JP2011183641A - シート状モールド位置検出装置、転写装置および転写方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】微細な転写パターンM1が形成されているシート状モールドMを移送して位置決めするときに使用されるシート状モールド位置検出装置183において、シート状モールドMにおける光の透過率を検出することによって、シート状モールドMの所定部位を検出するシート状モールド位置検出手段191を有する。
【選択図】図1
Description
ここで、平板状のシート状モールドMAにおける光の透過率を用いたシート状モールド位置検出手段191について詳しく説明する。
3 シート状モールド移送位置決め装置
5 転写装置
7 引き剥がし装置
27、27a シート状モールド作成装置
29 移送・転写・引き剥がしユニット
31 押圧体
33 被成型品設置体
35 緩衝材
37 基材
39 モールド接触材
183 シート状モールド位置検出装置
191 シート状モールド位置検出手段
AE1 転写パターン形成領域
AE2 転写パターン非形成領域
L1 エッジライン
M,MA シート状モールド
M1 微細な転写パターン
M3 マーク
MB モールド原反
S1 ラミネートフィルム
W 被成型品
Claims (6)
- 微細な転写パターンが形成されているシート状モールドを所定の方向に移送して位置決めするときに使用されるシート状モールド位置検出装置において、
前記シート状モールドにおける光の透過率、前記シート状モールドにおける光の反射率、前記シート状モールドに予め形成されているマークの少なくともいずれかを検出することによって、前記シート状モールドの所定部位を検出するシート状モールド位置検出手段を有することを特徴とするシート状モールド位置検出装置。 - 請求項1に記載のシート状モールド位置検出装置において、
前記シート状モールドには、前記微細な転写パターンが形成されている転写パターン形成領域と、前記微細な転写パターンが形成されていない転写パターン非形成領域と存在しており、
前記シート状モールド位置検出手段は、前記転写パターン形成領域と前記転写パターン非形成領域における光の透過率の違いまたは反射率の違いを検出することによって、前記シート状モールドの所定部位を検出する手段であることを特徴とするシート状モールド位置検出装置。 - 請求項1に記載のシート状モールド位置検出装置において、
前記シート状モールド位置検出手段は、前記シート状モールドに微細な転写パターンを形成するときに生成されるエッジラインを検出することによって、前記シート状モールドの所定部位を検出する手段であることを特徴とするシート状モールド位置検出装置。 - 請求項1に記載のシート状モールド位置検出装置において、
前記マークは、前記微細な転写パターンをシート状の素材に形成するときに形成されるマークであり、
前記シート状モールド位置検出装置は、前記マークを検出することによって、前記シート状モールドの所定部位を検出する手段であることを特徴とするシート状モールド位置検出装置。 - 請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載のシート状モールド位置検出装置を用いて位置決めされたシート状モールドから、被成型品に前記微細な転写パターンを転写するように構成されていることを特徴とする転写装置。
- 請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載のシート状モールド位置検出装置を用いて前記シート状モールドを位置決めする位置決め工程と、
前記位置決め工程で位置決めがされたシート状モールドから被成型品に前記微細な転写パターンを転写する転写工程と、
を有することを特徴とする転写方法。
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