TW202132432A - 偏光板、附相位差層之偏光板、及使用該偏光板或該附相位差層之偏光板之影像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供偏光板及附相位差層之偏光板，其等在應用於端部具有彎曲形狀且至該端部為止皆作為影像顯示區域之影像顯示裝置時可抑制皺褶及氣泡。本發明偏光板包含以含碘之聚乙烯醇系樹脂薄膜所構成之偏光膜；該偏光板於至少1個隅部具有空缺部，且空缺部相對於整體面積之面積比為2.0%以上。本發明附相位差層之偏光板具有偏光板與相位差層，該偏光板包含以含碘之聚乙烯醇系樹脂薄膜所構成之偏光膜，該相位差層為液晶化合物之定向固化層；該附相位差層之偏光板於至少1個隅部具有空缺部，且空缺部相對於整體面積之面積比為2.0%以上。

Description

偏光板、附相位差層之偏光板、及使用該偏光板或該附相位差層之偏光板之影像顯示裝置
本發明涉及偏光板、附相位差層之偏光板、及使用該偏光板或該附相位差層之偏光板之影像顯示裝置。
以液晶顯示裝置及電致發光(EL)顯示裝置(例如有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置)為代表之影像顯示裝置急速普及。並且近年來，基於設計上的訴求，提出有一種端部具有彎曲形狀且至該端部為止皆作為影像顯示區域之影像顯示裝置。然而，若於這種影像顯示裝置應用偏光板或圓偏光板時，有尤其在隅部產生皺褶及/或氣泡之情況。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：韓國專利公開第10-2019-0030792號
發明欲解決之課題 本發明是為了解決上述以往課題而成者，其主要目的在於提供偏光板及附相位差層之偏光板，其等在應用於端部具有彎曲形狀且至該端部為止皆作為影像顯示區域之影像顯示裝置時可抑制皺褶及氣泡。
用以解決課題之手段 本發明實施形態之偏光板包含以含碘之聚乙烯醇系樹脂薄膜所構成之偏光膜；該偏光板於至少1個隅部具有空缺部，且該空缺部相對於整體面積之面積比為2.0%以上。 在一實施形態中，上述空缺部相對於上述偏光板之整體面積之面積比為30%以下。 在一實施形態中，上述空缺部選自於由缺口、點圖案之貫通孔、網目及該等之組合所構成之群組。 在一實施形態中，上述偏光膜之厚度為8μm以下。 根據本發明另一面向提供一種附相位差層之偏光板。該附相位差層之偏光板具有偏光板與相位差層，該偏光板包含以含碘之聚乙烯醇系樹脂薄膜所構成之偏光膜，該相位差層為液晶化合物之定向固化層；該附相位差層之偏光板於至少1個隅部具有空缺部，且該空缺部相對於整體面積之面積比為2.0%以上。 在一實施形態中，上述空缺部相對於上述附相位差層之偏光板之整體面積之面積比為30%以下。 在一實施形態中，上述空缺部選自於由缺口、點圖案之貫通孔、網目及該等之組合所構成之群組。 在一實施形態中，上述附相位差層之偏光板的總厚度在100μm以下。 在一實施形態中，上述相位差層為液晶化合物之定向固化層的單一層，且該相位差層的Re(550)為100nm~190nm，該相位差層之慢軸與上述偏光膜之吸收軸形成之角度為40°~50°。 在一實施形態中，上述附相位差層之偏光板於上述相位差層之外側更具有另一相位差層，該另一相位差層之折射率特性顯示nz＞nx=ny之關係。 在一實施形態中，上述相位差層具有第1液晶化合物之定向固化層與第2液晶化合物之定向固化層的積層結構；該第1液晶化合物之定向固化層的Re(550)為200nm~300nm，且其慢軸與前述偏光膜之吸收軸形成之角度為10°~20°；該第2液晶化合物之定向固化層的Re(550)為100nm~190nm，且其慢軸與該偏光膜之吸收軸形成之角度為70°~80°。 根據本發明又另一面向提供一種影像顯示裝置。該影像顯示裝置具備上述偏光板或上述附相位差層之偏光板。 在一實施形態中，上述影像顯示裝置之端部具有彎曲形狀，且於該端部貼合有上述偏光板或上述附相位差層之偏光板。 在一實施形態中，上述端部之曲率半徑在10mm以下。
發明效果 根據本發明實施形態，於偏光板或附相位差層之偏光板之至少1個隅部形成空缺部，並將該空缺部相對於整體面積之面積比設為2.0%以上，藉此將該偏光板或該附相位差層之偏光板應用於端部具有彎曲形狀且至該端部為止皆作為影像顯示區域之影像顯示裝置時可抑制皺褶及氣泡。
以下說明本發明之實施形態，惟本發明不受該等實施形態所限。
(用語及符號之定義) 本說明書中之用語及符號之定義如下。 (1)折射率(nx、ny、nz) 「nx」為面內折射率成最大的方向(亦即慢軸方向)之折射率，「ny」為在面內與慢軸正交之方向(亦即快軸方向)之折射率，而「nz」為厚度方向之折射率。 (2)面內相位差(Re) 「Re(λ)」係於23℃下以波長λnm之光測定之面內相位差。例如，「Re(550)」係於23℃下以波長550nm之光測定之面內相位差。Re(λ)可於令層(薄膜)之厚度為d(nm)時，藉由式：Re(λ)=(nx-ny)×d求得。 (3)厚度方向之相位差(Rth) 「Rth(λ)」係於23℃下以波長λnm之光測定之厚度方向的相位差。例如，「Rth(550)」係於23℃下以波長550nm之光測定之厚度方向的相位差。Rth(λ)可於令層(薄膜)厚度為d(nm)時，藉由式：Rth(λ)=(nx-nz)×d求得。 (4)Nz係數 Nz係數可以Nz=Rth/Re求得。 (5)角度 本說明書中提及角度時，該角度包含相對於基準方向往順時針方向及逆時針方向兩者。因此，例如「45°」係指±45°。
A.偏光板 A-1.偏光板之概略 圖1係本發明一實施形態之偏光板的概略俯視圖。圖式例之偏光板10至少包含偏光膜。偏光膜代表上係以含碘之聚乙烯醇(PVA)系樹脂薄膜所構成。偏光板10代表上具有矩形形狀。本說明書中所謂「矩形」亦包含如圖式例所示隅部經去角後之形狀。本發明實施形態中，於4個隅部中之至少1個隅部設有空缺部15。空缺部15可設於1個隅部，可設於2個隅部，可設於3個隅部，亦可設於4個隅部。空缺部15宜如圖式例所示設於4個隅部(全部之隅部)。只要為所述構成，則偏光板應用於端部具有彎曲形狀且至該端部為止皆作為影像顯示區域之影像顯示裝置時，可於影像顯示裝置全部之隅部良好地抑制皺褶及氣泡。空缺部相對於偏光板之整體面積之面積比為2.0%以上，宜為3.0%以上，較宜為4.0%以上，更宜為4.5%以上。另一方面，空缺部之面積比例如為30%以下，較宜為20%以下，更宜為10%以下。空缺部之面積比若過小，恐有皺褶及/或氣泡的抑制效果不充分之情形。空缺部之面積比若過大，則在應用於影像顯示裝置時會產生間隙，而有外觀不足的情形。
空缺部15之俯視形狀只要可獲得上述所期望的效果，則可採用任意適當的形狀。圖2係顯示空缺部之俯視形狀的具體例的概略俯視圖。如圖2所示，空缺部之俯視形狀的具體例可舉缺口、點圖案的貫通孔、網目。缺口的俯視形狀可舉例如如圖式例所示之大致V字形狀、大致U字形狀、細長矩形。貫通孔之俯視形狀可舉例如如圖示例之矩形、方形、圓形、橢圓形、多邊形、不定形。缺口形狀、長度及寬度、貫通孔之形狀、密度及配置位置、網目之形狀(實質上為被網目包圍之部分的形狀)、網目之密度(被網目包圍之部分的尺寸及間距)等，可因應上述期望之面積比來適當設定。可組合不同形狀之缺口，亦可組合不同形狀之貫通孔。例如可組合大致V字形狀的缺口與細長矩形的缺口，可組合寬度廣(頂角大)的大致V字形狀之缺口與寬度窄之(頂角小之)大致V字形狀之缺口，亦可組合矩形貫通孔與圓形貫通孔。又，亦可組合缺口、貫通孔及網目之2種以上。空缺部15例如可藉由利用切削模具進行之沖裁、繪圖機、水刀、雷射照射及透過遮罩進行之熔解來形成。
偏光板10亦可於偏光膜之至少單側具有保護層。即，保護層可設於偏光膜兩側，亦可僅設於偏光膜之視辨側。亦可僅設於偏光膜之與視辨側相反之側。保護層可以樹脂薄膜構成，亦可以熱塑性丙烯酸系樹脂之有機溶劑溶液之塗佈膜的固化物構成。
A-2.偏光膜 偏光膜如上述係以含碘之PVA系樹脂薄膜所構成。偏光膜之厚度宜為8µm以下，較宜為7µm以下，更宜為6µm以下，尤宜為5µm以下，特別宜為4µm以下。偏光膜厚度之下限在一實施形態中可為1µm，在另一實施形態中可為2µm。藉由使偏光膜之厚度如所述做得非常薄，則偏光板應用於端部具有彎曲形狀且至該端部為止皆作為影像顯示區域之影像顯示裝置時，可顯著抑制在隅部之皺褶及氣泡。
偏光膜之定向函數例如為0.25以下，宜為0.22以下，較宜為0.20以下，更宜為0.18以下，尤宜為0.15以下。只要為所述構成，便可顯著抑制偏光膜沿吸收軸方向裂開(破裂)。結果可獲得撓曲性非常優異之偏光膜(以結果而言為偏光板)。結果，偏光膜(以結果而言為偏光板)可適宜應用於端部具有彎曲形狀且至該端部為止皆作為影像顯示區域之影像顯示裝置，此時可顯著抑制在隅部之皺褶及氣泡。定向函數的下限例如可為0.05。定向函數若過小，有無法獲得可容許之單體透射率及/或偏光度之情形。
定向函數(f)例如可用傅立葉轉換紅外光譜光度計(FT-IR)並以偏光作為測定光，藉由衰減全反射分光(ATR：attenuated total reflection)測定來求得。具體而言，係在相對於測定光之偏光方向使偏光膜之延伸方向呈平行及呈垂直之狀態下實施測定，並使用所得吸光度光譜之2941cm-1 的強度，依下述式算出。在此，強度I係以3330cm-1 為參考波峰，而為2941cm-1 /3330cm-1 之值。另外，f=1時為完全定向，f=0時為無規。又，吾等認為2941cm-1 之波峰為起因於偏光膜中之PVA主鏈(-CH2 -)所致之振動的吸收。 f=(3＜cos2 θ＞-1)/2 =(1-D)/[c(2D+1)] =-2×(1-D)/(2D+1) 惟， 以c=(3＜cos2 β＞-1)/2，2941cm-1 之振動時，β=90°。 θ：分子鏈相對於延伸方向之角度 β：躍遷偶極矩相對於分子鏈軸之角度 D=(I⊥ )/(I// )  (此時，PVA分子越定向，D越大) I⊥ ：測定光之偏光方向與偏光膜之延伸方向呈垂直時之吸收強度 I// ：測定光之偏光方向與偏光膜之延伸方向呈平行時之吸收強度
偏光膜在85℃下放置120小時後吸收軸方向之收縮率SMD 及與吸收軸方向正交之方向(以下有時稱為透射軸方向)之收縮率STD 的比SMD /STD 例如為0.5~1.5，宜為0.7~1.3，較宜為0.8~1.2，更宜為0.9~1.1，尤宜為0.94~1.16。即，本發明實施形態所用偏光膜之熱收縮的各向異性顯著較小。此外，在本說明書中，有時將有關熱收縮之所述特性稱為「各向同性收縮」。只要為所述構成，便可顯著抑制偏光膜之吸收軸方向的翹曲。結果，所述偏光膜(以結果而言為偏光板)可適宜應用於端部具有彎曲形狀且至該端部為止皆作為影像顯示區域之影像顯示裝置，此時可顯著抑制在隅部之皺褶及氣泡。
吸收軸方向之收縮率SMD 宜為0.4%以下，較宜為0.3%以下，更宜為0.2%以下。透射軸方向之收縮率STD 亦宜為0.4%以下，較宜為0.3%以下，更宜為0.2%以下。SMD 及STD 皆越小越好，理想上為0。本發明實施形態中所用偏光膜不僅具有各向同性收縮，吸收軸方向之收縮率及透射軸方向之收縮率本身亦小。結果可更抑制翹曲。
偏光膜宜在波長380nm~780nm之任一波長下顯示吸收二色性。偏光膜之單體透射率宜為40.0%以上，較宜為41.0%以上。單體透射率的上限例如可為49.0%。偏光膜之單體透射率在一實施形態中為40.0%~45.0%。偏光膜之偏光度宜為99.0%以上，較宜為99.4%以上。偏光度的上限例如可為99.999%。偏光膜之偏光度在一實施形態中為99.0%~99.9%。本發明實施形態所用偏光膜即便如上述定向函數非常小，仍可實現所述之實際使用上可容許之單體透射率及偏光度。此外，單體透射率代表上係使用紫外線可見光分光光度計來測定並進行視感度校正所得之Y值。又，單體透射率是將偏光板之一表面之折射率換算為1.50，並將另一表面之折射率換算為1.53時的值。偏光度代表上可基於使用紫外線可見光分光光度計測定並進行視感度校正所得之平行透射率Tp及正交透射率Tc，透過下述式來求得。 偏光度(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}1 /2 ×100
偏光膜在代表上可使用兩層以上之積層體來製作。使用積層體獲得之偏光膜的具體例，可舉出使用樹脂基材與經塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層的積層體而獲得之偏光膜。使用樹脂基材與經塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層的積層體而獲得之偏光膜，例如可以藉由以下方式來製作：將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材，並使其乾燥而於樹脂基材上形成PVA系樹脂層，而獲得樹脂基材與PVA系樹脂層的積層體；及，將該積層體延伸及染色而將PVA系樹脂層製成偏光膜。本實施形態中，宜於樹脂基材之單側形成包含鹵化物與聚乙烯醇系樹脂之聚乙烯醇系樹脂層。延伸在代表上包含使積層體浸漬於硼酸水溶液中並延伸。並且，延伸較佳係更包含下述步驟：在硼酸水溶液中延伸之前，在高溫(例如95℃以上)下將積層體進行空中延伸。本實施形態中，延伸之總倍率宜為3.0倍~4.0倍，與一般相較下顯著較小。即便為所述延伸之總倍率，藉由添加鹵化物及乾燥收縮處理之組合，可獲得具有可容許之光學特性之偏光膜。並且，本實施形態中，空中輔助延伸之延伸倍率大於硼酸水中延伸之延伸倍率。藉由製成所述構成，即便延伸之總倍率小，仍可獲得具有可容許之光學特性之偏光膜。並且，積層體較佳係供於一邊沿長邊方向輸送一邊進行加熱藉此使其於寬度方向收縮2%以上之乾燥收縮處理。在一實施形態中，偏光膜之製造方法包含對積層體依序施行空中輔助延伸處理、染色處理、水中延伸處理與乾燥收縮處理。藉由導入輔助延伸，即便是在將PVA塗佈於熱塑性樹脂上時仍可提升PVA之結晶性，而可達成高光學特性。又，同時事先提高PVA之定向性，可防止在後續的染色步驟或延伸步驟中浸漬於水中時，PVA之定向性降低或溶解等問題，而可達成高光學特性。並且，將PVA系樹脂層浸漬於液體中時，相較於PVA系樹脂層不含鹵化物之情況，更能抑制聚乙烯醇分子之定向紊亂及定向性之降低。藉此，可提升經由染色處理及水中延伸處理等將積層體浸漬於液體中來進行的處理步驟而獲得之偏光膜的光學特性。並且，透過乾燥收縮處理使積層體於寬度方向上收縮，可提升光學特性。所得樹脂基材/偏光膜之積層體可直接使用(即，亦可將樹脂基材作為偏光膜之保護層)，亦可從樹脂基材/偏光膜之積層體剝離樹脂基材並於該剝離面按目的積層任意適當的保護層後來使用。以下針對偏光膜之製造方法的詳細內容進行說明。
A-3.偏光膜之製造方法 偏光膜代表上可藉由包含以下程序之製造方法來製造：於長條狀熱塑性樹脂基材之單側形成包含鹵化物與聚乙烯醇系樹脂(PVA系樹脂)之聚乙烯醇系樹脂層(PVA系樹脂層)，而製成積層體；及，對積層體依序施行空中輔助延伸處理、染色處理、水中延伸處理與乾燥收縮處理，該乾燥收縮處理係一邊將上述積層體沿長邊方向輸送一邊進行加熱，藉此使其於寬度方向收縮2%以上。PVA系樹脂層中之鹵化物含量相對於PVA系樹脂100重量份宜為5重量份~20重量份。乾燥收縮處理宜使用加熱輥進行處理，且加熱輥溫度宜為60℃~120℃。積層體進行乾燥收縮處理所得寬度方向之收縮率宜為2%以上。根據所述製造方法可獲得在上述A-2項所說明之偏光膜。尤其是藉由下述方式可獲得具有優異光學特性(代表上為單體透射率及單位偏光度)之偏光膜：製作包含含有鹵化物之PVA系樹脂層的積層體後，將上述積層體之延伸進行包含空中輔助延伸及水中延伸的多階段延伸，再將延伸後之積層體以加熱輥進行加熱。
A-3-1.製作積層體 製作熱塑性樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體的方法可採用任意適當之方法。較宜為將包含鹵化物與PVA系樹脂之塗佈液塗佈於熱塑性樹脂基材之表面並乾燥，藉此於熱塑性樹脂基材上形成PVA系樹脂層。如上述，PVA系樹脂層中之鹵化物含量相對於PVA系樹脂100重量份宜為5重量份~20重量份。
塗佈液之塗佈方法可採用任意適當的方法。例如可舉出輥塗法、旋塗法、線棒塗佈法、浸塗法、模塗法、簾塗法、噴塗法、刮刀式塗佈法(缺角輪塗佈法等)等。上述塗佈液之塗佈、乾燥溫度宜為50℃以上。
PVA系樹脂層之厚度宜為2µm~30µm，更宜為2µm~20µm。藉由使延伸前之PVA系樹脂層之厚度如所述做得非常薄且如後述縮小總延伸倍率，即便定向函數非常小仍可獲得具有可容許之單體透射率及偏光度之偏光膜。
在形成PVA系樹脂層之前，可對熱塑性樹脂基材施行表面處理(例如電暈處理等)，也可於熱塑性樹脂基材上形成易接著層。藉由進行所述處理，可提升熱塑性樹脂基材與PVA系樹脂層之密著性。
A-3-1-1.熱塑性樹脂基材 熱塑性樹脂基材可採用任意適當的熱塑性樹脂薄膜。關於熱塑性樹脂薄膜基材的詳細內容，例如記載於日本專利特開2012-73580號公報或日本專利第6470455號。本說明書中係援用該等公報整體之記載作為參考。
A-3-1-2.塗佈液 塗佈液係如上述包含鹵化物與PVA系樹脂。上述塗佈液代表上係使上述鹵化物及上述PVA系樹脂溶解於溶劑而成之溶液。作為溶劑，可舉例如水、二甲基亞碸、二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯啶酮、各種甘醇類、三羥甲丙烷等多元醇類、伸乙二胺、二伸乙三胺等胺類。該等可單獨使用或可將二種以上組合來使用。該等中又以水為佳。溶液之PVA系樹脂濃度相對於溶劑100重量份宜為3重量份~20重量份。只要為所述樹脂濃度，便可形成密著於熱塑性樹脂基材且均勻的塗佈膜。塗佈液中之鹵化物含量相對於PVA系樹脂100重量份宜為5重量份~20重量份。
塗佈液中亦可摻混添加劑。添加劑可舉例如塑化劑、界面活性劑等。塑化劑可舉例如乙二醇或丙三醇等多元醇。界面活性劑可舉例如非離子性界面活性劑。該等可為了進一步提升所得PVA系樹脂層的均勻性或染色性、延伸性而使用。
上述PVA系樹脂可採用任意適當的樹脂。可舉例如聚乙烯醇及乙烯-乙烯醇共聚物。聚乙烯醇可藉由將聚乙酸乙烯酯皂化而得。乙烯-乙烯醇共聚物可藉由將乙烯-乙酸乙烯酯共聚物皂化而得。PVA系樹脂之皂化度通常為85莫耳%~100莫耳%，宜為95.0莫耳%~99.95莫耳%，更宜為99.0莫耳%~99.93莫耳%。皂化度可依循JIS K 6726-1994而求得。藉由使用所述皂化度的PVA系樹脂，可獲得耐久性優異的偏光膜。皂化度太高時，會有膠化之虞。如上述，PVA系樹脂宜包含經乙醯乙醯基改質之PVA系樹脂。
PVA系樹脂的平均聚合度可按目的適當選擇。平均聚合度通常為1000~10000，宜為1200~4500，更宜為1500~4300。另，平均聚合度可依循JIS K 6726-1994而求得。
上述鹵化物可採用任意適當之鹵化物。可舉例如碘化物及氯化鈉。碘化物可舉例如碘化鉀、碘化鈉及碘化鋰。該等之中又以碘化鉀為佳。
塗佈液中之鹵化物量相對於PVA系樹脂100重量份宜為5重量份~20重量份，較佳為相對於PVA系樹脂100重量份為10重量份~15重量份。若鹵化物量相對於PVA系樹脂100重量份為大於20重量份，則會有鹵化物溢出而使最後獲得之偏光膜變白濁之情形。
一般而言，PVA系樹脂層經延伸，PVA樹脂層中之聚乙烯醇分子之定向性會變高，但若將延伸後之PVA系樹脂層浸漬於含水之液體中，則會有聚乙烯醇分子之定向紊亂而定向性降低之情形。尤其是在對熱塑性樹脂與PVA系樹脂層之積層體進行硼酸水中延伸時，為了穩定熱塑性樹脂之延伸而在相對較高溫度下將上述積層體在硼酸水中進行延伸時，上述定向度降低之傾向很明顯。舉例而言，PVA薄膜單體在硼酸水中之延伸一般係在60℃下進行，相對於此，A-PET(熱塑性樹脂基材)與PVA系樹脂層之積層體之延伸係在70℃前後之溫度的較高溫度下進行，此時，延伸初期之PVA的定向性會在因水中延伸而上升之前的階段便降低。相對此，藉由製作包含鹵化物之PVA系樹脂層與熱塑性樹脂基材之積層體，並將積層體於在硼酸水中進行延伸前在空氣中進行高溫延伸(輔助延伸)，可促進輔助延伸後之積層體之PVA系樹脂層中的PVA系樹脂之結晶化。結果，在將PVA系樹脂層浸漬於液體中時，相較於PVA系樹脂層不含鹵化物之情況，更能抑制聚乙烯醇分子之定向紊亂及定向性降低。藉此，可提升經由染色處理及水中延伸處理等將積層體浸漬於液體中來進行的處理步驟而獲得之偏光膜的光學特性。
A-3-2.空中輔助延伸處理 尤其為了獲得高光學特性，會選擇組合乾式延伸(輔助延伸)與硼酸水中延伸之2段延伸之方法。如2段延伸之方式，藉由導入輔助延伸，可一邊抑制熱塑性樹脂基材之結晶化一邊進行延伸。並且，在將PVA系樹脂塗佈於熱塑性樹脂基材上時，為了抑制熱塑性樹脂基材之玻璃轉移溫度之影響，必須使塗佈溫度比將PVA系樹脂塗佈於一般的金屬滾筒上之情況更低，結果會產生PVA系樹脂之結晶化相對變低而無法獲得充分光學特性之問題。相對此，藉由導入輔助延伸，即使是在將PVA系樹脂塗佈於熱塑性樹脂上時仍可提升PVA系樹脂之結晶性，而可達成高光學特性。又，同時事先提高PVA系樹脂之定向性，可防止在後續的染色步驟或延伸步驟中浸漬於水中時，PVA系樹脂之定向性降低或溶解等問題，而可達成高光學特性。
空中輔助延伸之延伸方法可為固定端延伸(例如使用拉幅延伸機進行延伸之方法)，亦可為自由端延伸(例如使積層體通過周速相異之輥間進行單軸延伸之方法)，惟為了獲得高光學特性，可積極採用自由端延伸。在一實施形態中，空中延伸處理包含加熱輥延伸步驟，該步驟係將上述積層體一邊沿其長邊方向輸送一邊利用加熱輥間之周速差進行延伸。空中延伸處理代表上包含區域(zone)延伸步驟與加熱輥延伸步驟。另，區域延伸步驟與加熱輥延伸步驟之順序並無限定，可先進行區域延伸步驟，亦可先進行加熱輥延伸步驟。亦可省略區域延伸步驟。在一實施形態中，係依序進行區域延伸步驟及加熱輥延伸步驟。又，在另一實施形態中，係於拉幅延伸機中把持薄膜端部，並將拉幅機間之距離往流動方向擴大來延伸(拉幅機間距離的增幅即為延伸倍率)。此時，寬度方向(相對於流動方向為垂直方向)之拉幅機的距離係設定成可任意接近。較佳可設定成相對於行進方向之延伸倍率來利用自由端延伸作接近。為自由端延伸時，係以寬度方向之收縮率=(1/延伸倍率)1/2 來計算。
空中輔助延伸可在一階段中進行亦可分多階段進行。分多階段進行時，延伸倍率為各階段之延伸倍率之積。空中輔助延伸中之延伸方向宜與水中延伸之延伸方向大致相同。
空中輔助延伸之延伸倍率宜為1.0倍~4.0倍，較宜為1.5倍~3.5倍，更宜為2.0倍~3.0倍。空中輔助延伸之延伸倍率只要為所述範圍，便可在與水中延伸組合時將延伸之總倍率設定為所期望之範圍，而可實現所期望之定向函數。結果可獲得沿吸收軸方向之斷裂經抑制的偏光膜。並且，如上述，空中輔助延伸之延伸倍率較硼酸水中延伸之延伸倍率更大。藉由製成所述構成，即便延伸之總倍率小，仍可獲得具有可容許之光學特性之偏光膜。
空中輔助延伸之延伸溫度可因應熱塑性樹脂基材之形成材料、延伸方式等設定成任意適當之值。延伸溫度宜為熱塑性樹脂基材之玻璃轉移溫度(Tg)以上，熱塑性樹脂基材之玻璃轉移溫度(Tg)+10℃以上更適宜，Tg+15℃以上特別適宜。另一方面，延伸溫度的上限宜為170℃。藉由在所述溫度下延伸可抑制PVA系樹脂之結晶化急速進展，從而可抑制該結晶化所造成的不良情況(例如，因延伸而妨礙PVA系樹脂層之定向)。
A-3-3.不溶解處理、染色處理及交聯處理 視需要，可在空中輔助延伸處理之後且在水中延伸處理或染色處理之前，施行不溶解處理。上述不溶解處理代表上係將PVA系樹脂層浸漬於硼酸水溶液中來進行。上述染色處理代表上係以二色性物質(代表上為碘)將PVA系樹脂層染色來進行。視需要，可在染色處理之後且在水中延伸處理之前，施行交聯處理。上述交聯處理代表上可藉由使PVA系樹脂層浸漬於硼酸水溶液中來進行。關於不溶解處理、染色處理及交聯處理的詳細內容，例如記載於日本專利特開2012-73580號公報(上述)中。
A-3-4.水中延伸處理 水中延伸處理係使積層體浸漬於延伸浴中來進行。藉由水中延伸處理，可在比上述熱塑性樹脂基材或PVA系樹脂層之玻璃轉移溫度(代表上為80℃左右)更低的溫度下延伸，而可一邊抑制PVA系樹脂層結晶化一邊進行延伸。結果可製出具有優異光學特性之偏光膜。
積層體之延伸方法可採用任意適當的方法。具體而言，可為固定端延伸，亦可為自由端延伸(例如使積層體通過周速相異之輥間進行單軸延伸的方法)。較佳為選擇自由端延伸。積層體之延伸可在一階段中進行亦可分多階段進行。分多階段進行時，延伸之總倍率為各階段之延伸倍率之積。
水中延伸宜使積層體浸漬於硼酸水溶液中來進行(硼酸水中延伸)。藉由使用硼酸水溶液作為延伸浴，可對PVA系樹脂層賦予得以承受延伸時施加之張力的剛性與不溶於水的耐水性。具體上，硼酸在水溶液中會生成四羥基硼酸陰離子而可藉由氫鍵與PVA系樹脂交聯。結果可賦予PVA系樹脂層剛性與耐水性，進行良好地延伸，從而製出具有優異光學特性之偏光膜。
上述硼酸水溶液宜使硼酸及/或硼酸鹽溶解於屬溶劑的水而獲得。硼酸濃度相對於水100重量份宜為1重量份~10重量份，較宜為2.5重量份~6重量份，尤宜為3重量份~5重量份。藉由將硼酸濃度設為1重量份以上，可有效抑制PVA系樹脂層之溶解，製造特性更高之偏光膜。此外，還可使用除硼酸或硼酸鹽外，還將硼砂等之硼化合物、乙二醛、戊二醛等溶解於溶劑而得之水溶液。
宜於上述延伸浴(硼酸水溶液)中摻混碘化物。藉由摻混碘化物，可抑制已吸附於PVA系樹脂層之碘的溶出。碘化物之具體例如上述。碘化物之濃度相對於水100重量份宜為0.05重量份~15重量份，較宜為0.5重量份~8重量份。
延伸溫度(延伸浴之液溫)宜為40℃~85℃，較宜為60℃~75℃。只要為所述溫度，便可抑制PVA系樹脂層溶解，同時又可高倍率地延伸。具體而言如上所述，以與形成PVA系樹脂層之關係來說，熱塑性樹脂基材之玻璃轉移溫度(Tg)以60℃以上為宜。此時，延伸溫度若低於40℃，則即使考慮以水將熱塑性樹脂基材塑化，也恐無法良好地延伸。另一方面，延伸浴之溫度愈高溫，PVA系樹脂層之溶解性就愈高，而恐無法獲得優異的光學特性。積層體浸漬於延伸浴之浸漬時間宜為15秒~5分鐘。
水中延伸進行之延伸倍率宜為1.0倍~3.0倍，較宜為1.0倍~2.0倍，更宜為1.0倍~1.5倍。水中延伸之延伸倍率只要為所述範圍，便可將延伸之總倍率設定為所期望之範圍，而可實現所期望之定向函數。結果可獲得沿吸收軸方向之斷裂經抑制的偏光膜。延伸之總倍率(組合空中輔助延伸與水中延伸時之延伸倍率的合計)如上述，相對於積層體之原長宜為3.0倍~4.0倍，以3.0倍~3.5倍較佳。藉由適當組合對塗佈液添加鹵化物、調整空中輔助延伸及水中延伸之延伸倍率、及乾燥收縮處理，即便為所述延伸之總倍率，仍可獲得具有可容許之光學特性之偏光膜。
A-3-5.乾燥收縮處理 上述乾燥收縮處理可透過將區域整體加熱所進行之區域加熱來進行，亦可透過將輸送輥加熱(所謂使用加熱輥)來進行(加熱輥乾燥方式)。較佳為使用這兩者。藉由使用加熱輥使其乾燥，可有效率地抑制積層體之加熱捲曲，而製造出外觀優異的偏光膜。具體而言，藉由在使積層體沿著加熱輥之狀態下進行乾燥，可有效率地促進上述熱塑性樹脂基材之結晶化而增加結晶度，即使是在相對較低的乾燥溫度下，仍能良好增加熱塑性樹脂基材之結晶度。結果熱塑性樹脂基材之剛性會增加而成為得以承受PVA系樹脂層因乾燥而收縮的狀態，從而捲曲受到抑制。又，藉由使用加熱輥，可在將積層體維持平坦狀態的同時進行乾燥，因此不只能抑制捲曲的產生，亦能抑制起皺的產生。此時，積層體可透過乾燥收縮處理使其於寬度方向收縮，來提升光學特性。其係因可有效提升PVA及PVA/碘錯合物之定向性之故。積層體進行乾燥收縮處理所得寬度方向之收縮率宜為1%~10%，較宜為2%~8%，尤宜為4%~6%。
圖3係顯示乾燥收縮處理之一例的概略圖。在乾燥收縮處理中，係利用已加熱至預定溫度的輸送輥R1~R6與導輥G1~G4來一邊輸送積層體200一邊使其乾燥。在圖式例中，係將輸送輥R1~R6配置成可交替連續加熱PVA樹脂層之面與熱塑性樹脂基材之面，但例如亦可將輸送輥R1~R6配置成僅連續加熱積層體200的其中一面(例如熱塑性樹脂基材面)。
藉由調整輸送輥之加熱溫度(加熱輥之溫度)、加熱輥之數量及與加熱輥的接觸時間等，可控制乾燥條件。加熱輥之溫度宜為60℃~120℃，更宜為65℃~100℃，尤宜為70℃~80℃。可在可良好地增加熱塑性樹脂之結晶度而良好地抑制捲曲的同時，製造出耐久性極優異的光學積層體。另，加熱輥之溫度可以接觸式溫度計來測定。在圖式例中設置有6個輸送輥，惟輸送輥只要為複數個即無特別限制。輸送輥通常為2個~40個，較佳為設置4個~30個。積層體與加熱輥之接觸時間(總接觸時間)以1秒~300秒為宜，以1~20秒較佳，以1~10秒更佳。
加熱輥可設置於加熱爐(例如烘箱)內，亦可設置於一般的製造產線(室溫環境下)。宜設置於具備送風機構的加熱爐內。藉由併用以加熱輥進行之乾燥與熱風乾燥，可抑制在加熱輥間急遽的溫度變化，而可易控制寬度方向之收縮。熱風乾燥之溫度宜為30℃~100℃。且，熱風乾燥時間宜為1秒~300秒。熱風之風速宜為10m/秒~30m/秒左右。另，該風速係在加熱爐內之風速，可以迷你扇葉型數位風速計來測定。
A-3-6.其他處理 宜在水中延伸處理之後且在乾燥收縮處理之前，施行洗淨處理。上述洗淨處理代表上係藉由使PVA系樹脂層浸漬於碘化鉀水溶液中來進行。
A-4.保護層 如上述，保護層可以樹脂薄膜構成，亦可以熱塑性丙烯酸系樹脂之有機溶劑溶液之塗佈膜的固化物構成。就樹脂薄膜而言，可採用可作為偏光膜之保護層使用的任意適當的薄膜。成為該薄膜之主成分的材料之具體例，可舉出三醋酸纖維素(TAC)等之纖維素系樹脂、或聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降莰烯系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系及乙酸酯系等之透明樹脂等。又，還可舉出(甲基)丙烯酸系、胺甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。其他還可舉例如矽氧烷系聚合物等之玻璃質系聚合物。並且，亦可使用日本專利特開2001-343529號公報(WO01/37007)所記載之聚合物薄膜。作為該薄膜之材料，例如可以使用含有在側鏈具有取代或非取代之醯亞胺基的熱塑性樹脂與在側鏈具有取代或非取代之苯基以及腈基的熱塑性樹脂之樹脂組成物，例如可舉出具有由異丁烯與N-甲基馬來醯亞胺構成之交替共聚物及丙烯腈-苯乙烯共聚物之樹脂組成物。該聚合物薄膜例如可為上述樹脂組成物之擠製成形物。此時，保護層之厚度宜為5µm~80µm，較宜為10µm~70µm，更宜為20µm~50µm。
當保護層係以熱塑性丙烯酸系樹脂之有機溶劑溶液之塗佈膜的固化物所構成時，丙烯酸系樹脂之玻璃轉移溫度(Tg)宜為100℃以上，110℃以上較佳，120℃以上更佳，125℃以上尤佳。只要在所述範圍內，即便為如後述非常薄的保護層，仍可確保偏光板或附相位差層之偏光板的耐久性。另一方面，丙烯酸系樹脂之Tg宜為300℃以下，較宜為200℃以下，更宜為160℃以下。丙烯酸系樹脂之Tg只要在所述範圍內，成形性便佳。丙烯酸系樹脂只要具有如上述之Tg，則可採用任意適當之丙烯酸系樹脂。丙烯酸系樹脂在代表上含有(甲基)丙烯酸烷基酯為主成分作為單體單元(重複單元)。本說明書中，「(甲基)丙烯酸」意指丙烯酸及/或甲基丙烯酸。構成丙烯酸系樹脂之主骨架的(甲基)丙烯酸烷基酯，可例示如直鏈狀或支鏈狀烷基之碳數1~18者。該等可單獨使用或可組合來使用。丙烯酸系樹脂中之(甲基)丙烯酸烷基酯單元的含有比率宜為50莫耳%~98莫耳%，較宜為55莫耳%~98莫耳%，更宜為60莫耳%~98莫耳%，尤宜為65莫耳%~98莫耳%，最宜為70莫耳%~97莫耳%。丙烯酸系樹脂宜具有包含環結構之重複單元。包含環結構之重複單元可舉內酯環單元、戊二酸酐單元、戊二醯亞胺單元、馬來酸酐單元、馬來醯亞胺(N-取代馬來醯亞胺)單元。包含環結構之重複單元可僅有1種含於丙烯酸系樹脂之重複單元中，亦可有2種以上含於其中。具有內酯環單元之丙烯酸系樹脂已載於例如日本專利特開2008-181078號公報中，而本說明書即援用該公報之記載作為參考。具有戊二醯亞胺單元之丙烯酸系樹脂已記載於例如日本專利特開2006-309033號公報、日本專利特開2006-317560號公報、日本專利特開2006-328334號公報、日本專利特開2006-337491號公報、日本專利特開2006-337492號公報、日本專利特開2006-337493號公報、日本專利特開2006-337569號公報中，而本說明書即援用該公報之記載作為參考。馬來酸酐單元及馬來醯亞胺(N-取代馬來醯亞胺)單元可由名稱特定出結構，因此省略具體說明。丙烯酸系樹脂中包含環結構之重複單元的含有比率宜為1莫耳%~50莫耳%，較宜為10莫耳%~40莫耳%，更宜為20莫耳%~30莫耳%。丙烯酸系樹脂亦可含有(甲基)丙烯酸烷基酯單元及包含環結構之重複單元以外之重複單元。所述重複單元可舉源自可與構成上述單元之單體共聚之乙烯基系單體的重複單元。丙烯酸系樹脂之重量平均分子量宜為1000~2000000，較宜為5000~1000000，更宜為10000~500000，尤宜為50000~500000，最宜為60000~150000。保護層係以熱塑性丙烯酸系樹脂之有機溶劑溶液之塗佈膜的固化物所構成時，保護層之厚度例如為10µm以下，宜為7µm以下，較宜為5µm以下，更宜為3µm以下。保護層之厚度的下限例如可為1μm。以熱塑性丙烯酸系樹脂之有機溶劑溶液之塗佈膜的固化物構成之保護層可使其厚度比樹脂薄膜薄上甚多。結果，能成為在端部具有彎曲形狀且至該端部為止皆作為影像顯示區域之影像顯示裝置應用偏光板或附相位差層之偏光板時之效果明顯者。
設置視辨側保護層時，該視辨側保護層亦可視需要施行有硬塗處理、抗反射處理、抗黏處理、防眩處理等表面處理。並且/或者，視辨側保護層亦可視需求施行有用以改善透過偏光太陽眼鏡視辨時之視辨性的處理(代表上為賦予(橢)圓偏光機能、賦予超高相位差)。藉由施行所述處理，即使透過偏光太陽眼鏡等偏光透鏡視辨顯示畫面時，仍可實現優異的視辨性。因此，偏光板或附相位差層之偏光板亦可適宜用於可用於戶外之影像顯示裝置。
於與視辨側相反之側設置保護層(內側保護層)時，該內側保護層宜於光學上為各向同性。本說明書中「在光學上為各向同性」意指面內相位差Re(550)為0nm~10nm，且厚度方向之相位差Rth(550)為-10nm~+10nm。
B.附相位差層之偏光板 B-1.附相位差層之偏光板之整體構成 圖4係本發明一實施形態之附相位差層之偏光板的概略截面圖。圖式例之附相位差層之偏光板100具有偏光板10與相位差層20。偏光板係上述A項記載之偏光板。圖式例之偏光板10包含偏光膜11與視辨側保護層12。如上述，亦可省略視辨側保護層12。附相位差層之偏光板中，相位差層代表上配置於偏光板之與視辨側相反之側。
如圖5所示，另一實施形態之附相位差層之偏光板101中，亦可設有另一相位差層50以及/或者導電層或附導電層之各向同性基材60。另一相位差層50以及導電層或附導電層之各向同性基材60代表上可設於相位差層20之外側(與偏光板10相反之側)。另一相位差層代表上折射率特性顯示nz＞nx=ny之關係。另一相位差層50以及導電層或附導電層之各向同性基材60代表上係自相位差層20側起依序設置。另一相位差層50以及導電層或附導電層之各向同性基材60代表上係可因應需要設置之任意層，可省略任一者或兩者。此外，為求方便，有時會將相位差層20稱為第1相位差層，且將另一相位差層50稱為第2相位差層。另外，在可設置導電層或附導電層之各向同性基材時，附相位差層之偏光板可應用於在影像顯示單元(例如有機EL單元)與偏光板間組入觸控感測器而成的所謂內觸控面板型輸入顯示裝置。
第1相位差層20係液晶化合物的定向固化層。第1相位差層20可為如圖4及圖5所示之定向固化層的單一層，亦可具有如圖6所示之第1定向固化層21與第2定向固化層22的積層結構。
附相位差層之偏光板與上述A項記載之偏光板同樣地具有矩形形狀。並且，附相位差層之偏光板的4個隅部中之至少1個隅部設有空缺部。關於附相位差層之偏光板的空缺部係援引關於偏光板的空缺部之上述A-1項的說明。亦即，空缺部之構成(配置位置、面積比、俯視形狀等)係如關於偏光板在上述A-1項中所說明。
上述實施形態可適當組合，亦可於上述實施形態之構成要素中加入本業界中顯明的變更。例如，亦可於圖6之附相位差層之偏光板102設置第2相位差層50以及/或者導電層或附導電層之各向同性基材60。
附相位差層之偏光板亦可更包含有其他相位差層。其他相位差層之光學特性(例如折射率特性、面內相位差、Nz係數、光彈性係數)、厚度、配置位置等可按目適當設定。
於實際使用上，可於相位差層之與偏光板相反之側設置黏著劑層(未圖示)，且附相位差層之偏光板可貼附於影像顯示單元上。並且，黏著劑層之表面宜暫時黏附有分離件直至附相位差層之偏光板供於使用之前。
附相位差層之偏光板的總厚度宜為100µm以下，較宜為80µm以下，更宜為60µm以下，尤宜為50µm以下，特別宜為40µm以下。總厚度的下限例如可為20µm。根據本發明實施形態，可實現如所述極薄之附相位差層之偏光板。所述附相位差層之偏光板可具有極優異之可撓性及彎折耐久性。結果，附相位差層之偏光板可適宜應用於端部具有彎曲形狀且至該端部為止皆作為影像顯示區域之影像顯示裝置，此時可顯著抑制在隅部之皺褶及氣泡。另外，所謂附相位差層之偏光板的總厚度係指從視辨側保護層(不存在時為偏光膜)至黏著劑層為止之全部的層的厚度合計(亦即附相位差層之偏光板的總厚度包含用以積層偏光膜及相位差層等之接著劑層之厚度，而不包含分離件之厚度)。
以下，具體說明第1相位差層、第2相位差層以及導電層或附導電層之各向同性基材。
B-2.第1相位差層 第1相位差層20如上述係液晶化合物的定向固化層。藉由使用液晶化合物，可使所得相位差層的nx與ny之差比非液晶材料大上甚多，因此可將用以獲得期望面內相位差之相位差層之厚度縮小甚多。結果，可實現附相位差層之偏光板之進一步之薄型化，從而可在附相位差層之偏光板應用於端部具有彎曲形狀且至該端部為止皆作為影像顯示區域之影像顯示裝置時，顯著抑制在隅部之皺褶及氣泡。本說明書中所謂「定向固化層」係指液晶化合物在層內於預定方向定向，且其定向狀態已受固定之層。另外，「定向固化層」之概念包含如後述使液晶單體硬化而得的定向硬化層。在本實施形態中，代表上係棒狀液晶化合物於第1相位差層之慢軸方向排列之狀態下定向(沿面定向)。
液晶化合物可舉例如液晶相為向列相之液晶化合物(向列型液晶)。這種液晶化合物例如可使用液晶聚合物或液晶單體。液晶化合物之液晶性的表現機構可為溶致亦可為熱致。液晶聚合物及液晶單體各自可單獨使用，也可組合使用。
液晶化合物為液晶單體時，該液晶單體宜為聚合性單體及交聯性單體。其係因藉由使液晶單體聚合或交聯(亦即硬化)可固定液晶單體的定向狀態之故。在使液晶單體定向之後，例如只要使液晶單體彼此聚合或交聯，便可藉此固定上述定向狀態。在此係藉由聚合來形成聚合物，藉由交聯來形成3維網目結構，而該等為非液晶性。因此，所形成之第1相位差層例如不會發生液晶性化合物特有之因溫度變化而轉變為液晶相、玻璃相、結晶相之情形。結果第1相位差層會成為不受溫度變化影響而穩定性極優異的相位差層。
液晶單體展現液晶性之溫度範圍會因其種類而異。具體來說，該溫度範圍宜為40℃~120℃，更宜為50℃~100℃，最宜為60℃~90℃。
上述液晶單體可採用任意適當之液晶單體。例如可使用日本專利特表2002-533742(WO00/37585)、EP358208(US5211877)、EP66137(US4388453)、WO93/22397、EP0261712、DE19504224、DE4408171及GB2280445等所記載之聚合性液晶原化合物等。所述聚合性液晶原化合物之具體例可舉例如BASF公司之商品名LC242、Merck公司之商品名E7、Wacker-Chem公司之商品名LC-Sillicon-CC3767。液晶單體宜為例如向列性液晶單體。
液晶化合物之定向固化層可藉由以下方式來形成：於預定基材之表面施行定向處理，並於該表面塗敷含液晶化合物的塗敷液而使該液晶化合物於對應上述定向處理之方向定向，並固定該定向狀態。基材為任意適當之樹脂薄膜，而形成於該基材上的定向固化層代表上可轉印至偏光板10之表面。
上述定向處理可採用任意適當之定向處理。具體可舉機械性定向處理、物理性定向處理、化學性定向處理。機械性定向處理的具體例可舉磨擦處理、延伸處理。物理性定向處理的具體例可舉磁場定向處理、電場定向處理。化學性定向處理的具體例可舉斜向蒸鍍法、光定向處理。各種定向處理的處理條件可按目的採用任意適當之條件。
液晶化合物的定向可因應液晶化合物的種類於可展現液晶相之溫度下進行處理來進行。藉由進行所述溫度處理，液晶化合物會變為液晶狀態，而該液晶化合物會因應基材表面之定向處理方向而定向。
在一實施形態中，定向狀態之固定係藉由冷卻已依上述方式定向之液晶化合物來進行。當液晶化合物為聚合性單體或交聯性單體時，定向狀態之固定係藉由對已依上述方式定向之液晶化合物施行聚合處理或交聯處理來進行。
液晶化合物之具體例及定向固化層的形成方法的詳細內容記載於日本專利特開2006-163343號公報中。本說明書中係援用該公報之記載作為參考。
在一實施形態中，第1相位差層20係如圖4及圖5所示，為液晶化合物之定向固化層的單一層。當第1相位差層20係以液晶化合物之定向固化層的單一層所構成時，其厚度宜為0.5μm~7µm，1μm~5μm較佳。藉由使用液晶化合物，可以較樹脂薄膜薄上甚多的厚度實現與樹脂薄膜同等的面內相位差。
第1相位差層代表上折射率特性展現nx＞ny=nz之關係。第1相位差層代表上係為了賦予偏光板抗反射特性而設置，而在第1相位差層為定向固化層的單一層時可作為λ/4板發揮功能。此時，第1相位差層的面內相位差Re(550)宜為100nm~190nm，較宜為110nm~170nm，更宜為130nm~160nm。此外，在此「ny=nz」不只ny與nz完全相同之情況，還包含實質上相同之情況。因此，在不損及本發明效果之範圍下可有成為ny＞nz或ny＜nz之情形。
第1相位差層的Nz係數宜為0.9~1.5，較宜為0.9~1.3。藉由滿足所述關係，在將所得附相位差層之偏光板使用於影像顯示裝置時，可達成非常優異之反射色相。
第1相位差層可展現相位差值隨測定光之波長變大的逆分散波長特性，亦可展現相位差值隨測定光之波長變小的正波長分散特性，又可展現相位差值幾乎不隨測定光之波長變化的平坦的波長分散特性。在一實施形態中，第1相位差層展現逆分散波長特性。此時，相位差層之Re(450)/Re(550)宜為0.8以上且小於1，較宜為0.8以上且0.95以下。只要為所述構成，便可實現非常優異的抗反射特性。
第1相位差層20的慢軸與偏光膜11的吸收軸形成之角度θ宜為40°~50°，較宜為42°~48°，更宜為約45°。只要角度θ在所述範圍內，如上述藉由將第1相位差層製成λ/4板，可獲得具有非常優異圓偏光特性(以結果而言為非常優異的抗反射特性)的附相位差層之偏光板。
在另一實施形態中，第1相位差層20可如圖6所示，具有第1定向固化層21與第2定向固化層22之積層結構。此時，第1定向固化層21及第2定向固化層22之任一者可作為λ/4板發揮功能，另一者可作為λ/2板發揮功能。因此，第1定向固化層21及第2定向固化層22的厚度可為了獲得λ/4板或λ/2板的期望面內相位差而進行調整。例如，第1定向固化層21作為λ/2板發揮功能、第2定向固化層22作為λ/4板發揮功能時，第1定向固化層21的厚度例如為2.0μm~3.0µm，而第2定向固化層22的厚度例如為1.0μm~2.0µm。此時，第1定向固化層的面內相位差Re(550)宜為200nm~300nm，較宜為230nm~290nm，更宜為250nm~280nm。而第2定向固化層的面內相位差Re(550)係如在上述有關單一層之定向固化層所作之說明。第1定向固化層的慢軸與偏光膜的吸收軸形成之角度宜為10°~20°，較宜為12°~18°，更宜為約15°。第2定向固化層的慢軸與偏光膜的吸收軸形成之角度宜為70°~80°，較宜為72°~78°，更宜為約75°。只要為所述構成，便可獲得接近理想之逆波長分散特性的特性，結果可實現非常優異之抗反射特性。關於構成第1定向固化層及第2定向固化層之液晶化合物、第1定向固化層及第2定向固化層之形成方法、光學特性等，係如在上述有關單一層之定向固化層所作之說明。
B-3.第2相位差層 第2相位差層如上述，可為折射率特性展現nz＞nx=ny之關係的所謂正C板(Positive C-plate)。藉由使用正C板作為第2相位差層，可良好地防止斜向之反射，而可使抗反射功能廣視角化。此時，第2相位差層的厚度方向的相位差Rth(550)宜為-50nm~-300nm，較宜為-70nm~-250nm，更宜為-90nm~-200nm，尤宜為-100nm~-180nm。在此，「nx=ny」不僅包含nx與ny嚴格上相等之情況，還包含nx與ny實質上相等之情況。即，第2相位差層的面內相位差Re(550)可小於10nm。第2相位差層代表上可在第1相位差層為單一層時設置。
具有nz＞nx=ny之折射率特性的第2相位差層可以任意適當之材料形成。第2相位差層宜由包含固定為垂面排列定向之液晶材料的薄膜構成。可使垂面排列定向的液晶材料(液晶化合物)可為液晶單體亦可為液晶聚合物。該液晶化合物及該相位差層之形成方法的具體例可舉日本專利特開2002-333642號公報中段落[0020]~[0028]記載之液晶化合物及該相位差層之形成方法。此時，第2相位差層的厚度宜為0.5μm~10µm，較宜為0.5μm~8µm，更宜為0.5μm~5µm。
B-4.導電層或附導電層之各向同性基材 導電層可利用任意適當之成膜方法(例如真空蒸鍍法、濺鍍法、CVD法、離子鍍法、噴霧法等)，將金屬氧化物膜成膜於任意適當之基材上來形成。金屬氧化物可舉例如氧化銦、氧化錫、氧化鋅、銦錫複合氧化物、錫銻複合氧化物、鋅鋁複合氧化物、銦鋅複合氧化物。其中宜為銦錫複合氧化物(ITO)。
當導電層包含金屬氧化物時，該導電層之厚度宜為50nm以下，較宜為35nm以下。導電層厚度的下限宜為10nm。
導電層可由上述基材轉印至第1相位差層(或若有第2相位差層存在則為第2相位差層)而以導電層單獨作為附相位差層之偏光板的構成層，亦可以導電層與基材之積層體(附導電層之基材)的形式積層於第1相位差層(或若有第2相位差層存在則為第2相位差層)。較理想的是上述基材在光學上為各向同性，因此導電層可作為附導電層之各向同性基材用於附相位差層之偏光板。
在光學上為各向同性的基材(各向同性基材)可採用任意適當之各向同性基材。構成各向同性基材之材料可舉例如以降莰烯系樹脂或烯烴系樹脂等不具有共軛系之樹脂為主骨架的材料、於丙烯酸系樹脂之主鏈中具有內酯環或戊二醯亞胺環等環狀結構的材料等。若使用所述材料，則可於形成各向同性基材時將伴隨分子鏈定向而展現之相位差抑制得較小。各向同性基材的厚度宜為50µm以下，較宜為35µm以下。各向同性基材之厚度的下限例如20μm。
上述導電層及/或上述附導電層之各向同性基材的導電層可因應需要進行圖案化。藉由圖案化可形成導通部與絕緣部。結果可形成電極。電極可作為用以感測對觸控面板之接觸的觸控感測電極發揮功能。圖案化方法可採用任意適當之方法。圖案化方法的具體例可舉濕式蝕刻法、網版印刷法。
C.影像顯示裝置 上述A項記載之偏光板及上述B項記載之附相位差層之偏光板各自可應用於影像顯示裝置。因此，本發明實施形態包含使用有所述偏光板或附相位差層之偏光板的影像顯示裝置。影像顯示裝置的代表例可舉液晶顯示裝置、電致發光(EL)顯示裝置(例如有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置)。影像顯示裝置代表上於其視辨側具備上述偏光板或上述附相位差層之偏光板。在一實施形態中，影像顯示裝置之端部具有彎曲形狀。更詳細而言，如圖7A~圖7C所示，影像顯示裝置100代表上具有矩形形狀，且其端部全部(4邊)具有彎曲形狀(彎曲部)80a、80b、80c、80d。該端部代表上係製成為影像顯示區域，且該端部還貼合有上述偏光板或上述附相位差層之偏光板。端部(彎曲部)的曲率半徑R宜為10mm以下，較宜為8mm以下，更宜為6mm以下。藉由使用如上述之偏光板或附相位差層之偏光板，即便在端部具有如所述較小之曲率半徑的彎曲形狀之情況下，仍可良好抑制隅部之皺褶及氣泡。
實施例 以下，以實施例來具體說明本發明，惟本發明不受該等實施例限定。各特性之測定方法如以下所述。此外，只要無特別註記，實施例及比較例中之「份」及「%」即為重量基準。 (1)厚度 使用干涉膜厚計(大塚電子公司製，製品名「MCPD-3000」)進行測定。 (2)定向函數 針對實施例及比較例中所得偏光膜，使用傅立葉轉換紅外線分光光度計(FT-IR)(Perkin Elmer公司製，商品名：「SPECTRUM2000」)，以偏光作為測定光，藉由衰減全反射分光(ATR：attenuated total reflection)測定，進行偏光膜表面之評估。定向函數依以下程序算出：在使測定光相對於延伸方向呈0°與90°之狀態下實施測定，並使用所得光譜之2941cm-1 的強度依下述式來算出。關於該式的詳細內容如同上述說明。 f=(3＜cos2 θ＞-1)/2 =[(R-1)(R0 +2)]/[(R+2)(R0 -1)] =(1-D)/[c(2D+1)] =-2×(1-D)/(2D+1) (3)收縮率SMD 及STD 將實施例及比較例中所得偏光膜裁切成吸收軸方向10cm×透射軸方向10cm之正方形，製成試驗試樣。以Mitutoyo公司製「CNC影像測定器」測定試驗試樣之吸收軸方向及透射軸方向之精密尺寸，並令各尺寸為SMD0 及STD0 。尺寸測定後，將該試驗試樣在85℃下加熱120小時，並將加熱後之尺寸同樣地進行測定。令加熱後之尺寸分別為SMD1 及STD1 。吸收軸方向之收縮率SMD 係以(SMD0 -SMD1 )/SMD0 ×100求算。透射軸方向之收縮率STD 係以(STD0 -STD1 )/STD0 ×100求算。從所得SMD 及STD 算出SMD /STD 。 (4)空缺部相對於整體面積之面積比 將實施例及比較例中所得附相位差層之偏光板的整體面積依所裁切之尺寸及R形狀來計算。另一方面，從空缺部的形狀及尺寸來計算空缺部的面積。自式：(空缺部的面積)/(整體面積)×100算出空缺部之面積比(%)。 (5)皺褶及氣泡 利用3D印刷機製出評估用模組，該評估用模組具有與實施例及比較例中所得附相位差層之偏光板對應的形狀(長150mm及寬70mm之矩形)，且端部(4邊及4隅)具有彎曲形狀。模組係製作3個彎曲部分之曲率半徑為4mm、6mm及8mm。將實施例及比較例中所得附相位差層之偏光板透過黏著劑層藉由真空層合來貼合於各模組上。在貼合了附相位差層之偏光板與模組之狀態下，以肉眼觀察4個隅部有無皺褶及氣泡，並按以下基準評估。 4：皆未於全部之模組中觀察到氣泡 3：在曲率半徑4mm的模組中確認有皺褶及/或氣泡 2：在曲率半徑6mm的模組中確認有皺褶及/或氣泡 1：在曲率半徑8mm的模組中確認有皺褶及/或氣泡
[實施例1] 1.製作偏光膜 熱塑性樹脂基材是使用長條狀且吸水率0.75%、Tg約75℃之非晶質間苯二甲酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(厚度：100µm)。並對樹脂基材之單面施行電暈處理(處理條件：55W・min/m2 )。 在以9：1混合聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改質PVA(日本合成化學工業公司製，商品名「GOHSEFIMER Z410」)而成之PVA系樹脂100重量份中，添加碘化鉀13重量份，而調製出PVA水溶液(塗佈液)。 於樹脂基材之電暈處理面塗佈上述PVA水溶液並在60℃下乾燥，藉此形成厚度13μm之PVA系樹脂層，而製作出積層體。 將所得積層體於130℃之烘箱內在周速相異之輥間沿縱向(長邊方向)進行自由端單軸延伸成2.4倍(空中輔助延伸處理)。 接著，使積層體浸漬於液溫40℃的不溶解浴(相對於水100重量份摻混4重量份之硼酸而得的硼酸水溶液)中30秒鐘(不溶解處理)。 接著，於液溫30℃的染色浴(相對於水100重量份，以1：7之重量比摻混碘與碘化鉀而得之碘水溶液)中調整濃度的同時使其浸漬於其中60秒鐘，以使最後所得偏光膜的單體透射率(Ts)成為41.6%(染色處理)。 接著，使其浸漬於液溫40℃的交聯浴(相對於水100重量份摻混3重量份的碘化鉀並摻混5重量份的硼酸而得之硼酸水溶液)中30秒鐘(交聯處理)。 然後，一邊使積層體浸漬於液溫62℃的硼酸水溶液(硼酸濃度4.0重量%，碘化鉀5.0重量%)中，一邊在周速相異的輥間沿縱向(長邊方向)進行單軸延伸以使總延伸倍率達3.0倍(水中延伸處理：水中延伸處理之延伸倍率為1.25倍)。 之後，使積層體浸漬於液溫20℃的洗淨浴(相對於水100重量份，摻混4重量份的碘化鉀而得之水溶液)中(洗淨處理)。 之後，一邊在維持於90℃之烘箱中乾燥，一邊使其接觸表面溫度維持於75℃之SUS製加熱輥約2秒鐘(乾燥收縮處理)。積層體進行乾燥收縮處理所得寬度方向之收縮率為2%。 經由以上程序，於樹脂基材上形成了厚度6.0μm之偏光膜。所得偏光膜之定向函數為0.15，SMD 為0.105，STD 為0.109，SMD /STD 為0.96。
2.形成保護層 將具有內酯環單元之丙烯酸系樹脂(日本觸媒公司製，製品名「RZ114」)20份溶解於甲基乙基酮80份中，而獲得丙烯酸系樹脂溶液(20%)。使用線棒將該丙烯酸系樹脂溶液塗佈於上述所得樹脂基材/偏光膜之積層體的偏光膜表面，並在60℃下將塗佈膜乾燥5分鐘，而形成以塗佈膜的固化物的形式構成之保護層。保護層之厚度為2μm，Tg為127℃。並於保護層表面形成硬塗層(HC)層(厚度3µm)。依上述方式獲得HC層/保護層/偏光膜/樹脂基材之積層體。
3.製作構成相位差層之第1定向固化層及第2定向固化層 將顯示向列型液晶相的聚合性液晶(BASF公司製：商品名「Paliocolor LC242」，以下述式表示)10g與對該聚合性液晶化合物的光聚合引發劑(BASF公司製：商品名「IRGACURE 907」)3g溶解至甲苯40g中，而調製出液晶組成物(塗敷液)。 [化學式1]
Figure 02_image001
使用擦拭布擦拭聚對苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜(厚度38μm)表面，施行定向處理。定向處理之方向係設為貼合至偏光板時由視辨側觀看時相對於偏光膜之吸收軸方向呈15°方向。利用棒塗機將上述液晶塗敷液塗敷至該定向處理表面，並於90℃下進行2分鐘加熱乾燥，藉此使液晶化合物定向。使用金屬鹵素燈對依上述方式形成的液晶層照射1mJ/cm2 的光，使該液晶層硬化，藉此於PET薄膜上形成液晶定向固化層A。液晶定向固化層A之厚度為2.0μm，面內相位差Re(550)為270nm。並且，液晶定向固化層A具有nx＞ny=nz之折射率分布。 變更塗敷厚度，並將定向處理方向設為由視辨側觀看時相對於偏光膜之吸收軸方向呈75°方向，除此之外依與上述相同方式於PET薄膜上形成液晶定向固化層B。液晶定向固化層B之厚度為1.0μm，面內相位差Re(550)為140nm。並且，液晶定向固化層B具有nx＞ny=nz之折射率分布。
4.製作附相位差層之偏光板 從上述2.所得積層體剝離樹脂基材。於該剝離面(偏光膜表面)上依序轉印上述3.所得液晶定向固化層A及液晶定向固化層B。此時，係以偏光膜之吸收軸與定向固化層A之慢軸形成之角度為15°且偏光膜之吸收軸與定向固化層B之慢軸形成之角度呈75°的方式進行轉印(貼合)。此外，各自之轉印(貼合)係透過紫外線硬化型接著劑(厚度1.0μm)來進行。依上述方式，獲得具有硬塗層/保護層/偏光膜/接著劑層/相位差層(第1定向固化層/接著劑層/第2定向固化層)之構成的附相位差層之偏光板。附相位差層之偏光板之總厚度為36µm。
5.形成空缺部 將上述4.所得附相位差層之偏光板沖裁成長150mm及寬70mm之矩形(代表性之智慧型手機尺寸)，並將4個隅部去角成R形狀。對隅部(自端起算於縱向10.5mm及橫向10.5mm之區域)進行雷射照射，形成3條大致V字形狀的缺口(如圖2之左上的形狀，端至頂點為止之長度3.8mm)，做出空缺部。空缺部相對於附相位差層之偏光板之整體面積之面積比為5.9%。將形成有空缺部之附相位差層之偏光板供於上述(5)之評估。將結果列於表1。
[實施例2] 除了未形成保護層及HC層外，依與實施例1相同方式而製出附相位差層之偏光板。附相位差層之偏光板之總厚度為31µm。以下程序係依與實施例1相同方式而形成空缺部。將形成有空缺部之附相位差層之偏光板供於與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[實施例3] 1.製作偏光膜 熱塑性樹脂基材是使用長條狀且吸水率0.75%、Tg約75℃之非晶質間苯二甲酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(厚度：100µm)。並對樹脂基材之單面施行了電暈處理。 在以9：1混合聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改質PVA(日本合成化學工業公司製，商品名「GOHSEFIMER Z410」)而成之PVA系樹脂100重量份中添加碘化鉀13重量份後，將所得者溶於水中而調製出PVA水溶液(塗佈液)。 於樹脂基材之電暈處理面塗佈上述PVA水溶液並在60℃下乾燥，藉此形成厚度13μm之PVA系樹脂層，而製作出積層體。 將所得積層體於130℃之烘箱內在周速相異之輥間沿縱向(長邊方向)進行自由端單軸延伸成2.4倍(空中輔助延伸處理)。 接著，使積層體浸漬於液溫40℃的不溶解浴(相對於水100重量份摻混4重量份之硼酸而得的硼酸水溶液)中30秒鐘(不溶解處理)。 接著，於液溫30℃的染色浴(相對於水100重量份，以1：7之重量比摻混碘與碘化鉀而得之碘水溶液)中調整濃度的同時使其浸漬於其中60秒鐘，以使最後所得偏光膜的單體透射率(Ts)成為預定值(染色處理)。 接著，使其浸漬於液溫40℃的交聯浴(相對於水100重量份摻混3重量份的碘化鉀並摻混5重量份的硼酸而得之硼酸水溶液)中30秒鐘(交聯處理)。 然後，使積層體浸漬於液溫70℃的硼酸水溶液(硼酸濃度4.0重量%，碘化鉀濃度5.0重量%)中，同時在周速相異的輥間沿縱向(長邊方向)進行單軸延伸以使總延伸倍率達5.5倍(水中延伸處理)。 之後，使積層體浸漬於液溫20℃的洗淨浴(相對於水100重量份，摻混4重量份的碘化鉀而得之水溶液)中(洗淨處理)。 之後，一邊在維持於90℃之烘箱中乾燥，一邊使其接觸表面溫度維持於75℃之SUS製加熱輥約2秒(乾燥收縮處理)。積層體進行乾燥收縮處理所得寬度方向之收縮率為5.2%。 經由以上程序，於樹脂基材上形成了厚度5μm之偏光膜。所得偏光膜之定向函數為0.28，SMD 為0.261，STD 為0.127，SMD /STD 為2.06。
2.製作附相位差層之偏光板 於上述1.所得偏光膜表面(與樹脂基材相反之側的面)透過紫外線硬化型接著劑(厚度1.0µm)貼合丙烯酸系薄膜(厚度40µm)作為保護層，而獲得保護層/接著劑層/偏光膜/樹脂基材之積層體。以下程序係依與實施例1相同方式而製出附相位差層之偏光板。附相位差層之偏光板之總厚度為71µm。並依與實施例1相同方式而形成空缺部。將形成有空缺部之附相位差層之偏光板供於與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[實施例4] 依與實施例1相同方式而製出附相位差層之偏光板。除了製成矩形點圖案(如圖2右上之形狀，長50µm及寬20µm的矩形貫通孔，貫通孔之間距300µm)來取代大致V字形狀之缺口外，依與實施例1相同方式而形成空缺部。空缺部相對於附相位差層之偏光板之整體面積之面積比為2.9%。將形成有空缺部之附相位差層之偏光板供於與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[實施例5] 依與實施例2相同方式而製出附相位差層之偏光板。於該附相位差層之偏光板上依與實施例4相同方式而形成空缺部。將形成有空缺部之附相位差層之偏光板供於與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[實施例6] 依與實施例3相同方式而製出附相位差層之偏光板。於該附相位差層之偏光板上依與實施例4相同方式而形成空缺部。將形成有空缺部之附相位差層之偏光板供於與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[比較例1] 依與實施例1相同方式而製出附相位差層之偏光板。將該附相位差層之偏光板直接(即在未形成空缺部之狀態下)供於與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[比較例2] 依與實施例2相同方式而製出附相位差層之偏光板。將該附相位差層之偏光板直接(即在未形成空缺部之狀態下)供於與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[比較例3] 依與實施例3相同方式而製出附相位差層之偏光板。將該附相位差層之偏光板直接(即在未形成空缺部之狀態下)供於與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[表1]
Figure 02_image003
由表1明顯可理解到，本發明實施例之附相位差層之偏光板在應用於端部具有彎曲形狀的影像顯示裝置時，可抑制隅部的皺褶及氣泡。
產業上之可利用性 本發明偏光板及附相位差層之偏光板可適宜用於影像顯示裝置，且特別適合用於端部具有彎曲形狀且至該端部為止皆作為影像顯示區域之影像顯示裝置。
10:偏光板 11:偏光膜 12:保護層 15:空缺部 20:相位差層(第1相位差層) 21:第1定向固化層 22:第2定向固化層 50:另一相位差層(第2相位差層) 60:導電層或附導電層之各向同性基材 80a,80b,80c,80d:彎曲形狀(彎曲部) 100:附相位差層之偏光板 101:附相位差層之偏光板 102:附相位差層之偏光板 200:積層體 B-B,C-C:線 G1~G4:導輥 R:端部(彎曲部)的曲率半徑 R1~R6:輸送輥
圖1係本發明一實施形態之偏光板的概略俯視圖。 圖2係顯示本發明實施形態之偏光板中之空缺部之俯視形狀的具體例的概略俯視圖。 圖3係顯示本發明實施形態所用偏光膜之製造方法中，利用加熱輥之乾燥收縮處理之一例的概略圖。 圖4係本發明一實施形態之附相位差層之偏光板的概略截面圖。 圖5為本發明之另一實施形態之附相位差層之偏光板的概略截面圖。 圖6為本發明之又另一實施形態之附相位差層之偏光板的概略截面圖。 圖7A係本發明一實施形態之影像顯示裝置的概略俯視圖。 圖7B係圖7A之影像顯示裝置的B-B線的概略截面圖。 圖7C係圖7A之影像顯示裝置的C-C線的概略截面圖。
10:偏光板
15:空缺部

Claims (14)

  1. 一種偏光板，包含以含碘之聚乙烯醇系樹脂薄膜所構成之偏光膜； 該偏光板於至少1個隅部具有空缺部，且 該空缺部相對於整體面積之面積比為2.0%以上。
  2. 如請求項1之偏光板，其中前述空缺部相對於前述偏光板之整體面積之面積比為30%以下。
  3. 如請求項1或2之偏光板，其中前述空缺部選自於由缺口、點圖案之貫通孔、網目及該等之組合所構成之群組。
  4. 如請求項1至3中任一項之偏光板，其中前述偏光膜之厚度為8µm以下。
  5. 一種附相位差層之偏光板，具有偏光板與相位差層，該偏光板包含以含碘之聚乙烯醇系樹脂薄膜所構成之偏光膜，該相位差層為液晶化合物之定向固化層； 該附相位差層之偏光板於至少1個隅部具有空缺部，且 該空缺部相對於整體面積之面積比為2.0%以上。
  6. 如請求項5之附相位差層之偏光板，其中前述空缺部相對於前述附相位差層之偏光板之整體面積之面積比為30%以下。
  7. 如請求項5或6之附相位差層之偏光板，其中前述空缺部選自於由缺口、點圖案之貫通孔、網目及該等之組合所構成之群組。
  8. 如請求項5至7中任一項之附相位差層之偏光板，其總厚度在100µm以下。
  9. 如請求項5至8中任一項之附相位差層之偏光板，其中前述相位差層為液晶化合物之定向固化層的單一層， 該相位差層的Re(550)為100nm~190nm，且 該相位差層之慢軸與前述偏光膜之吸收軸形成之角度為40°~50°。
  10. 如請求項9之附相位差層之偏光板，其中於前述相位差層之外側更具有另一相位差層，該另一相位差層之折射率特性顯示nz＞nx=ny之關係。
  11. 如請求項5至8中任一項之附相位差層之偏光板，其中前述相位差層具有第1液晶化合物之定向固化層與第2液晶化合物之定向固化層的積層結構； 該第1液晶化合物之定向固化層的Re(550)為200nm~300nm，且其慢軸與前述偏光膜之吸收軸形成之角度為10°~20°； 該第2液晶化合物之定向固化層的Re(550)為100nm~190nm，且其慢軸與該偏光膜之吸收軸形成之角度為70°~80°。
  12. 一種影像顯示裝置，具備如請求項1至4中任一項之偏光板或如請求項5至11中任一項之附相位差層之偏光板。
  13. 如請求項12之影像顯示裝置，其端部具有彎曲形狀，且於該端部貼合有前述偏光板或前述附相位差層之偏光板。
  14. 如請求項13之影像顯示裝置，其中前述端部之曲率半徑在10mm以下。
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