JP2011189298A - Pure water production system - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、純水製造システムに関し、特に、逆浸透膜装置を備える純水製造システムに関する。 The present invention relates to a pure water production system, and more particularly to a pure water production system including a reverse osmosis membrane device.
半導体製造工程や電子部品の製造、医療器具の洗浄等では、不純物を含まない高純度の純水が使用されており、従来から種々の純水製造システムが提供されている。また、純水製造システムとしては、イオン交換樹脂を用いるイオン交換装置や、逆浸透膜を用いる逆浸透膜装置を備える物が数多く提供されている。 High purity pure water not containing impurities is used in semiconductor manufacturing processes, electronic component manufacturing, medical instrument cleaning, and the like, and various types of pure water manufacturing systems have been provided. Moreover, many things provided with the ion exchange apparatus using an ion exchange resin and the reverse osmosis membrane apparatus using a reverse osmosis membrane are provided as a pure water manufacturing system.
イオン交換装置は、陽イオン交換樹脂や陰イオン交換樹脂を備え、イオン交換樹脂中の固定イオンと異符号のイオンを吸着除去する装置であり、純度を上げるために、塔内にH型陽イオン交換樹脂とOH型陰イオン交換樹脂を混合して充填した混床式イオン交換装置も提供されている。 The ion exchange device is equipped with a cation exchange resin or an anion exchange resin and adsorbs and removes fixed ions in the ion exchange resin and ions with different signs. In order to increase the purity, an H-type cation is placed in the tower. There is also provided a mixed bed type ion exchange apparatus in which an exchange resin and an OH type anion exchange resin are mixed and filled.
逆浸透膜装置は、逆浸透膜(RO膜)を用いた膜分離により供給水の中のイオンを除去する装置である。例えば、下記特許文献1には、原水にアルカリを添加してpHを9.2以上に調整後、耐アルカリ性RO膜、耐アルカリ性RO膜、正荷電RO膜の順で処理する純水製造システムが開示されている。 The reverse osmosis membrane device is a device that removes ions in the supply water by membrane separation using a reverse osmosis membrane (RO membrane). For example, Patent Document 1 below discloses a pure water production system in which an alkali is added to raw water to adjust the pH to 9.2 or higher, and then processed in the order of an alkali resistant RO membrane, an alkali resistant RO membrane, and a positively charged RO membrane. It is disclosed.
また、下記特許文献2には、原水にアルカリを添加してpHを9.2以上に調整後、耐アルカリ性RO膜、正荷電RO膜の順で処理する純水製造システムが開示されている。
ところで、原水中のシリカ濃度が高い場合、一般にRO膜はシリカ除去率が高いため、RO膜の濃縮水中に含まれるシリカ濃度が非常に高くなり、温度や濃縮度合等の条件によっては、膜面にシリカがSiO2やケイ酸カルシウムとして析出してしまうといった問題が生じてしまう。 By the way, when the silica concentration in the raw water is high, since the RO membrane generally has a high silica removal rate, the silica concentration contained in the concentrated water of the RO membrane becomes very high, and depending on the conditions such as temperature and degree of concentration, the membrane surface In addition, there arises a problem that silica is precipitated as SiO 2 or calcium silicate.
いったん膜面にシリカが析出してしまうと、有効な膜面積も減少し、透過流束の急激な低下を招いてしまう。また、RO膜の洗浄は非常に困難であり、無理に除去させようとすると、RO膜を破損や劣化させてしまうケースも多い。 Once silica is deposited on the membrane surface, the effective membrane area also decreases, leading to a rapid drop in permeation flux. Also, the cleaning of the RO membrane is very difficult, and there are many cases where the RO membrane is damaged or deteriorated if it is forcibly removed.
本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであり、逆浸透膜装置を用いる純水製造システムにおいて、原水のシリカ濃度が高い場合であっても逆浸透膜へのシリカ析出を防止することができる純水製造システムを提供することを目的とする。 This invention is made | formed in view of such a subject, In the pure water manufacturing system using a reverse osmosis membrane apparatus, even when the silica concentration of raw | natural water is high, the silica precipitation to a reverse osmosis membrane is prevented. An object of the present invention is to provide a pure water production system capable of performing the above.
上記課題を解決するために、本発明に係る純水製造システムは、二段以上の逆浸透膜装置を有し、前段で製造された処理水を次段の供給水とする純水製造システムにおいて、シリカ除去率が90%以下の低シリカ除去率逆浸透膜を用いる、前記二段以上の逆浸透膜装置の中で最前段に設置される低シリカ除去率逆浸透膜装置と、シリカ除去率が90%超過の高シリカ除去率逆浸透膜を用いる高シリカ除去率逆浸透膜装置と、を備えることを特徴とする。 In order to solve the above-mentioned problems, a pure water production system according to the present invention includes a reverse osmosis membrane device having two or more stages, and a pure water production system using treated water produced in the previous stage as supply water in the next stage. A low silica removal rate reverse osmosis membrane device using a low silica removal rate reverse osmosis membrane having a silica removal rate of 90% or less, and a low silica removal rate reverse osmosis membrane device installed in the forefront of the two or more stages of reverse osmosis membrane devices, and a silica removal rate And a high silica removal rate reverse osmosis membrane device using a high silica removal rate reverse osmosis membrane exceeding 90%.
また、本発明に係る純水製造方法は、二段以上の逆浸透膜装置を有し、前段で製造された処理水を次段の供給水としながら純水を製造する純水製造方法において、最初に、シリカ除去率が90%以下の低シリカ除去率逆浸透膜を用いて膜分離を行う第一膜分離工程と、前記第一膜分離工程の後に、シリカ除去率が90%超過の高シリカ除去率逆浸透膜を用いて膜分離を行う第二膜分離工程と、を含むことを特徴とする。 In addition, the pure water production method according to the present invention has a reverse osmosis membrane device of two or more stages, and in the pure water production method of producing pure water while using treated water produced in the previous stage as supply water in the next stage, First, a first membrane separation step of performing membrane separation using a reverse osmosis membrane having a silica removal rate of 90% or less, and a high silica removal rate exceeding 90% after the first membrane separation step. And a second membrane separation step of performing membrane separation using a reverse osmosis membrane with a silica removal rate.
本発明に係る純水製造システムによれば、原水のシリカ濃度が高い場合であっても逆浸透膜へのシリカ析出を防止することができる。 According to the pure water production system of the present invention, silica deposition on the reverse osmosis membrane can be prevented even when the silica concentration of raw water is high.
(第一実施形態)
以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態に係る純水製造システムについて説明する。図1は、第一実施形態に係る純水製造システムの構成を概略的に示す模式図である。同図に示すように、純水製造システム10は、給水ライン2上に順に設置された軟水装置11、給水ライン2にアルカリを添加するためのアルカリ添加装置12、第一逆浸透膜装置15(以下、「逆浸透膜装置」を「RO装置」とする)、及び第二RO装置16を備えている。
(First embodiment)
Hereinafter, a pure water production system according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. Drawing 1 is a mimetic diagram showing roughly the composition of the pure water manufacturing system concerning a first embodiment. As shown in the figure, a pure
軟水装置11は、イオン交換塔内にナトリウム型の陽イオン交換樹脂が収容されている。原水が給水ライン2から軟水装置11に供給されると、原水に含まれる硬度成分であるカルシウムイオン及びマグネシウムイオンが陽イオン交換樹脂のナトリウムイオンとイオン交換されて除去され、原水が軟水化される。つまり、第一RO装置15には、供給水として、軟水装置11で製造された軟水が送水される。
In the
アルカリ添加装置12は、給水ライン2を流れる軟水をアルカリ性にする装置であり、例えば、水酸化ナトリウム等のアルカリ水溶液を添加する装置や、OH型陰イオン交換樹脂を収容したイオン交換塔等を用いることができる。また、本実施形態に係るアルカリ添加装置12は、第一RO装置15への供給水(軟水)のpHを8〜8.5に調整するものである。
The
第一RO装置15は、低シリカ除去率逆浸透膜を用いる低シリカ除去率逆浸透膜装置である。本実施形態では、最前段に設置される逆浸透膜として、シリカ除去率が90%以下の低シリカ除去率逆浸透膜を採用したことを特徴としている。具体的には、塩化ナトリウム濃度500mg/L、かつシリカ濃度30mgSiO2/Lの水溶液を操作圧力1MPa、回収率15%、温度25℃及びpH7の条件で処理した場合の塩化ナトリウム除去率が90%以上、かつシリカ除去率が90%以下となる負荷電の合成高分子膜を用いている。
The
なお、低シリカ除去率逆浸透膜のシリカ除去率が低すぎると、一段目のRO装置によるシリカ除去量が少なくなり、後段の高シリカ除去率逆浸透膜にシリカが析出してしまうおそれもあるので、第一RO装置15の低シリカ除去率逆浸透膜のシリカ除去率は、70〜90%であることが望ましく、さらに望ましくは80〜90%であれば良い。
In addition, if the silica removal rate of the low silica removal rate reverse osmosis membrane is too low, the amount of silica removed by the first-stage RO device is reduced, and there is a possibility that silica is deposited on the high silica removal rate reverse osmosis membrane in the subsequent stage. Therefore, the silica removal rate of the reverse osmosis membrane of the low RO removal rate of the
第二RO装置16は、シリカ除去率が90%超過の高シリカ除去率逆浸透膜を用いる高シリカ除去率逆浸透膜装置である。具体的には、塩化ナトリウム濃度500mg/L、かつシリカ濃度30mgSiO2/Lの水溶液を、操作圧力1MPa、回収率15%、温度25℃及びpH7の条件で処理した場合の塩化ナトリウム除去率が99%以上、かつシリカ除去率が98%以上となる負荷電の合成高分子膜を用いている。
The
また、第一及び第二RO装置15,16は、図示しない加圧ポンプで供給水側を加圧することで、水分子のみをRO膜を透過させ、RO膜によってイオンを除去する。
Moreover, the 1st and
以上、第一実施形態に係る純水製造システム10の構成について説明したが、続いて、純水製造システム10での処理工程について順次説明する。なお、本実施形態に係る原水は、溶存シリカ濃度が15mgSiO2/L以上の原水である。
As mentioned above, although the structure of the pure
純水製造システム10に供給された原水は、まず、軟水装置11において硬度成分が取り除かれる。続いて、アルカリ添加装置12により、給水ライン2にアルカリが添加され、供給水のpHがアルカリ性側に調整されることで、シリカの溶解度が高くなる。
The raw water supplied to the pure
また、供給水のpHがアルカリ性側に調整されることにより供給水に含まれる溶存炭酸ガス(CO2)が炭酸水素イオン(HCO3 −)及び炭酸イオン(CO3 2−)にイオン化される。炭酸水素イオン及び炭酸イオンは、陰イオンであるため、負荷電のRO膜を有する第一RO装置15や第二RO装置16によって容易に除去される。
In addition, by adjusting the pH of the feed water to the alkaline side, the dissolved carbon dioxide (CO 2 ) contained in the feed water is ionized into hydrogen carbonate ions (HCO 3 − ) and carbonate ions (CO 3 2− ). Since bicarbonate ions and carbonate ions are negative ions, they are easily removed by the
シリカの溶解度を上げると共に、溶存炭酸ガスをイオン化して効果的に除去するためには、アルカリ添加装置12により、供給水のpHが8〜8.5程度になるように、または、第一RO装置15で発生する排水(濃縮水)のpHが8〜9となるように調整するのが望ましい。もちろん、原水のpHが元々高い場合には、アルカリ添加装置12を作動させなくても良い。
In order to increase the solubility of silica and ionize the dissolved carbon dioxide gas effectively, the
アルカリ性側に調整された供給水は、第一RO装置15に供給され、低シリカ除去率RO膜によりシリカ、炭酸水素イオン、炭酸イオン、及びその他の溶存塩類が除去される。このとき、第一RO装置15のシリカ除去率は90%以下であり、第二RO装置16と比較して低いため、原水のシリカ濃度が15mgSiO2/L以上であっても、シリカの過剰な濃縮が抑制され、RO膜の膜面にシリカが析出するといったことがない。
The supply water adjusted to the alkaline side is supplied to the
第一RO装置15で製造された処理水(透過水)は、続いて、第二RO装置16に供給水として供給され、高シリカ除去率RO膜によって膜分離され、第一RO装置15を透過したシリカや溶存塩類が除去される。なお、第一RO装置15で発生した濃縮水は、系外へ排出される。また、第二RO装置16で発生した濃縮水は、系外へ排出されるか、第一RO装置15への供給水に混合される。
The treated water (permeated water) produced by the
図2は、本実施形態に係る純水製造システム10における処理水のシリカ濃度及び導電率の測定結果を示す図である。同図に示すように、第一RO装置15への供給水が、水量4938L/h、シリカ濃度30mgSiO2/L、導電率250μS/cmであったとき、第一RO装置15の処理水は、水量4444L/h(回収率90%)、シリカ濃度14.5mgSiO2/L、導電率54.5μS/cmであり、第一RO装置15の排水は、シリカ濃度169.6mgSiO2/Lであった。
FIG. 2 is a diagram showing measurement results of the silica concentration and conductivity of the treated water in the pure
また、第一RO装置15の処理水が供給される第二RO装置16の処理水は、水量4000L/h(回収率90%)、シリカ濃度0.5mgSiO2/L、導電率1.9μS/cmであり、第二RO装置16の排水は、シリカ濃度140.3mgSiO2/Lであった。
The treated water of the
このように、本実施形態では、原水のシリカ濃度が30mgSiO2/Lと高い場合であっても、第一RO装置15の濃縮水(排水)におけるシリカ濃度が169.6mgSiO2/Lと過剰な濃縮が抑制されており、アルカリ添加装置12による供給水のアルカリ性側への調整と相俟って、RO膜におけるシリカの析出を防止することができる。
Thus, in this embodiment, even if the silica concentration of raw water is as high as 30 mgSiO 2 / L, the silica concentration in the concentrated water (drainage) of the
これは、最前段に設置される第一RO装置15において、シリカ除去率が90%以下の低シリカ除去率逆浸透膜を用いているので、シリカ除去率の大きな逆浸透膜を用いる場合と比較して、第一RO装置15によって除去されるシリカの量が抑えられているからである。
This is because the
なお、本実施形態では、第二RO装置16に高シリカ除去率逆浸透膜を用いているので、図2に示すように、第二RO装置16の処理水のシリカ濃度は0.5mgSiO2/Lとなっており、純水製造システム10全体では十分にシリカを除去できている。
In the present embodiment, because of the use of high silica removal rate reverse osmosis membrane to the
また、図2に示すように、第二RO装置16の処理水の導電率は1.9μS/cmと低く抑えられており、純水製造システム10によれば、処理水中のイオン成分についても効果的に除去できている。
Further, as shown in FIG. 2, the conductivity of the treated water of the
以上、本実施形態について詳細に説明したが、本実施形態のように、最前段に配置されるRO装置として、低シリカ除去率逆浸透膜装置を設置すれば、原水のシリカ濃度が高い場合であってもシリカの膜面への析出を防止することができ、シリカ析出による膜性能の低下を防ぐことができる。 As described above, the present embodiment has been described in detail. However, if the low silica removal rate reverse osmosis membrane device is installed as the RO device arranged in the foremost stage as in the present embodiment, the silica concentration of the raw water is high. Even if it exists, precipitation to the film | membrane surface of a silica can be prevented and the fall of the film | membrane performance by silica precipitation can be prevented.
(第二実施形態)
続いて、本発明の第二実施形態について説明する。図3は、第二実施形態に係る純水製造システムの構成を概略的に示す模式図である。同図に示すように、純水製造システム20は、給水ライン2上に順に設置された軟水装置11、アルカリ添加装置12、第一RO装置15、第二RO装置16、陽イオン交換装置29を備えている。軟水装置11、アルカリ添加装置12、第一RO装置15、第二RO装置16の構成は、上記第一実施形態と同じであるため同じ番号を付し、詳細な説明は省略する。
(Second embodiment)
Next, a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 3 is a schematic diagram schematically showing the configuration of the pure water production system according to the second embodiment. As shown in the figure, the pure
陽イオン交換装置29は、第二RO装置16のRO膜(負荷電膜)と同符号の負の固定イオン(イオン交換基)を持つイオン交換体のみを有しており、第二RO装置16で製造された処理水中に含まれる陽イオンを除去する。また、本実施形態に係る陽イオン交換装置29は、非再生型である。
The
第二実施形態によれば、上記第一実施形態と同様の作用効果を奏する。さらに、本実施形態において、第二RO装置16が負荷電膜であるため、これと異符号の陽イオンが第二RO装置16を透過し易くなり、第二RO装置16の処理水は陽イオンがリッチな水質となる。
According to 2nd embodiment, there exists an effect similar to said 1st embodiment. Furthermore, in this embodiment, since the
これに対して、第二RO装置16の下流側に、そのRO膜(負荷電膜)と同符号の固定イオンを持つイオン交換体のみを有する陽イオン交換装置29を設置することで、処理水中に残留した陽イオンを除去し、導電率が1μS/cm以下の高純度の純水を得ることができる。
On the other hand, by installing a
以上、本発明の第一及び第二実施形態について詳細に説明したが、本発明の実施形態は上述した形態に限定されるものではなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲内で種々の変形が可能である。例えば、上述した各装置の構成として、同様の機能を有する他の構成を採用できるのでは言うまでもない。 As mentioned above, although 1st and 2nd embodiment of this invention was described in detail, embodiment of this invention is not limited to the form mentioned above, In the range which does not deviate from the main point of this invention, a various deformation | transformation is carried out. Is possible. For example, it goes without saying that another configuration having the same function can be adopted as the configuration of each device described above.
また、上記実施形態では、第一RO装置と第二RO装置の二段のRO装置を備える純水製造システムについて説明したが、最前段に設置される低シリカ除去率逆浸透膜装置と、その下流に設置される高シリカ除去率逆浸透膜装置を有する純水製造システムであれば、三段以上のRO装置を有する純水製造システムであっても良い。 Moreover, in the said embodiment, although the pure water manufacturing system provided with the two-stage RO apparatus of a 1st RO apparatus and a 2nd RO apparatus was demonstrated, the low silica removal rate reverse osmosis membrane apparatus installed in the foremost stage, and its As long as it is a pure water production system having a high silica removal rate reverse osmosis membrane device installed downstream, a pure water production system having three or more stages of RO devices may be used.
また、上記純水製造システムにおいて、さらに脱気膜装置等の脱炭酸装置を設置するようにしても良い。例えば、上記第一及び第二実施形態において、第一RO装置15の後段、第二RO装置16の後段、陽イオン交換装置29の後段に脱炭酸装置を設置することができる。
In the pure water production system, a decarboxylation device such as a degassing membrane device may be further installed. For example, in the first and second embodiments, a decarboxylation device can be installed in the subsequent stage of the
脱炭酸装置を設置すれば、炭酸成分のうち、供給水中の溶存炭酸ガスを効果的に除去することができ、さらに高純度な純水を得ることができる。 If a decarboxylation device is installed, dissolved carbon dioxide in the feed water can be effectively removed from the carbonic acid component, and more pure water can be obtained.
2 給水ライン
10,20 純水製造システム
11 軟水装置
12 アルカリ添加装置
15 第一RO装置
16 第二RO装置
29 陽イオン交換装置
2
Claims (5)
シリカ除去率が90%以下の低シリカ除去率逆浸透膜を用いる、前記二段以上の逆浸透膜装置の中で最前段に設置される低シリカ除去率逆浸透膜装置と、
シリカ除去率が90%超過の高シリカ除去率逆浸透膜を用いる高シリカ除去率逆浸透膜装置と、を備えることを特徴とする純水製造システム。 In a pure water production system having a reverse osmosis membrane device of two or more stages, and using treated water produced in the previous stage as supply water in the next stage,
A low silica removal rate reverse osmosis membrane device installed at the forefront of the two or more stages of reverse osmosis membrane devices using a low silica removal rate reverse osmosis membrane having a silica removal rate of 90% or less,
And a high silica removal rate reverse osmosis membrane apparatus using a high silica removal rate reverse osmosis membrane having a silica removal rate exceeding 90%.
最初に、シリカ除去率が90%以下の低シリカ除去率逆浸透膜を用いて膜分離を行う第一膜分離工程と、
前記第一膜分離工程の後に、シリカ除去率が90%超過の高シリカ除去率逆浸透膜を用いて膜分離を行う第二膜分離工程と、を含むことを特徴とする純水製造方法。 In a pure water production method that has two or more stages of reverse osmosis membrane devices and produces pure water while using treated water produced in the previous stage as supply water in the next stage,
First, a first membrane separation step of performing membrane separation using a low silica removal rate reverse osmosis membrane having a silica removal rate of 90% or less,
And a second membrane separation step of performing membrane separation using a reverse osmosis membrane having a high silica removal rate with a silica removal rate exceeding 90% after the first membrane separation step.
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015196103A (en) * | 2014-03-31 | 2015-11-09 | パンパシフィック・カッパー株式会社 | Method of utilizing cooling water |
CN107441934A (en) * | 2016-05-31 | 2017-12-08 | 通用电气公司 | Counter-infiltration system and the method that fluid condensation is carried out using counter-infiltration system |
WO2020184045A1 (en) * | 2019-03-13 | 2020-09-17 | オルガノ株式会社 | Apparatus for removing boron, method for removing boron, apparatus for producing pure water and method for producing pure water |
WO2024132899A1 (en) * | 2022-12-21 | 2024-06-27 | Climeworks Ag | Uses of amino sorbents for capturing of co2 from gas streams |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62294484A (en) * | 1986-06-13 | 1987-12-21 | Shinko Fuaudoraa Kk | Reverse osmosis treatment of water containing silica at high concentration |
JPH0252088A (en) * | 1988-08-15 | 1990-02-21 | Japan Organo Co Ltd | Apparatus for making desalted water |
JPH10128075A (en) * | 1996-11-05 | 1998-05-19 | Nitto Denko Corp | Reverse osmosis membrane device and treatment using the same |
JPH11244853A (en) * | 1998-03-06 | 1999-09-14 | Kurita Water Ind Ltd | Production of pure water |
JP2002192152A (en) * | 2000-12-25 | 2002-07-10 | Nomura Micro Sci Co Ltd | Method and apparatus for water treatment |
JP2006122908A (en) * | 2005-12-22 | 2006-05-18 | Kurita Water Ind Ltd | Pure water producing method |
-
2010
- 2010-03-16 JP JP2010058633A patent/JP5569784B2/en active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62294484A (en) * | 1986-06-13 | 1987-12-21 | Shinko Fuaudoraa Kk | Reverse osmosis treatment of water containing silica at high concentration |
JPH0252088A (en) * | 1988-08-15 | 1990-02-21 | Japan Organo Co Ltd | Apparatus for making desalted water |
JPH10128075A (en) * | 1996-11-05 | 1998-05-19 | Nitto Denko Corp | Reverse osmosis membrane device and treatment using the same |
JPH11244853A (en) * | 1998-03-06 | 1999-09-14 | Kurita Water Ind Ltd | Production of pure water |
JP2002192152A (en) * | 2000-12-25 | 2002-07-10 | Nomura Micro Sci Co Ltd | Method and apparatus for water treatment |
JP2006122908A (en) * | 2005-12-22 | 2006-05-18 | Kurita Water Ind Ltd | Pure water producing method |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015196103A (en) * | 2014-03-31 | 2015-11-09 | パンパシフィック・カッパー株式会社 | Method of utilizing cooling water |
CN107441934A (en) * | 2016-05-31 | 2017-12-08 | 通用电气公司 | Counter-infiltration system and the method that fluid condensation is carried out using counter-infiltration system |
WO2020184045A1 (en) * | 2019-03-13 | 2020-09-17 | オルガノ株式会社 | Apparatus for removing boron, method for removing boron, apparatus for producing pure water and method for producing pure water |
JP2020146619A (en) * | 2019-03-13 | 2020-09-17 | オルガノ株式会社 | Apparatus for removing boron, method for removing boron, apparatus for producing pure water, and method for producing pure water |
CN113573799A (en) * | 2019-03-13 | 2021-10-29 | 奥加诺株式会社 | Boron removal apparatus, boron removal method, pure water production apparatus, and pure water production method |
JP7289206B2 (en) | 2019-03-13 | 2023-06-09 | オルガノ株式会社 | Boron removal device, boron removal method, pure water production device, and pure water production method |
US12037276B2 (en) | 2019-03-13 | 2024-07-16 | Organo Corporation | Apparatus for removing boron, method for removing boron, apparatus for producing pure water and method for producing pure water |
WO2024132899A1 (en) * | 2022-12-21 | 2024-06-27 | Climeworks Ag | Uses of amino sorbents for capturing of co2 from gas streams |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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