JP2011190239A - 新規なビカルバゾリル誘導体、それよりなるホスト材料およびそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】下記一般式(1)
で示されるビカルバゾリル誘導体、それよりなるホスト材料およびそれを用いた有機EL素子。
【選択図】なし
Description
そこで、この問題を解決する目的で近年リン光材料による有機EL素子の検討がなされている(非特許文献1)。
リン光材料は、従来の蛍光材料と異なり、三重項励起状態を使用することができるため量子効率が非常に高く、エネルギー失活がほとんどなく内部発光量子収率でほぼ100%に達する材料である。
しかしこのリン光材料は、濃度消光を起こしやすいため蛍光材料と同様にホスト材料との併用が必要になってくる。
高効率発光を得るためには、輸送材料やホスト材料の最適化を図らないといけないが、リン光材料は蛍光材料と異なり三重項エネルギーを完全に閉じ込めないと満足な効果が得られない。特に青色の材料に関しては三重項エネルギーレベルが緑色や赤色に比べて非常に高い。そのために従来リン光材料のホスト材料として使用されている4,4′−ジ(N−カルバゾール)−1,1′−ビフェニル(CBP)などでは十分なエネルギーの閉じ込めができない。これまでこの青色リン光エネルギーを満足に閉じ込めることのできるワイドギャップ化されたホスト材料はほとんどなく、青色リン光材料の開発を妨げる一つの要因になっていた。
で示されるビカルバゾリル誘導体に関する。
本発明の第2は、請求項1記載のビカルバゾリル誘導体よりなるホスト材料に関する。
本発明の第3は、請求項1記載のビカルバゾリル誘導体を用いた有機エレクトロルミネッセンス素子に関する。
さらにR5における炭素数6〜20のアリール基としては、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、4−フェニル−1−ナフチル基、4−フェニル−2−ナフチル基、5−フェニル−1−ナフチル基、1−アントリル基、2−アントリル基、9−アントリル基、10−フェニル−9−アントリル基、1−フェナントリル基、2−フェナントリル基、3−フェナントリル基、4−フェナントリル基、9−フェナントリル基、1−ピレニル基、2−ピレニル基、2−ペリレニル基、3−ペリレニル基、1−フルオランテニル基、2−フルオランテニル基、3−フルオランテニル基、8−フルオランテニル基、2−トリフェニレニル基、9,9−ジメチルフルオレン−2−イル基、9,9−ジブチルフルオレン−2−イル基、9,9−ジヘキシルフルオレン−2−イル基、9,9−ジオクチルフルオレン−2−イル基、9,9−ジフェニルフルオレン−2−イル基、2−ビフェニリル基、3−ビフェニリル基、4−ビフェニリル基、p−テルフェニル−3−イル基、p−テルフェニル−4−イル基、m−テルフェニル−3−イル基、m−テルフェニル−4−イル基、o−テルフェニル−3−イル基、o−テルフェニル−4−イル基、4−(1−ナフチル)−1−ナフチル基、o−トリル基、m−トリル基、p−トリル基、p−tert−ブチルフェニル基、4−メトキシフェニル基、4−フルオロフェニル基、4−ジメチルアミノフェニル基、4−シアノフェニル基、4−(トリフルオロメチル)フェニル基、4−メチル−1−ナフチル基、2−メトキシ−1−ナフチル基、10−メチル−9−アントリル基、10−メトキシ−9−アントリル基、4−フェニル−8−フルオランテニル基、7−ジメチルアミノ−9,9−ジメチルフルオレン−2−イル基、3′,5′−ジフェニルビフェニル−4−イル基などを例示することができる。
R20〜65における炭素数1〜4の直鎖または分岐のアルキル基としては、メチル、エチル、n−プロピル、iso−プロピル、n−ブチル、iso−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチルなどを例示することができる。
反応系で用いる塩基としては、アルカリ金属やアルカリ土類金属の水酸塩、炭酸塩、重炭酸塩などの無機塩やアルコキシド、酢酸塩などの有機塩、トリエチルアミンのような有機アルカリ化合物が使用できる。反応時間や収率を考慮した場合、炭酸塩を使用することが好ましい。さらにより好ましくは炭酸塩の中でも炭酸カリウムである。
この反応で使用するパラジウム触媒としては、Pd(0)をしめすものが使用できる。具体的には、有機配位子とパラジウムとの錯体が例示できる。好ましくはテトラキストリフェニルホスフィンパラジウムやトリスジベンジリデンアセトンジパラジウムであり、より好ましくはトリスジベンジリデンアセトンジパラジウムである。
またパラジウムを活性化するために添加するリン触媒としては、第3アルキルホスフィンを使用することができる。例示できるものとして、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリ〔n−(iso−)プロピル〕ホスフィン、トリ〔n−(iso−,tert−)ブチル〕ホスフィンのような脂肪族のものやトリシクロヘキシルホスフィン(PCy3)のような脂環式のものである。用いるパラジウム化合物との相性から、ここでは2−ジシクロヘキシルホスフィノ−2′,6′−ジメトキシビフェニル(S−Phos)のような脂環式のシクロヘキシルホスフィン類が好ましい。
ホール注入材料としては、下記化学式に示されるPEDOT−PSS(ポリマー混合物)やDNTPDを挙げることができる。
電子注入材料としては、下記化学式に示されるフッ化リチウム(LiF)や8−ヒドロキシキノリノラトリチウム錯体(Liq)などを挙げることができるが、本出願人の特開2008−106015号公報(特願2006−292032号)にかかげるフェナントロリン誘導体のリチウム錯体(LiPB)や特開2008−195623号公報(特願2007−29695号)に掲げるフェノキシピリジンのリチウム錯体(LiPP)を用いることもできる。
1)3,3′−ビカルバゾールの合成
1H−NMR(400MHz,DMSO):δ11.25(s,2H),8.48(s,2H),8.21(d,2H,J=7.8Hz),7.79(dd,2H,J=1.1,8.5Hz),7.55(d,2H,J=8.7Hz),7.48(d,2H,J=8.2Hz),7.37(t,2H,J=7.6Hz),7.15(t,2H,J=7.6Hz)ppm.
仕込量:1.0g、高温部:395℃、低温部:190℃、N2流量:70mL/minで昇温を開始した。24時間加熱し、昇華精製を行うことにより、透明緑色固体を得た(収量:780mg、収率:78%)。
1)4,4′−(3,3′−ビ−9H−カルバゾール)−9,9′−ジイルビス(ジフェニルホスホキシ)ベンゼン(BCzPO)の合成
実施例1で合成したBCzTPと実施例2で合成したBCzPOの蒸着膜(石英基板、膜厚500Å)での紫外可視吸収スペクトル(UV−vis吸収スペクトル)およびフォトルミネッセンススペクトル(PLスペクトル)を測定した。前記それぞれの蒸着膜のUV−vis吸収スペクトルを図10に、PLスペクトルを図11に示す。
実施例1で合成したBCzTPの溶液状(1.0×10−5mol/L)での紫外可視吸収スペクトル(UV−vis吸収スペクトル)およびフォトルミネッセンススペクトル(PLスペクトル)を測定した。UV−vis吸収スペクトルを図12に、PLスペクトルを図13に示す。図中CHCl3はクロロホルム、THFはテトラヒドロフラン、tolueneはトルエンを表す。
実施例2で合成したBCzPOの溶液状(1.0×10−5mol/L)での紫外可視吸収スペクトル(UV−vis吸収スペクトル)およびフォトルミネッセンススペクトル(PLスペクトル)を測定した。UV−vis吸収スペクトルを図14に、PLスペクトルを図15に示す。図中CHCl3はクロロホルム、THFはテトラヒドロフラン、tolueneはトルエンを表す。
実施例1で合成したBCzTPおよび実施例2で合成したBCzPOをホスト材料に使用した素子を作成し、それぞれの素子特性を評価した。
・実施例7:[ITO(陽極)/TAPC(ホール輸送層40nm)/BCzTP(ホスト材料) FIrpic(ホストに対して11wt%ドープ発光材料)(あわせて発光層10nm)/BmPyPB(電子輸送層50nm)/LiF(電子注入層0.5nm)/Al(陰極100nm)]
・実施例8:[ITO(陽極)/TAPC(ホール輸送層40nm)/BCzPO(ホスト材料) FIrpic(ホストに対して11wt%ドープ発光材料)(発光層はこれらホスト材料と発光材料から成り立つ、10nm)/BmPyPB(電子輸送層50nm)/LiF(電子注入層0.5nm)/Al(陰極100nm)]
電流密度−電圧特性(線形)は図16に、
電流密度−電圧特性(対数)は図17に、
輝度−電圧特性は図18に、
電流効率−電圧特性は図19に、
電力効率−電圧特性は図20に、
外部量子効率−輝度特性は図21に、
エレクトロルミネッセンス(EL)スペクトルは図22に、
それぞれ示す。
また100cd/cm2と1000cd/cm2の電圧、電力効率と電流効率を下記表4に示す。
1)4−ヨードフェニル−トリフェニルメタンの合成
1H−NMR(400MHz,DMSO):δ7.63(d,2H,J=8.0Hz),7.29−7.09(m,15H),6.91(d,2H,J=8.0Hz)ppm,MS:m/z=446[M]+.
1H−NMR(400MHz,CDCl3):δ8.43(d,2H,J=1.4Hz),8.22(d,2H,7.8Hz),7.76(dd,2H,J=8.76Hz,1.76Hz),7.56−7.41(m,14H),7.35−7.25(m,32H)ppm.MS(EI):m/z=970[M]+.Anal.Calcd for C74H52N2:C,91.70;H,5.41;N,2.89%.Found:C,91.60;H,5.55;N,2.78%.
分解温度:500℃、昇華温度:351℃と見積もり、高温部:350℃、低温部:175℃、N2流量:70mL/minで昇華精製を開始した。1時間毎に高温部の温度を5℃上げていき、395℃で24時間加熱して昇華精製を行い、白色固体を得た。
展開溶媒にTHF:MeOH=1:5を用いて純度測定を行い10分毎に純度99.2%であることを確認した。
実施例9で合成したBCzTPMの溶液状(1.0×10−5mol/L)での紫外可視吸収スペクトル(UV−vis吸収スペクトル)およびフォトルミネッセンススペクトル(PLスペクトル)を測定した。UV−vis吸収スペクトルを図29に、PLスペクトルを図30に示す。図中CHCl3はクロロホルム、THFはテトラヒドロフラン、tolueneはトルエンを表す。
実施例1、2、9でそれぞれ合成したBCzTP(実施例11)、BCzPO(実施例12)、BCzTPM(実施例13)およびBCzTPA(参考例1)の蒸着膜(石英基板、膜厚500Å)での紫外可視吸収スペクトル(UV−vis吸収スペクトル)およびフォトルミネッセンススペクトル(PLスペクトル)を測定した。前記それぞれの蒸着膜のUV−vis吸収スペクトルを図31に、PLスペクトルを図32に示す。なお、上記BCzTPAは、特開2008−135498号公報に記載の下記化合物である。
実施例1、2、9でそれぞれ合成したBCzTP(実施例14)、BCzPO(実施例15)、BCzTPM(実施例16)およびBCzTPA(参考例2)にFIrpicを11重量パーセントドーピングした蒸着膜(石英基板、膜厚500Å)を作成し紫外可視吸収スペクトル(UV−vis吸収スペクトル)およびフォトルミネッセンス(PLスペクトル)を測定した。前記それぞれの蒸着膜のUV−vis吸収スペクトルを図33に、PLスペクトルを図34に示す。
また今回合成した3種類の化合物BCzTP、BCzPO、BCzTPおよびBCzTPAの熱および光・電子物性の評価を纏めて表5に示す。
Td5:5%重量減少温度、
Tg:ガラス転移温度、
Tm:融点、
Ip:イオン化ポテンシャル、
Eg:エネルギーギャップ、
Ea:エレクトロアフィニティ(電子親和力)、
n.d.:検出されず。
Tg(ガラス転移温度)については、DSC(Differential Scanning Calorimeter 示差熱量計)中にサンプルを加え、溶融されたものを急冷し、2〜3回繰返すとガラス点を示すカーブがチャート上に現れるので、そのカーブを接線で結び、その交点の温度をTgとして採用する。
Tm(融点)は、同じくDSCにサンプルを加え、昇温させていくと急熱カーブが現れるのでその極大のところの温度を読んで、その温度をTmとする。
Td(分解温度)は、DTA(Differential Thermal Analyzer 示差熱分析装置)にサンプルを加え、加熱していくとサンプルが熱によって分解し、重量が減少しだす。その減少が開始し5%重量減少したところの温度を読んでその点をTdとする。
Td5(5%重量減少温度)は、TG−DTA(Thermo Gravimetry−Differential Thermal Analyzer示差熱−熱重量同時測定計)にサンプルを加え、加熱していくとサンプルが熱によって分解し、重量が減少しだす。その減少が開始し5%重量減少したところの温度を読んでその点をTd5とする。
エネルギーギャップ(Eg)については、蒸着機で作成した薄膜を紫外−可視吸光度計で薄膜の吸収曲線を測定する。その薄膜の短波長側の立ち上がりのところに接線を引き、求まった交点の波長W(nm)を次の式に代入し目的の値を求める。それによって得た値がEgになる。
Eg=1240÷W
例えば接線を引いて求めた値W(nm)が470nmだったとしたらこの時のEgの値は
Eg=1240÷470=2.63(eV)
と言うことになる。
IP(イオン化ポテンシャル)はイオン化ポテンシャル測定装置(例えば理研計器AC−3)を使用して測定し、測定するサンプルがイオン化を開始したところの電圧(eV)の値を読む。
Ea(電子親和力)は、IpからEgを引いた値である。
実施例1、2、9でそれぞれ合成したBCzTP(実施例17)、BCzPO(実施例18)、BCzTPM(実施例19)およびBCzTPA(参考例3)をホスト材料に使用した素子を作成し、それぞれの素子特性を評価した。
各素子の構成は下記のとおりである。
・実施例17:[ITO(陽極)/TAPC(ホール輸送層40nm)/BCzTP(ホスト材料) FIrpic(ホストに対して11wt%ドープ発光材料)(あわせて発光層10nm)/BmPyPB(電子輸送層50nm)/LiF(電子注入層0.5nm)/Al(陰極100nm)]
・実施例18:[ITO(陽極)/TAPC(ホール輸送層40nm)/BCzPO(ホスト材料) FIrpic(ホストに対して11wt%ドープ発光材料)(あわせて発光層10nm)/BmPyPB(電子輸送層50nm)/LiF(電子注入層0.5nm)/Al(陰極100nm)]
・実施例19:[ITO(陽極)/TAPC(ホール輸送層40nm)/BCzTPM(ホスト材料) FIrpic(ホストに対して11wt%ドープ発光材料)(あわせて発光層10nm)/BmPyPB(電子輸送層50nm)/LiF(電子注入層0.5nm)/Al(陰極100nm)]
電流密度−電圧特性(線形)は図35に、
電流密度−電圧特性(対数)は図36に、
輝度−電圧特性は図37に、
電流効率−電圧特性は図38に、
電力効率−電圧特性は図39に、
外部量子効率−輝度特性は図40に、
エレクトロルミネッセンス(EL)スペクトルは図41に、
それぞれ示す。
素子特性を纏めて下記表6に示す。表中の「PE」は電力効率(視感効率)である。
また「nit」は「cd/m2」と同義である。
2 陽極(ITO)
3 発光層
4 陰極
5 正孔(ホール)輸送層
6 電子輸送層
7 正孔(ホール)注入層
8 電子注入層
9 ホールブロック層
Claims (3)
- 下記一般式(1)
で示されるビカルバゾリル誘導体。 - 請求項1記載のビカルバゾリル誘導体よりなるホスト材料。
- 請求項1記載のビカルバゾリル誘導体を用いた有機エレクトロルミネッセンス素子。
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