JP2011203470A - 光学補償積層フィルムの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】簡略な工程により、屈折率異方性を制御して、光学補償性能が高い光学補償積層フィルムを得ることができる光学補償積層フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る光学補償積層フィルムの製造方法は、基材フィルム１１の少なくとも片面に、屈折率異方性が下記式（１）を満たす水溶性化合物を水に溶解させた水溶液を塗工して、水溶性化合物層１２を積層する工程と、上記基材フィルム１１と水溶性化合物層１２との積層フィルム２１を、少なくとも一方向に延伸して、光学補償積層フィルムを得る工程とを備える。
ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ・・・式（１）
上記式（１）中、ｎｘは前記水溶性化合物の面内の最大屈折率を表し、ｎｙは前記水溶性化合物面内のｎｘ方向と直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙの屈折率方向と直交する方向の屈折率を表す。
【選択図】図１

Description

本発明は、光学補償性能を有する光学補償積層フィルムであって、例えば、表示画像を高品位にするために、液晶表示装置などに用いられる光学補償積層フィルムの製造方法に関する。

液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ：ＬＣＤ）は、液晶分子が封入されており、かつ電極が組み込まれている液晶セルに、光学フィルム及び偏光板が貼り合わされて構成される。液晶表示装置の動作方式として、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード等があり、液晶分子の配向形態によって主に定義される様々な方式が提案されている。これらはいずれも、液晶分子の電気光学特性を利用して、画像を表示させる。

上記液晶表示装置では、偏光板を介して見るディスプレイの画像品位を高める目的で、多様な機能を有する光学フィルムが用いられる。光学フィルムは、透明性及び光学補償性をはじめとして、用途に応じて種々の光学特性を有する必要がある。中でも、液晶が本来有する複屈折性に起因する光学的な歪み、及び視覚方向により表示が着色するなどの視野角依存性を解消するために、上記光学フィルムとして、光学異方性を応用した光学補償フィルムが広く用いられている。

液晶テレビ又はモニターなどの大画面用途では、広視野角と高コントラスト比とに優れているので、ＶＡ方式（垂直配向方式）の液晶表示装置が主流となる傾向がある。ＶＡ方式の液晶表示装置では、液晶が垂直配向した構造をとる。このため、液晶層を通過した光を補償するために、屈折率楕円体は縦に短いことが望ましい。さらに、ＶＡ方式の液晶表示装置に用いられる光学補償フィルムについては、屈折率楕円体がパネル水平方向に長軸を有しかつ扁平で、固有複屈折が正値であることが望ましい。従って、光学補償フィルムのＮＺ係数は、１．０以上であることが望ましく、１．３以上であることがより望ましい。

上記のような光学補償性能を有するフィルムの一例として、下記の特許文献１には、一般にポジティブＡプレートと呼ばれる一軸配向性フィルムと、一般にネガティブＣプレートと呼ばれる二軸配向性フィルムとの積層フィルムが記載されている。また、下記の特許文献２には、Ａプレート及びＣプレートが有する光学補償性能を一枚のフィルムに付与した二軸延伸フィルムが記載されている。

なお、ポジティブＡプレートの屈折率異方性を下記式（２１）、ネガティブＣプレートの屈折率異方性を下記式（２２）、ＶＡ方式の光学補償に一般的に利用される二軸延伸フィルムの屈折率異方性を下記式（２３）に示す。

ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚ・・・式（２１）
ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ・・・式（２２）
ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ・・・式（２３）
上記式（２１）〜（２３）中、ｎｘはフィルム面内の最大屈折率を表し、ｎｙはフィルム面内のｎｘ方向と直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙの屈折率方向と直交する方向の屈折率を表す。

上記光学補償フィルムの製造方法として、屈折率異方性を有し、特定の光学補償性能を発現する樹脂又は化合物を有機溶媒に溶解させた塗液を用いて、樹脂フィルム又はガラス基板上に光学異方層を形成する方法が提案されている。

例えば、下記の特許文献３には、上記ネガティブＣプレートである光学補償フィルムを得るために、特定の光学異方性を有する化合物を含む塗液を用いて、基材フィルム上に光学異方層を形成する光学補償積層フィルムの製造方法が記載されている。

下記の特許文献４には、三方向屈折率が特定の相互関係を有するコーティング用樹脂を有機溶媒に溶解させた塗液を用いて、基材フィルム上にコーティング層を形成し、次にコーティング層が形成された基材フィルムを延伸し、光学補償性能を制御する光学補償積層フィルムの製造方法が開示されている。ここでは、複屈折を発現させるために、加熱延伸法によりフィルムを延伸することが記載されている。

特開２００７−１１４７６２号公報 特表２００７−５３４０１０号公報 特開２００９−２８６８８５号公報 特開２００８−１６９３８４号公報

特許文献３に記載の製造方法により得られる光学補償積層フィルムは、ネガティブＣプレートであり、単独での利用価値は低い。液晶表示装置の表示画質を高品位にするためには、上記ネガティブＣプレートは、ポジティブＡプレートと併用する必要がある。この結果、液晶表示装置を構成する部材数が増える。部材数が増えると、液晶表示装置の薄型化に対応できないことがある。

また、上記光学異方層を形成するための塗液において、溶媒の選定は重要である。溶媒は、光学異方性材料分子の配向制御、並びに塗膜の強度及び均一性に影響を与える。従来、特許文献３，４に記載のように、上記光学異方層を形成するための塗液における溶媒として、有機溶媒が広く用いられている。すなわち、光学異方性材料は有機溶媒中に均一に溶解されて用いられている。光学異方性材料を有機溶媒に溶解させた塗液は、濡れ性が高く、該塗液が塗工される基材フィルムとの親和性が比較的良好である。このため、光学異方性材料を有機溶媒に溶解させた塗液を用いれば、均一な塗膜を得やすい。しかしながら、低公害化、省資源化及び低コスト化の要求、並びに製造環境の問題からは、有機溶媒はなるべく用いないことが望ましい。

また、特許文献３，４で用いられる塗液は有機溶媒を含むために、インラインプリコート法を適用して、塗工工程と延伸工程とを連続して行う場合において、問題が生じる。すなわち、延伸工程において、主として用いられる延伸装置は、高温にされ、かつ大きな電力を出力する。このため、有機溶媒の使用に対応して、防爆設備及び排気設備などの特殊な設備を延伸装置に備え付ける必要があり、延伸装置全体のコストが高くなる。従って、インラインプリコート法を適用して、塗工工程と延伸工程とを連続して行う場合には、有機溶剤などの非水系溶媒ではなく水を含む塗液を用いることが望ましい。

一方で、塗液を塗工して光学異方層を形成した後に、該光学異方層が形成されたフィルムを一旦巻取り、次いで巻出してフィルムを延伸するオフラインプリコート法では、延伸工程とは別に塗工工程が行われる。このため、延伸装置に上記のような特殊な設備を備え付ける必要はない。しかし、塗工工程と延伸工程とを別々に行わなければならないので、それぞれの専用装置を用意する必要があり、装置全体に必要なスペースが大きくなる。また、工程管理も増え、結果的に光学補償フィルムのコストが高くなる。さらに、オフラインコート法では、一般にフィルムをロール状に一旦巻取るので、巻き取られたフィルム同士がブロッキングして、結果として光学補償フィルムの性能が低下することがある。さらに、ブロッキングを防止するために、プロテクトフィルム又は挟合紙を用いなければならないこともある。

本発明の目的は、簡略な工程により、屈折率異方性を制御して、光学補償性能が高い光学補償積層フィルムを得ることができる光学補償積層フィルムの製造方法を提供することである。

本発明の限定的な目的は、良好な二軸性及び光学補償性能を有し、液晶表示装置の画像表示を高品位にすることが可能な光学補償積層フィルムを得ることができる光学補償積層フィルムの製造方法を提供することである。

本発明の広い局面によれば、基材フィルムの少なくとも片面に、屈折率異方性が下記式（１）を満たす水溶性化合物を水に溶解させた水溶液を塗工して、水溶性化合物層を積層する工程と、上記基材フィルムと上記水溶性化合物層との積層フィルムを、少なくとも一方向に延伸して、光学補償積層フィルムを得る工程とを備える、光学補償積層フィルムの製造方法が提供される。

ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ・・・式（１）
上記式（１）中、ｎｘは上記水溶性化合物面内の最大屈折率を表し、ｎｙは上記水溶性化合物面内のｎｘ方向と直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙの屈折率方向と直交する方向の屈折率を表す。

本発明に係る光学補償積層フィルムの製造方法のある特定の局面では、上記水溶性化合物として、スルホン酸基を二つ以上有する多環フェニル化合物を用いる。

本発明に係る光学補償積層フィルムの製造方法では、基材フィルムの少なくとも片面に、屈折率異方性が式（１）を満たす水溶性化合物を水に溶解させた水溶液を塗工して、水溶性化合物層を積層した後、上記基材フィルムと上記水溶性化合物層との積層フィルムを、少なくとも一方向に延伸するので、屈折率異方性を制御でき、光学補償性能が高い光学補償積層フィルムを得ることができる。

図１は、本発明の一実施形態に係る光学補償積層フィルムの製造方法の各工程を説明するための断面図である。 図２は、本発明の一実施形態に係る光学補償積層フィルムの製造方法により得られる光学補償積層フィルムを示す断面図である。

本発明者は、基材フィルムの少なくとも片面に、屈折率異方性が下記式（１）を満たす水溶性化合物を水に溶解させた水溶液を塗工して、水溶性化合物層を積層した後、上記基材フィルムと上記水溶性化合物層との積層フィルムを、少なくとも一方向に延伸することにより、レターデーション及び二軸性などの光学補償性能を多様に制御できることを見出した。さらに、上記水溶性化合物により光学異方層を形成するために、有機溶剤を用いなくてもよく、有機溶剤を用いたとしても有機溶媒の使用量を少なくでき、この結果、防爆設備及び排気設備などの特殊な設備を延伸装置に備え付けなくても、更にインラインプリコート法を適用しても、良好な光学異方層を有する光学補償積層フィルムが得られることを見出した。

本発明に係る光学補償積層フィルムの製造方法により得られる光学補償積層フィルムの使用により、液晶表示装置の表示画像を高品位にすることができる。さらに、例えば、延伸フィルムであるポジティブＡプレートなどの他のフィルムと併用しなくても、液晶表示装置の表示画質を高品位にすることができる。従って、液晶表示装置を構成する部材数を少なくすることができる。

以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施形態及び実施例を説明することにより本発明を明らかにする。

先ず、本発明の一実施形態に係る光学補償積層フィルムの製造方法により得られる光学補償積層フィルムを、図２を用いて説明する。

図２に示す光学補償積層フィルム１は、基材フィルム２と、基材フィルム２の第１の表面２ａに積層された光学異方層３とを備える。基材フィルム２の第１の表面２ａとは反対側の第２の表面２ｂには、光学異方層３は積層されていない。基材フィルム２の少なくとも片面に光学異方層が積層されていればよく、第２の表面２ｂにも光学異方層３が積層されていてもよい。

図２に示す光学補償積層フィルム１は、基材フィルム２と光学異方層３とが少なくとも一方向に延伸された状態である延伸フィルムである。

本発明の一実施形態に係る光学補償積層フィルムの製造方法では、以下の工程を経て光学補償積層フィルムを得る。

先ず、図１（ａ）に示すように、基材フィルム１１を用意する。基材フィルム１１は、最終延伸前の基材フィルムであり、かつ配向終了前の基材フィルムである。

次に、図１（ｂ）に示すように、用意された基材フィルム１１の第１の表面１１ａに、屈折率異方性が下記式（１）を満たす水溶性化合物を水に溶解させた水溶液を塗工して、水溶性化合物層１２を積層する。このようにして、基材フィルム１１と水溶性化合物１２との積層フィルム２１を得る。得られた積層フィルム２１では、基材フィルム１１の第１の表面１１ａに水溶性化合物層１２が積層されている。

ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ・・・式（１）
上記式（１）中、ｎｘは上記水溶性化合物面内の最大屈折率を表し、ｎｙは上記水溶性化合物面内のｎｘ方向と直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙの屈折率方向と直交する方向の屈折率を表す。

なお、基材フィルム１１の少なくとも片面に水溶性化合物層１２を積層すればよく、必要に応じて、基材フィルムの第１の表面１１ａだけでなく、基材フィルムの第１の表面１１ａとは反対側の第２の表面１１ｂにも水溶性化合物層１２を積層してもよい。

次に、図１（ｂ）に示す積層フィルム２１は、少なくとも一方向に延伸される。延伸により、延伸条件に応じて光学異方性が発現して、基材フィルム１１が延伸された基材フィルム２と、水溶性化合物層１２が延伸された光学異方層３とを有する光学補償積層フィルム１を得ることができる。

また、基材フィルム２は、延伸された基材フィルムであり、配向終了後の基材フィルムであり、かつ配向された基材フィルムである。基材フィルム２は延伸されているため、延伸条件に応じた光学異方性が、光学異方層３だけでなく基材フィルム２にも付与される。

延伸により、光学異方層３が有する屈折率異方性と、基材フィルム２が有する屈折率異方性とが複合することで、光学補償積層フィルム１における光学補償性能が決定される。

本実施形態では、水溶性化合物層１２及び光学異方層３を形成するために、溶媒として水を用いている。このように、水溶性化合物層１２及び光学異方層３を形成するために、有機溶媒ではなく水を用いることにより、防爆設備及び排気設備などの特殊な設備を延伸装置に備え付けなくてもよい。さらに、インラインプリコート法により水溶性化合物層１２及び光学異方層３を形成できる。すなわち、基材フィルム１１の少なくとも片面に、水溶性化合物層１２を積層した後、積層フィルム２１をロール状に巻き取らずに、連続して少なくとも一方向に延伸することにより、すなわち塗工工程と延伸工程とを連続的に行うことにより、光学補償性能が高い光学補償積層フィルムを得ることができる。

以下、光学補償積層フィルムにおける基材フィルム及び光学異方層の詳細、並びにその材料などを具体的に説明する。

（水溶性化合物）
本発明では、屈折率異方性が下記式（１）を満たす水溶性化合物が用いられる。該水溶性化合物は、正面レターデーションＲ０を実質的に有さず、ネガティブＣと呼ばれる屈折率バランスを有することが好ましい。上記水溶性化合物は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。

ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ・・・式（１）
上記式（１）中、ｎｘは上記水溶性化合物面内の最大屈折率を表し、ｎｙは上記水溶性化合物面内のｎｘ方向と直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙの屈折率方向と直交する方向の屈折率を表す。

上記水溶性化合物の屈折率異方性が、上記式（１）を満たすことにより、後述する式（２）で定義される厚みレターデーションＲｔｈが一定の値を示し、更に後述する式（３）で表される正面レターデーションＲ０が実質的にゼロを示すようになる。従って、上記水溶性化合物により形成される光学異方層と配向終了後の基材フィルムとの光学異方性が複合することにより、上記光学補償積層フィルムでは多様な屈折率異方性を発現する。従って、ＶＡ方式、ＩＰＳ方式及びＯＣＢ方式等に対応した様々な光学補償性能を設計することが可能である。特に厚み方向に光学異方性を生じる方式に対応した光学補償性能を設計することが可能である。

なお、水溶性化合物における「水溶性」とは、塗工時に用いられる水溶液中において、分離しないように水に相溶することが可能な性質をいう。

光学補償性能をより一層高める観点からは、上記水溶性化合物は、スルホン酸基を有する水溶性化合物であることが好ましい。光学補償性能をさらに一層高める観点からは、上記水溶性化合物は、スルホン酸基を二つ以上有する水溶性化合物であることがより好ましい。上記スルホン酸基を有する水溶性化合物は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。

上記水溶性化合物は、下記式（１１）で表されるスルホン酸基を有することが好ましい。下記式（１１）で表されるスルホン酸基により、上記水溶性化合物を水に溶解させた水溶液の均一性が高くなる。

上記式（１１）中、Ｍは水素イオン、金属イオン、アンモニウムイオン又はその誘導体を表す。

上記水溶性化合物の屈折率は、例えば、以下のようにして評価できる。

先ず、アッベ屈折計（アタゴ社製、型番「ＩＴ」）を用いて、固有屈折率を測定する。次いで、自動複屈折測定装置（王子計測機器社製、型番「ＫＯＢＲＡ−ＷＲ」）を用いて、測定された固有屈折率の値から、測定光の波長を５５０ｎｍとして、直交する三方向の屈折率ｎｘ、ｎｙ及びｎｚを測定する。

上記水溶性化合物は多環化合物であることが好ましく、多環芳香族化合物であることが好ましく、特に多環フェニル化合物であることが好ましい。多環フェニル化合物には、フェニレン基を有する化合物も含まれる。多環化合物は、芳香環又は複素環を二つ以上有することが好ましい。多環化合物は、芳香族基を二つ以上有することが好ましく、フェニル基又はフェニレン基を二つ以上有することがより好ましく、フェニレン基を二つ以上有することがさらに好ましい。これらの好ましい水溶性化合物の使用により、屈折率異方性が上記式（１）を満たすことが可能であり、広い範囲で屈折率異方性を制御でき、光学補償性能をより一層高めることができる。

また、上記多環フェニル化合物は、複数の芳香環を有することから、耐熱性が高い。従って、延伸工程において高温で加熱される際にも、熱劣化又は分解に伴う水溶性化合物の変質は小さく、該水溶性化合物により形成される光学異方層の屈折率異方性が消失又は変化すること無い。このため、得られる光学補償積層フィルムにおいて、良好な光学補償性を維持することが可能である。

上記多環化合物は、下記式（１２）で表される多環化合物であることが好ましい。

Ｍ１Ｏ_３Ｓ−（Ｘ）_ｎ−ＳＯ_３Ｍ２ ・・・式（１２）
上記式（１２）中、Ｘは芳香環基、複素環基又はこれらの誘導体基を表し、Ｍ１及びＭ２はそれぞれ水素イオン、金属イオン、アンモニウムイオン又はその誘導体を表し、ｎは自然数を示す。上記式（１２）中、Ｘは芳香環基であることが好ましく、フェニレン基であることがより好ましい。

上記式（１２）で表される多環化合物では、疎水性が高い芳香環基、複素環基又はこれらの誘導体基に、親水性のスルホン酸基が導入されている。このため、基材フィルム上に、上記多環フェニル化合物などの多環化合物を含む水溶液を塗工すると、一般に基材フィルムの主面と芳香環面とが平行して配列し（いわゆる面配向を示し）、得られる光学補償積層フィルムの厚み方向屈折率が小さくなるような屈折率バランスとなる。上記水溶性化合物は、分子を構成する芳香環又は複素環が等方的に配列した対照構造を有することが好ましい。このように幾何的対照性を持つ分子構造を有する水溶性化合物では、分子平面内において、分子内分極が生じない。このため、水溶性化合物の光学異方性が上記式（１）を満たすことが可能であり、より一層望ましい光学異方性を発現することが可能となる。

上記式（１２）中Ｘが芳香環基である多環化合物としては、例えば、ビフェニル基、テルフェニル基、クアテルフェニル基、ナフチル基、アントラセン基、フェナントレン基、ナフタセン基、ベンゾフェナントレン基又はこれらの誘導体基の分子両末端に位置する芳香核に、スルホン酸基を導入した誘導体（変性物）等が挙げられる。上記多環化合物は、ビフェニル基、テルフェニル基、クアテルフェニル基、ナフチル基又はこれらの誘導体基を有することが好ましい。上記多環化合物は、例えば中和塩である。上記多環化合物は、各種の官能基を有していてもよい。上記多環化合物が各種の官能基を有する場合には、分子内分極を生じさせない範囲で、上記多環化合物が各種の官能基を有することが好ましい。

上記水溶性化合物の使用により、水溶液の調合が容易になり、水溶液の基材フィルムの表面への塗工性が高くなり、光学補償積層フィルムの生産性が高くなり、特に衛生面及びメンテナンスの面が特に著しく向上する。

（水溶液）
上記水溶性化合物は、水に溶解された状態で水溶液として、基材フィルム上に塗工される。水を用いた場合には、有機溶剤を用いた場合と比較して、原料コストが安価になる。さらに、防爆設備及び排気設備を省略でき、固定コスト面でも有利であり、更に労働衛生面及び作業面でも特に優れている。従って、水性塗液である上記水溶液の利用価値は高い。上記水溶液は、有機溶剤を含まないことが好ましい。ただし、上記水溶液は、有機溶剤を含んでいてもよい。例えば、原料に含まれている少量の有機溶剤を含んでいてもよい。主溶媒として有機溶剤ではなく水を用いることにより、水溶液を塗工した後に水を揮発させた塗膜において、有機溶剤の残留量を低減でき、得られる光学補償積層フィルムの商品価値を高くすることができる。

上記水溶性化合物を水に溶解させた水溶液１００重量％中、上記水溶性化合物の含有量は、０．５〜５０重量％であることが好ましい。上記水溶性化合物の含有量がこの範囲内であると、水溶液の調合が容易であり、かつ水溶液の貯蔵安定性が高くなる。上記水溶液１００重量％中、上記水溶性化合物の含有量のより好ましい下限は１重量％、より好ましい上限は３０重量％である。上記水溶性化合物の含有量が１重量％以上、３０重量％以下であると、水溶液の輸送性、基材フィルムへの塗工性、及び作業性を高めることができる。また、上記水溶性化合物の含有量が上記下限及び上限を満たすと、水溶液の粘性が適度になり、塗工後に流動性が適度になり、基材フィルムに対する上記水溶液の濡れ性が良好となり、より一層均一な光学異方層を得ることができる。

上記水溶液には、本発明の効果を低下させない範囲で、帯電防止剤、酸化防止剤、無機滑剤、有機滑剤、乳化剤、ｐＨ調整剤、紫外線吸収剤、消泡剤、顔染料及び結晶核剤などの各種の添加剤が配合されていてもよい。

（基材フィルム）
上記基材フィルムは、光学的に透明であり、残留位相差が少ないことが好ましい。基材フィルムの表面に上記水溶性化合物層を積層した後、得られた積層フィルムを更に延伸することにより、基材フィルムに対しても所定の光学異方性を付与する。従って、最終延伸前の上記基材フィルムは、配向終了前の基材フィルムである。

配向終了前の基材フィルムは、例えば、フィルム構成分子が、フィルム長手方向又は幅方向に配向していない二軸配向していないフィルムである。配向終了前の基材フィルムとしては、特定の方向に分子配向していない無配向フィルム、並びに長手方向又は幅方向の内の一方向に配向した一軸配向フィルムが挙げられる。一軸配向フィルムの使用により、正面レターデーションＲ０又は厚みレターデーションＲｔｈを良好にすることができ、特定の光学補償性能が付与された光学補償積層フィルムを得ることが可能になる。

上記無配向フィルムから一軸配向フィルムを得る手法としては、基材フィルムを構成する材料に応じて様々な手法が適用可能であり、例えば、ロール間延伸及びクリップテンターによる一軸延伸法等が挙げられる。

上記基材フィルムの材料としては、例えば、アクリル、ポリエステル、ポリプロピレン、トリアセチルセルロース、シクロオレフィン、ポリカーボネート、ポリサルホン及びポリアリレート等が挙げられる。

上記基材フィルムの製造方法は特に限定されず、従来公知の任意の成形法を用いることができる。上記基材フィルムの製造方法として、例えば、上記材料を押出機に供給して溶融し、混練し、押出機の先端に取り付けられた金型からフィルム状に押出した後、静電印荷キャスト法、タッチロール法又はエアーナイフキャスト法により、冷却した回転ドラム上で冷却固化し、長尺状のフィルムに成膜する溶融押出法、並びに上記材料を溶媒に溶解させた溶液を、ドラム又は無端ベルト等の上に流延した後、溶媒を蒸発させ、長尺状のフィルムに成膜する溶液流延法等が挙げられる。厚み８０μｍ以上の無配向フィルムを得る場合には、溶液流延法では溶媒を充分に蒸発、除去することが困難になるので、溶融押出法が好ましい。

なお、上記基材フィルムの製造方法により得られる基材フィルムは、一般的には、実質的に無配向の樹脂フィルムである。最終延伸前の基材フィルムにおけるフィルム面内方向及びフィルム厚み方向におけるレターデーション値はゼロに近いことが好ましい。より具体的には、最終延伸前の基材フィルムにおけるフィルム面内方向のレターデーション値は２０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以下であることがより好ましい。

最終延伸前の基材フィルムの平均厚みは特に限定されない。最終延伸前の基材フィルムに上記水溶液を塗工した後、更に基材フィルムを延伸することから、最終延伸前の基材フィルムの厚みは、延伸による薄膜化を考慮しながら、光学補償積層フィルムに対して要求される光学補償性能及び厚さに応じて決定される。最終延伸前の基材フィルムの平均厚みは、３０〜５００μｍであることが好ましい。最終延伸前の基材フィルムの平均厚みのより好ましい下限は４０μｍ、より好ましい上限は３００μｍである。

上記基材フィルムの表面は、コロナ処理、プラズマ処理、紫外線照射又は各種薬品処理等の表面活性処理が施されていてもよい。また塗工加工又は蒸着による各種の機能コーティング又はラミネート等を行うことにより、基材フィルムに諸性能を付加し、基材フィルムの利用価値を更に向上させることもできる。

（水溶性化合物層の形成方法及び積層フィルムの延伸方法）
上記基材フィルムの少なくとも片面に、上記水溶性化合物を溶解させた水溶液を塗工し、水溶性化合物層を積層する。上記水溶性化合物を溶解させた水溶液を塗工し、乾燥することにより、水溶性化合物層を積層することが好ましい。延伸工程における予熱部において、上記水溶性化合物を乾燥させてもよい。このようにして得られた基材フィルムと水溶性化合物層との積層フィルムは、巻取ることなく連続して延伸工程に供給され、延伸されることが好ましい。

上記水溶性化合物層の塗工厚みは特に限定されない。最終延伸前の基材フィルムに、上記水溶液を塗工して、水溶性化合物層を積層した後、更に積層フィルムを延伸することから、延伸前の水溶性化合物層の塗工厚みは、延伸による薄膜化を考慮しながら、光学補償積層フィルムに対して要求される光学補償性能及び厚さに応じて決定される。延伸後の光学異方層の平均厚みは、３０〜５００μｍであることが好ましい。上記光学異方層の平均厚みのより好ましい下限は４０μｍ、より好ましい上限は３００μｍである。

延伸前の基材フィルム上に上記水溶液を塗工する方法は特に限定されず、光学的に透明で均質な膜を形成し得る各種の塗工方法が適宜用いられる。上記塗工方法としては、例えば、ダイコート法、バーコート法、ロールコート法、ナイフコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、オフセットグラビアコート法、リップコート法、浸漬法、スプレーコート法及びスピンコート法等が挙げられる。これらの塗工方法のうち１つの方法を用いてもよく、２つ以上の方法を用いてもよい。

上記積層フィルムを少なくとも一方向に延伸することにより、上記光学補償積層フィルムを得ることができる。例えば、積層フィルムを延伸工程の予熱部に供給し、延伸部にて延伸した後、必要に応じて熱処理部にてアニール処理して、配向フィルムである光学補償積層フィルムを得ることができる。

上記塗工工程と延伸工程とをインラインで連続して行う方法は、いわゆるインラインプリコート法として公知である。光学補償フィルムを得るために、インラインプリコート法を用いることが好ましい。上記インラインプリコート法では、塗工工程と延伸工程とが同一工程内で行われ、光学異方層が形成される。従って、一般に広く実施されているポストコート法又はオフラインコート法と呼ばれる方法に対して、光学補償積層フィルムの製造工程が簡略化されることから、設備費及び運転費等の固定コスト面で、上記インラインプリコート法は非常に有利な方法である。

上記無配向又は一軸配向フィルムである基材フィルムを延伸する際には、延伸の前に、フィルムを予熱する予熱工程と、長手方向及び幅方向の内の少なくとも一方向に、フィルムを加熱しながら延伸する加熱延伸工程と、延伸されたフィルムを熱処理する熱処理工程とが行われる。また、上記熱処理工程の後に、冷却工程が行われることが好ましい。

各工程におけるフィルムの加熱法としては、熱ロール接触加熱法、及びエアーフローティング加熱方式を利用した空気対流加熱法等が挙げられる。これらのフィルム加熱法を併用してもよい。フィルム加熱法は、延伸形態に応じて適宣選択される。

上記予熱工程は、積層フィルムを延伸可能なフィルム温度まで加熱する工程である。上記予熱工程は、特にテンタークリップ方式の延伸形態において発生する分子配向の湾曲パターン（いわゆるボーイング）を低減し、配向を揃えるための機能を担う。予熱工程は、基材フィルム上に上記水溶液を塗工した後、塗膜中の溶媒である水を乾燥して除去するための乾燥工程を兼ねてもよい。

予熱工程における積層フィルムの温度は、実質的に基材フィルムの延伸可能温度に応じて設定され、次工程である延伸工程での基材フィルム温度よりも少なくとも等温又は高温であることが好ましい。基材フィルムを構成する材料（樹脂）のガラス転移温度をＴｇ（℃）としたときに、予熱工程における積層フィルムの温度は、Ｔｇ〜Ｔｇ＋４０℃であることが好ましい。予熱温度が低すぎると、延伸工程において延伸応力が過大となりフィルムが切断しやすくなる。予熱温度が高すぎると、延伸応力が不足し、所定の光学補償性能を得ることが困難になる傾向がある。さらに、基材フィルムが過度に軟化することで、工程内で十分な搬送張力が得られず、自重によりフィルムが垂れ下がり、走行不良を引き起こすことがある。このため、延伸工程にフィルムを移行させることが困難になることがある。

予熱工程における熱風の風圧は、特に水溶性化合物層を乾燥したり、均一な光学異方層を形成したりするために重要である。予熱工程における熱風の風圧は、未乾燥状態の水溶性化合物層が力学的負荷により乱されることがなく、かつ上記基材フィルム及び水溶性化合物層における熱的負荷が大きくなりすぎないように、適宜設定される。予熱工程における風圧は、０．１〜１．０ＭＰａであることが好ましい。風圧の好ましい下限は０．３ＭＰａ、好ましい上限は０．８ＭＰａである。予熱工程における風圧が低すぎると、溶媒である水の揮発が不十分となるので、光学異方層は脆弱になる。風圧が高すぎると、光学異方層を構成する材料分子の配列が緩和され、光学補償性能が低下する傾向がある。さらに、加熱軟化した基材フィルムが風圧に耐えられず大きく振動し、走行不良が生じることがある。

延伸工程において、積層フィルムを加熱しながら、該積層フィルムの長手方向又は幅方向の少なくとも一方向に延伸することで、実質的に無配向又は一軸配向フィルムである基材フィルムの構成分子を変形方向に配向させ、該基材フィルムに、複屈折をはじめとする光学異方性を付与できる。さらに、延伸により基材フィルムの機械特性及び耐久性を高めることができる。

本発明に係る光学補償積層フィルムの製造方法では、例えば、最終延伸前の基材フィルムと延伸前の水溶性化合物層との積層フィルムを、テンター等により長手方向及び幅方向の内の少なくとも一方向に延伸する。

上記積層フィルムは、長手方向及び幅方向の内の何れか一方向のみに一軸延伸してもよく、長手方向及び幅方向に二軸延伸してもよい。二軸延伸法としては、長手方向又は幅方向に延伸した後、前段の延伸方向と直交する方向に延伸する逐次二軸延伸法、並びに長手方向及び幅方向に同時に延伸する同時二軸延伸法が挙げられる。二軸延伸法は、光学補償性能及び生産性を考慮して、適宣選択される。設備費を低くし、かつ操作性及び光学補償性能を高める観点からは、逐次二軸延伸法が好ましい。

長手方向への縦一軸延伸方法として、従来公知の方法を採用できる。縦一軸延伸方法としては、ロール間延伸法及びクリップテンター法等が挙げられる。操作性を高め、設備費を低くする観点からは、ロール間延伸法がより好ましい。ロール間延伸法は、上流側に設置されたロールを低速度、下流側に設置されたロールを高速度として、異なる回転速度で回転される複数のロールを長手方向に任意の間隔で配置して、ロールの間隙を介して加熱下でフィルムを搬送することで、ロール速度差に応じてフィルムを延伸する手法である。ロールの配置距離により事実上定義される延伸距離がフィルム幅よりも短いと、長手方向への分子配向は不十分となる。上記延伸距離が長すぎると、フィルムの折れ、フィルムのしわ及び加熱炉パーツ等における接触傷が生じやすくなる。上記延伸距離は、フィルムの走行性に応じて適宣設定される。ロールに対するフィルムの保持力を高め、グリップを良くし、更に加熱延伸工程における応力の影響を前後の工程に波及させないことを目的として、上記ロールは、ニップ機構を備えることが好ましい。なお、上記ニップ機構を構成するロール表面は、延伸時に水溶性化合物層と接することがある。このため、ロールとの接触による水溶性化合物層の欠損を防止する目的で、ロール表面は、フッ素樹脂加工等の表面不活性処理が施されていることが好ましい。

幅方向への横一軸延伸方法、及び長手方向と幅方向への同時二軸延伸方法として、従来公知の任意のテンター延伸法を採用できる。横一軸延伸方法及び同時二軸延伸方法としては、例えば、フィルムの幅方向の両端部をテンタークリップで把持し、テンタークリップの幅方向の間隔を次第に離間させ、フィルムを幅方向に拡幅し、延伸する方法が挙げられる。さらに、上記幅方向に延伸する方法に加え、パンタグラフ構造又はリニアモータ方式によるリンク機構を利用して、長手方向に互いに隣接するクリップを次第に離間させ、フィルムを長手方向に延伸する方法が挙げられる。

上記延伸工程における積層フィルムの温度が低すぎると、過大な延伸応力により延伸中にフィルムが切断して、テンタークリップがはずれたりして、フィルムの走行安定性が損なわれることがある。上記延伸工程における積層フィルムの温度が高すぎると、延伸応力が不足し、延伸効果を十分に得ることができず、配向緩和が優先して所望のレターデーション値が得られないことがある。従って、上記延伸工程における積層フィルムの温度は、基材フィルムを構成する材料のガラス転移温度をＴｇ（℃）としたときに、Ｔｇ−２０〜Ｔｇ＋４０℃の範囲内であることが好ましい。上記延伸工程における積層フィルムの温度のより好ましい下限はＴｇ−１０℃、より好ましい上限はＴｇ＋２０℃である。

上記加熱延伸工程における加熱延伸開始から終了までの延伸時間は、１０〜１００秒の範囲内であることが好ましい。上記延伸時間のより好ましい下限は２０秒、より好ましい上限は６０秒である。上記延伸時間が長すぎると、熱緩和によりレターデーションが著しく低下しやすくなり、延伸による分子配向効果を充分に得ることができないことがある。上記延伸時間が短すぎると、顕著なボーイング現象により、遅相軸のフィルム幅方向への不均一分布を補正できないことがある。さらに、過大な延伸応力により延伸時にフィルムが切断して、テンタークリップがはずれたりして、フィルムの走行安定性が損なわれることがある。

上記加熱延伸工程における加熱時間は、主に連続生産性に基づいて決定される積層フィルムの走行速度に応じて適宣設定される。上記加熱時間は、光軸精度と光学物性の耐久性とを均衡させる上で重要である。特に加熱延伸を複数回行う場合には、第１回目の加熱延伸の加熱時間は、耐久性に大きく影響する。上記第１回目の加熱延伸の加熱時間は、５〜５０秒の範囲内であることが好ましく、１０〜３０秒の範囲内であることがより好ましい。加熱延伸工程全体の加熱時間は、１０〜１００秒の範囲内であることが好ましく、２０〜６０秒の範囲内であることがより好ましい。上記加熱時間が上記好ましい範囲内であることにより、良好なレターデーションと優れた耐久性とを両立させることが可能となる。上記加熱時間が短すぎると、過大な延伸応力によるフィルム破断又はクリップ掴み外れ等が生じて、フィルムの走行安定性が損なわれることがある。上記加熱時間が長すぎると、延伸応力が不足し、延伸による分子配向効果を十分に得ることができず、所定のレターデーションを得られないことがある。

上記加熱延伸工程における延伸倍率は、光学補償積層フィルムの補償位相差量によって適宜決定される。延伸倍率が低すぎると、配向方向が均一に揃わないことがある。延伸倍率が高すぎると、フィルムの中央部がたわみ、レターデーション値、遅相軸又は厚みの幅方向分布が不均一になる。従って、上記延伸倍率は、１．１０〜６．００倍の範囲内であることが好ましい。上記延伸倍率のより好ましい下限は１．５０倍、より好ましい上限は５．００倍である。

上記加熱延伸工程における延伸歪み速度の好ましい下限は５０％／分、より好ましい下限は１００％／分、より好ましい上限は２，０００％／分である。上記歪み速度が遅すぎると、レターデーションの発現性が低下することがある。上記歪み速度が速すぎると、フィルムが切断したり、テンタークリップがはずれたりすることがある。また、高い歪み速度で延伸することにより、特にテンタークリップ方式による延伸では、クリップレール開き角度を大きく取り、延伸ゾーンの炉長を極力短くすることができる。

上記熱処理工程は、延伸後の光学補償積層フィルムの残留歪みを除去又は低減し、アニール処理するための工程である。上記熱処理工程により、分子配向を制御し、幅方向の光学特性及び厚みを揃えることができる。また、上記熱処理工程により、延伸フィルムのボーイングを低減し、配向を揃えることができる。

上記熱処理工程における加熱温度が高すぎると、レターデーション値が低下する。上記基材フィルムを構成する材料のガラス転移温度をＴｇ（℃）としたとき、上記熱処理工程における加熱温度は、（Ｔｇ−３０）〜（Ｔｇ＋１０）℃の範囲内であることが好ましい。上記加熱温度が上記好ましい範囲内であることにより、ボーイングを制御し、フィルム幅方向における分子配向精度を高めることができる。

上記熱処理工程における加熱時間は、主に連続生産性に基づいて決定される積層フィルムの走行速度に応じて適宣設定される。上記加熱時間は、５〜６０秒の範囲内であることが好ましく、１０〜３０秒の範囲内であることがより好ましい。加熱延伸後の熱処理工程における加熱時間が上記好ましい範囲内であることにより、ボーイング現象を抑制し、優れた光軸精度を得ることができる。上記加熱時間が短すぎると、十分なアニール効果が得られず、結果としてフィルム流れの下流側に配向がせり出し、逆ボーイングを助長することがある。上記加熱時間が長すぎると、フィルム流れの上流側に配向がせり出し、正ボーイングを助長することがある。このため、液晶パネルの表示画像の品位が低下し、光学補償積層フィルムとしての商品価値が低下することがある。

上記冷却工程は、フィルムを急冷することにより、フィルムに形成された分子配向をフィルム固定するための工程である。上記基材フィルムの材料のガラス転移温度をＴｇ（℃）としたとき、上記冷却工程における冷却温度は、（Ｔｇ−５０）〜（Ｔｇ−５）℃の範囲内であることが好ましい。

（光学補償積層フィルム）
本発明に係る光学補償積層フィルムは、下記式（２）で定義される厚みレターデーションＲｔｈ（ｎｍ）が、５０〜６００ｎｍであることが好ましい。

Ｒｔｈ（ｎｍ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ ・・・式（２）
上記式（２）中、ｎｘは光学補償積層フィルム面内の最大屈折率を表し、ｎｙは光学補償積層フィルム面内のｎｘ方向と直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ方向及びｎｙ方向と直交する方向の屈折率を表し、ｄは光学補償積層フィルムの平均厚み（ｎｍ）を表す。

厚みレターデーションＲｔｈが５０〜５００ｎｍであると、光学補償積層フィルムを液晶表示装置に組み込むと、表示画像を高品位にすることができ、特にＶＡ型液晶パネルに積層した際に、複屈折性に起因する光学歪、及び視覚方向による画像品位変調などの視野角依存性を補償することができる。厚みレターデーションＲｔｈが上記範囲外であると、液晶を通過する際の複屈折を補償しきれず、光学補償積層フィルムとしての商品価値が低下する。厚みレターデーションＲｔｈのより好ましい下限は１００ｎｍ、更に好ましい下限は２００ｎｍ、より好ましい上限は４００ｎｍ、更に好ましい上限は３００ｎｍである。

本発明に係る光学補償積層フィルムは、下記式（３）で定義される正面レターデーションＲ０（ｎｍ）が、５０〜５００ｎｍであることが好ましい。

Ｒ０（ｎｍ）＝｜ｎｘ−ｎｙ｜×ｄ ・・・式（３）
上記式（３）中、ｎｘは光学補償積層フィルム面内の最大屈折率を表し、ｎｙは光学補償積層フィルム面内のｎｘ方向と直交する方向の屈折率を表し、ｄは光学補償積層フィルムの平均厚み（ｎｍ）を表す。

正面レターデーションＲ０が５０〜５００ｎｍであると、光学補償積層フィルムを液晶表示装置に組み込むと、表示画像を高品位にすることができ、特にＶＡ型液晶パネルに積層した際に、複屈折性に起因する光学歪、及び視覚方向による画像品位変調などの視野角依存性を補償することができる。正面レターデーションＲ０が上記範囲外であると、液晶を通過する際の複屈折を補償しきれず、光学補償積層フィルムとしての商品価値が低下する。正面レターデーションＲ０のより好ましい上限は３００ｎｍ、更に好ましい上限は２００ｎｍである。

上記光学補償積層フィルムは、フィルム面内における配向方向である遅相軸のフィルム幅方向に対するずれ角度θ（°）が±１°以内であることが好ましく、±０．５°以内であることがより好ましい。ずれ角度θが上記範囲内であると、フィルム全面で光軸が均一化する。この結果、他の部材との貼合角度が安定し、特に、画面サイズの大きな液晶パネルに積層した場合に顕著な効果が得られ、画面全体にむらがなく、表示画像を高品位にすることができる。

上記光学補償積層フィルムのヘイズ値は、５％以下であることが好ましく、３％以下であることがより好ましく、１％以下であることが特に好ましい。ヘイズ値が低いほど、光学補償積層フィルムが偏光板保護フィルム等に用いられた場合に、光洩れ等が生じ難くなる。

上記光学補償積層フィルムを各種処理液に浸漬して化学処理し、光学異方層の膜強度又は外観を、更に高めることも可能である。上記光学補償積層フィルムの表面は、コロナ処理、プラズマ処理、紫外線照射及び各種薬品処理等による表面活性処理が施されてもよい。光学補償積層フィルムの表面に、塗工加工又は蒸着による各種の機能コーティング又はラミネート等を行うことにより、光学補償積層フィルムに諸性能を付加し、光学補償積層フィルムの利用価値を更に向上させることもできる。

上記光学補償積層フィルムの平均厚みは特に限定されない。所定の光学補償性能が損なわれないように、かつ一定の機械的強度を有するように、更に液晶表示装置へ積層される際に重視される部材の軽量化等を考慮して、厚みは適宜設定される。上記光学補償積層フィルムの平均厚みは、２０〜２００μｍであることが好ましい。上記基材フィルムの平均厚みのより好ましい下限は３０μｍ、より好ましい上限は１００μｍである。

以下に実施例を挙げて、本発明を更に詳しく説明する。本発明は以下の実施例に限定されない。

（基材フィルムの作製例１）
熱可塑性ノルボルネン系ポリマー（商品名「Ｔｏｐａｓ６０１３」、ガラス転移温度Ｔｇ＝１４０℃、ＴＡＰ社製、以下ＣＯＣと記載することがある）を用意した。このノルボルネン樹脂を、３００℃で一軸溶融押出成形装置に供給して、溶融混練し、押出装置先端に取付けたＴダイからフィルム状に溶融押出しした。溶融押出しされたフィルムを、ピニングワイヤー方式により２０℃の回転ドラムに密着させて急冷した。その後、厚み２５μｍの二軸延伸ＰＥＴフィルム（三菱化学ポリエステルフィルム社製）を、ブロッキング防止の挟合紙として貼合わせながらロール状に巻取り、幅１５００ｍｍ及び平均厚み１００μｍの基材フィルム（Ａ）（無配向ＣＯＣフィルム）を得た。

（基材フィルムの作製例２）
上記基材フィルム（Ａ）を用意し、その片面に貼り付けられた挟合紙であるＰＥＴフィルムを剥離しながら、基材フィルムを連続的に巻出し、予熱ゾーン、加熱延伸ゾーン、熱処理ゾーン及び冷却ゾーンを有し、各ゾーンが直結する横一軸テンター延伸機に、予熱ゾーン入口においてフィルム搬送速度１５ｍ／分で供給した。

基材フィルムを、その端部をテンタークリップで把持し、予熱ゾーンにおいて熱風温度１４０℃で加温した。その後、加熱延伸ゾーンにおいて、延伸倍率１．８倍及び歪み速度１００％／分の条件で、延伸温度１４０℃で加熱しながら、基材フィルムを幅方向に加熱延伸した。次に、熱処理ゾーンにおいて熱風温度１１０℃で、基材フィルムをアニール処理した。更に、冷却ゾーンで、基材フィルムを８０℃に冷却して配向固定した。

延伸機出口において、フィルム端部をクリップ把持より解放した。その後、スリット工程でクリップ掴み痕の残存するフィルム端部を、フィルム中心から左右対称に設置したシェア刃でスリットして除去し、巻取速度１５ｍ／分及び巻取張力１００Ｎ／ｍで塩化ビニル樹脂製コアにロール状に巻取り、幅１５００ｍｍ及び平均厚み４８μｍの一軸配向フィルム（Ｂ）（一軸配向ＣＯＣフィルム）を得た。

（基材フィルムの作製例３）
上記基材フィルム（Ａ）を用意し、その片面に貼り付けられた挟合紙であるＰＥＴフィルムを剥離しながら、基材フィルムを連続的に巻出し、予熱ゾーン、加熱延伸ゾーン、熱処理ゾーン及び冷却ゾーンを有し、各ゾーンが直結するロール式縦一軸延伸機に、予熱ゾーン入口においてフィルム搬送速度１５ｍ／分で供給し、予熱ゾーンにおいて熱風温度１４０℃で加温した。

次に、加熱延伸ゾーンにおいて、該ゾーン前後に配置されたフィルム流れ方向の上流側ニップロールと下流側ニップロールに回転速度比を付け、下流側ロール速度の上流側ロール速度に対する回転速度比を１．５として延伸倍率とし、歪み速度１００％／分の条件で、延伸温度１４０℃で加熱しながら、基材フィルムを長手方向に加熱延伸した。次に、熱処理ゾーンにおいて熱風温度１１０℃で、基材フィルムをアニール処理した。更に冷却ゾーンで、基材フィルムを８０℃に冷却して配向固定した。

フィルム端部の一部をフィルム中心から左右対称に設置したシェア刃でスリットして除去し、巻取速度２２．５ｍ／分及び巻取張力１００Ｎ／ｍで塩化ビニル樹脂製コアにロール状に巻取り、幅１０００ｍｍ及び平均厚み７０μｍの一軸配向フィルム（Ｃ）（一軸配向ＣＯＣフィルム）を得た。

（実施例１）
上記基材フィルム（Ａ）を、連続的に１５ｍ／分の一定速度でロール搬送により巻出しながら、２ｋＷ／ｍ^２の出力でコロナ処理して、コロナ処理された基材フィルムを用意した。また、パラテルフェニルジスルホン酸ジアンモニウム（屈折率：ｎｘ＝１．６９、ｎｙ＝１．６９、ｎｚ＝１．５６）を含有量（固形分濃度）が２５重量％となるようにイオン交換水に溶解させた水溶液を用意した。

コロナ処理された基材フィルム上の中央の領域に、基材フィルムの単位面積当たりの乾燥前塗工量が１７ｇ／ｍ^２となるように、リバースグラビアコート法を用いて、上記水溶液を塗工幅１４５０ｍｍで塗工し、塗膜コートフィルムである積層フィルムを得た。

その後、塗工後の積層フィルムを連続して直ちに、予熱ゾーン、加熱延伸ゾーン、熱処理ゾーン及び冷却ゾーンを有し、各ゾーンが直結するロール式縦一軸延伸機の予熱ゾーンへ導入した。予熱ゾーンにおいて、温度１４０℃及び風圧０．５ＭＰａの熱風で２０秒間、基材フィルムを予熱すると共に、塗膜表面を乾燥処理した。次に、積層フィルムを連続して加熱延伸ゾーンに供給し、加熱延伸ゾーンにおいて、該ゾーン前後に配置されたフィルム流れ方向の上流側ニップロールと下流側ニップロールに回転速度比を付け、下流側ロール速度の上流側ロール速度に対する回転速度比を１．５として延伸倍率とし、歪み速度１００％／分の条件で、延伸温度１４０℃で加熱しながら、積層フィルムを長手方向に加熱延伸した。次に、熱処理ゾーンにおいて熱風温度１１０℃で、積層フィルムをアニール処理した。更に冷却ゾーンで、積層フィルムを８０℃に冷却して、基材フィルムの配向を固定した。

フィルム端部の一部をフィルム中心から左右対称に設置したシェア刃でスリットして除去し、巻取速度２２．５ｍ／分及び巻取張力１００Ｎ／ｍで塩化ビニル樹脂製コアにロール状に巻取り、幅１０００ｍｍ及び平均厚み８４μｍの光学補償積層フィルムを得た。

（実施例２）
実施例１で用意したコロナ処理された基材フィルム上の中央の領域に、基材フィルムの単位面積当たりの乾燥前塗工量が２５ｇ／ｍ^２となるように、リバースグラビアコート法を用いて、実施例１で用意した水溶液を塗工幅１４５０ｍｍで塗工し、塗膜コートフィルムである積層フィルムを得た。

その後、塗工後の積層フィルムを連続して直ちに、予熱ゾーン、加熱延伸ゾーン、熱処理ゾーン及び冷却ゾーンを有し、各ゾーンが直結する横一軸テンター延伸機の予熱ゾーンへ導入した。予熱ゾーンにおいて、温度１４０℃及び風圧０．５ＭＰａの熱風で２０秒間、基材フィルムを予熱すると共に、塗膜表面を乾燥処理した。次に、積層フィルムを連続して加熱延伸ゾーンに供給し、延伸倍率１．８倍及び歪み速度１００％／分の条件で、延伸温度１４０℃で加熱しながら、積層フィルムを幅方向に加熱延伸した。次に、熱処理ゾーンにおいて熱風温度１１０℃で、積層フィルムをアニール処理した。更に、冷却ゾーンで、積層フィルムを８０℃に冷却して、基材フィルムの配向を固定した。

延伸機出口において、積層フィルムの端部をクリップ把持より解放した。その後、スリット工程でクリップ掴み痕の残存するフィルム端部を、フィルム中心から左右対称に設置したシェア刃でスリットして除去し、巻取速度１５ｍ／分及び巻取張力１００Ｎ／ｍで塩化ビニル樹脂製コアにロール状に巻取り、幅１５００ｍｍ及び平均厚み５２μｍの光学補償積層フィルムを得た。

（実施例３）
基材フィルム（Ａ）を基材フィルム（Ｂ）に変更したこと以外は、実施例１と同様にして光学補償積層フィルムを得た。

（実施例４）
基材フィルム（Ａ）を基材フィルム（Ｃ）に変更し、かつ基材フィルム（Ｃ）への水溶液の塗工幅を９５０ｍｍに変更したこと以外は、実施例２と同様にして幅１０００ｍｍ及び平均厚み８４μｍの光学補償積層フィルムを得た。

（実施例５）
上記水溶性を調製する際に、パラテルフェニルジスルホン酸ジアンモニウムを、パラビフェニルジスルホン酸ジアンモニウム（屈折率：ｎｘ＝１．７０、ｎｙ＝１．７０、ｎｚ＝１．５５）に変更したこと以外は、実施例１と同様にして光学補償積層フィルムを得た。

（実施例６）
上記水溶性を調製する際に、パラテルフェニルジスルホン酸ジアンモニウムを、パラクアテルフェニルジスルホン酸ジアンモニウム（屈折率：ｎｘ＝１．６７、ｎｙ＝１．６７、ｎｚ＝１．５８）に変更したこと以外は、実施例１と同様にして光学補償積層フィルムを得た。

（比較例１）
実施例１で用意したコロナ処理された基材フィルム上の中央の領域に、基材フィルムの単位面積当たりの乾燥前塗工量が２５ｇ／ｍ^２となるように、リバースグラビアコート法を用いて、実施例１で用意した水溶液を塗工幅１４５０ｍｍで塗工し、塗膜コートフィルムである積層フィルムを得た。

その後、塗工後の積層フィルムを連続して直ちに、加熱炉へ導入して、温度９０℃及び風圧０．５ＭＰａの熱風で２０秒間、塗膜の表面を乾燥処理した。室温まで冷却した後、スリット工程で未塗工部分の残存するフィルムの端部を、フィルム中心から左右対称に設置したシェア刃でスリットして除去し、巻取張力１００Ｎ／ｍで塩化ビニル樹脂製コアにロール状に巻取り、幅１４００ｍｍ及び平均厚み１０３μｍの光学補償積層フィルムを得た。比較例１では、積層フィルムを延伸しなかった。

（比較例２）
パラテルフェニルジスルホン酸ジアンモニウムを、パラテルフェニルジカルボン酸ジアンモニウムに変更し、該パラテルフェニルジカルボン酸ジアンモニウムを含有量（固形分濃度）が２５重量％となるようにイオン交換水に溶解させた水溶液を得ようと試みた。しかしながら、溶質が水に相溶せずに相分離し、溶解状態が悪く、実質的に水溶液又は水分散液が得られず、相分離した液が得られた。

この相分離した液を用いたこと以外は実施例１と同様にして、光学補償積層フィルムを得た。

（比較例３）
水溶液を塗工しなかったこと以外は実施例１と同様にして、光学異方層を有さず、基材フィルム単体である光学補償フィルムを得た。

（評価）
（１）光学補償積層フィルムの厚みレターデーション値Ｒｔｈ
自動複屈折測定装置（王子計測機器社製、型番「ＫＯＢＲＡ−ＷＲ」）を用いて、測定光の波長を５５０ｎｍとして、光学補償積層フィルムの長手方向に直交する軸を基準軸とし、光学補償積層フィルムを幅方向に５０ｍｍ間隔で測定して、平均値を算出し、光学補償積層フィルムの厚みレターデーション値Ｒｔｈとした。

（２）光学補償積層フィルムの正面レターデーション値Ｒ０
自動複屈折測定装置（王子計測機器社製、型番「ＫＯＢＲＡ−ＷＲ」）を用いて、測定光の波長を５５０ｎｍとして、光学補償積層フィルムの長手方向に直交する軸を基準軸とし、光学補償積層フィルムを幅方向に５０ｍｍ間隔で測定して、平均値を算出し、光学補償積層フィルムの正面レターデーション値Ｒ０とした。

結果を下記の表１に示す。

１…光学補償積層フィルム
２…基材フィルム
２ａ…第１の表面
２ｂ…第２の表面
３…光学異方層
１１…基材フィルム
１１ａ…第１の表面
１１ｂ…第２の表面
１２…水溶性化合物層
２１…積層フィルム

Claims (2)

1. 基材フィルムの少なくとも片面に、屈折率異方性が下記式（１）を満たす水溶性化合物を水に溶解させた水溶液を塗工して、水溶性化合物層を積層する工程と、
   前記基材フィルムと前記水溶性化合物層との積層フィルムを、少なくとも一方向に延伸して、光学補償積層フィルムを得る工程とを備える、光学補償積層フィルムの製造方法。
   ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ・・・式（１）
   上記式（１）中、ｎｘは前記水溶性化合物面内の最大屈折率を表し、ｎｙは前記水溶性化合物面内のｎｘ方向と直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙの屈折率方向と直交する方向の屈折率を表す。
2. 前記水溶性化合物として、スルホン酸基を二つ以上有する多環フェニル化合物を用いる、請求項１に記載の光学補償積層フィルムの製造方法。

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