２…第２フレーム部、６２５…第３フレーム部、６２６…窓部、６２８・・・第３フレーム部、６２９…窓部、６４２…第２フレーム部、６４５…窓部、８００…投射型表示装置（電子機器）、ａ…第１方向、ｂ…第２方向、ｃ…第１方向、ｄ…第２方向、Ｃ…画素部の中心、Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３…仮想線、Ｗａ…第１方向における画素部の中心間隔、Ｗｂ…第２方向における画素部の中心間隔

Claims (8)

1. 斜方蒸着膜が形成される斜方蒸着基板であって、
   複数の画素部が、直線的に交差した２方向に間隙を有して配列され、斜方蒸着膜の蒸着方向の分布を考慮して、各画素部が斜方蒸着基板の面内において相対的に回転されていることを特徴とする斜方蒸着基板。
2. 前記画素部は、矩形形状を有し、
   前記複数の画素部には、前記画素部の外形線が前記２方向に対して斜めに傾いて配置された画素部が含まれていることを特徴とする請求項１に記載の斜方蒸着基板。
3. 前記画素部は、長辺方向と短辺方向とを有し、
   前記画素部の長辺と所定の角度で交差する仮想線を前記画素部毎に設定したときに、各画素部に設定された仮想線は、斜方蒸着基板から離間する所定の位置に向けて収束するように延びていることを特徴とする請求項２に記載の斜方蒸着基板。
4. 前記画素部の中心は、前記２方向に沿ってそれぞれ一定の間隔で配置され、
   前記２方向のうち、前記画素部の短辺同士の間隙に沿って延びる方向を第１方向とし、前記画素部の長辺同士の間隙に沿って延びる方向を第２方向としたときに、前記第１方向の画素部の中心間隔は前記第２方向の画素部の中心間隔よりも小さいことを特徴とする請求項３に記載の斜方蒸着基板。
5. 斜方蒸着膜が形成された矩形の第１基板を有する液晶装置であって、
   前記第１基板は矩形の第１画素部を備えており、前記第１基板の外形線と前記第１画素部の外形線とが斜めに傾いて配置されていることを特徴とする液晶装置。
6. 斜方蒸着膜が形成された矩形の第２基板を有し、
   前記第２基板は矩形の第２画素部を備えており、前記第２基板の外形線と前記第２画素部の外形線とが斜めに傾いて配置されており、
   前記第１基板と前記第２基板とは、前記第１画素部と前記第２画素部とを対向させて貼り合わされていることを特徴とする請求項５に記載の液晶装置。
7. 複数の画素部が、直線的に交差した２方向に間隙を有して配列されてなる斜方蒸着基板上に斜方蒸着膜を形成する工程と、
   前記複数の画素部の境界部を前記２方向にスクライブする工程と、を有し、
   前記斜方蒸着基板は、斜方蒸着膜の蒸着方向の分布を考慮して、各画素部が斜方蒸着基板の面内において相対的に回転されていることを特徴とする液晶装置の製造方法。
8. 請求項５に記載の液晶装置を実装ケースに収容してなる液晶ライトバルブを光変調手段として用いた投射型表示装置であって、
   前記液晶装置は、前記第１基板と、前記第１基板と液晶を介して対向配置された第２基板と、前記第２基板の前記液晶側とは反対側に配置された防塵用基板と、を有し、
   前記防塵用基板は矩形形状を有し、
   前記防塵用基板の外形線は、前記第１基板の第１画素部の外形線と平行に配置され、
   前記実装ケースは、前記防塵用基板を嵌め込む凹形状を有したフレーム部を有し、
   前記フレーム部の前記第１画素部と対向する面に前記第１画素部に光を透過させるための窓部を有することを特徴とする投射型表示装置。

Images