JP2011191412A - チャック装置、基板観察装置、および欠陥修正装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】このパターン修正装置のチャック装置2は、その上に修正対象のカラーフィルタ10が載置されるガラス定盤3と、ガラス定盤3の外周部を下から支持する支持台4と、ガラス定盤3の略中央部を下から支持する支持バー30と、カラーフィルタ10の表面の欠陥が支持バー30の上方に位置する場合、支持バー30を他の位置に移動させるアクチュエータ31,32とを備える。したがって、欠陥の観察を妨げることなく、ガラス基板3の撓みを防止できる。
【選択図】図3
Description
また、この発明に係る基板観察装置は、その上に基板が載置される透明定盤と、透明定盤の外周部を下から支持する支持台と、透明定盤の略中央部を下から支持する支持部材と、透明定盤の下方から基板に透過光を与える光源と、透明定盤の上方から基板の表面を観察するための観察光学系と、観察光学系を基板の表面の所望の位置の上方に移動させる位置決め手段と、基板の表面の所望の位置が支持部材の上方に位置する場合、透明定盤の下面に沿わせて支持部材を他の位置に移動させる駆動手段とを備えたものである。
Claims (7)
- 基板の表面を観察する基板観察装置において前記基板を保持するチャック装置であって、
その上に前記基板が載置される透明定盤と、
前記透明定盤の外周部を下から支持する支持台と、
前記透明定盤の略中央部を下から支持する支持部材と、
前記基板の表面の観察対象の位置が前記支持部材の上方に位置する場合、前記透明定盤の下面に沿わせて前記支持部材を他の位置に移動させる駆動手段とを備える、チャック装置。 - 前記透明定盤は、四角形に形成されて水平に支持され、
前記支持部材は、前記透明定盤の1辺と平行に配置された支持バーを含み、
前記駆動手段は、前記支持バーと直交する方向に前記支持バーを水平移動させる、請求項1に記載のチャック装置。 - 前記駆動手段は、前記支持部材を移動させる場合は、前記支持バーの幅よりも大きな予め定められた距離だけ前記支持バーを移動させる、請求項2に記載のチャック装置。
- 前記支持部材は、さらに、前記支持バーの上面に設けられ、前記透明定盤の下面に当接される複数の転動体を含む、請求項2または請求項3に記載のチャック装置。
- 前記複数の転動体の各々はローラである、請求項4に記載のチャック装置。
- その上に基板が載置される透明定盤と、
前記透明定盤の外周部を下から支持する支持台と、
前記透明定盤の略中央部を下から支持する支持部材と、
前記透明定盤の下方から前記基板に透過光を与える光源と、
前記透明定盤の上方から前記基板の表面を観察する観察光学系と、
前記観察光学系を前記基板の表面の所望の位置の上方に移動させる位置決め手段と、
前記基板の表面の所望の位置が前記支持部材の上方に位置する場合、前記透明定盤の下面に沿わせて前記支持部材を他の位置に移動させる駆動手段とを備える、基板観察装置。 - その上に基板が載置される透明定盤と、
前記透明定盤の外周部を下から支持する支持台と、
前記透明定盤の略中央部を下から支持する支持部材と、
前記透明定盤の下方から前記基板に透過光を与える光源と、
前記透明定盤の上方から前記基板の表面の欠陥を観察する観察光学系と、
前記欠陥を修正する修正手段と、
前記欠陥を観察する場合は前記観察光学系を前記欠陥の上方に移動させ、前記欠陥を修正する場合は前記修正手段を前記欠陥の上方に移動させる位置決め手段と、
前記欠陥が前記支持部材の上方に位置する場合、前記透明定盤の下面に沿わせて前記支持部材を他の位置に移動させる駆動手段とを備える、欠陥修正装置。
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Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003279495A (ja) * | 2002-03-22 | 2003-10-02 | V Technology Co Ltd | ガラス基板の検査装置 |
JP2006007295A (ja) * | 2004-06-28 | 2006-01-12 | Ntn Corp | 微細パターン修正装置および微細パターンの欠陥修正方法 |
JP2006038825A (ja) * | 2004-01-22 | 2006-02-09 | Ntn Corp | 微細パターン観察装置およびそれを用いた微細パターン修正装置 |
JP2008215943A (ja) * | 2007-03-01 | 2008-09-18 | Ntn Corp | 照明装置およびパターン修正装置 |
JP2009002954A (ja) * | 2007-05-23 | 2009-01-08 | Lasertec Corp | 基板保持装置 |
JP2009014665A (ja) * | 2007-07-09 | 2009-01-22 | Ntn Corp | 微細パターン観察装置およびそれを用いた微細パターン修正装置 |
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003279495A (ja) * | 2002-03-22 | 2003-10-02 | V Technology Co Ltd | ガラス基板の検査装置 |
JP2006038825A (ja) * | 2004-01-22 | 2006-02-09 | Ntn Corp | 微細パターン観察装置およびそれを用いた微細パターン修正装置 |
JP2006007295A (ja) * | 2004-06-28 | 2006-01-12 | Ntn Corp | 微細パターン修正装置および微細パターンの欠陥修正方法 |
JP2008215943A (ja) * | 2007-03-01 | 2008-09-18 | Ntn Corp | 照明装置およびパターン修正装置 |
JP2009002954A (ja) * | 2007-05-23 | 2009-01-08 | Lasertec Corp | 基板保持装置 |
JP2009014665A (ja) * | 2007-07-09 | 2009-01-22 | Ntn Corp | 微細パターン観察装置およびそれを用いた微細パターン修正装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022153793A1 (ja) * | 2021-01-15 | 2022-07-21 | 株式会社ブイ・テクノロジー | フォトマスク修正装置およびフォトマスクの修正方法 |
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