JP2011182319A - 地紋画像生成方法および画像処理装置、画像形成装置 - Google Patents

Abstract

【課題】比較的大きいドットを低密度で配置する潜像領域においても、カモフラージュパターンが明確に再現される地紋画像を生成することのできる地紋画像生成方法を提供する。
【解決手段】潜像領域の描画に際して、カモフラージュパターンの輪郭に沿ってドットを配列する。あるいは、潜像領域を、複写時に再現されるドットとこれより小さいドットで描画すると共に、その小さいドットにより、カモフラージュパターンの輪郭に沿って実線または破線を描画する。たとえば、カモフラージュパターンが白抜き模様であっても、その輪郭に沿って潜像領域のドットを配列するので、輪郭が明確となる。
【選択図】図１

Description

本発明は、複写時に再現される潜像領域と複写時に消失する背景領域とで構成された地紋画像を生成する地紋画像生成方法等に係り、特に、カモフラージュパターンが合成された地紋画像を生成する地紋画像生成方法等に関する。

原本と、この原本を複写機で複写して得た複写物とを一目瞭然に区別可能にする技術として、原本では隠れていた文字などが、複写すると浮かび上がる、所謂、地紋画像がある。地紋画像は、複写時に再現される潜像領域と複写時に消失する背景領域とからなり、潜像領域と背景領域の見た目の濃度は同一であって判別できないようにされている。かかる地紋画像は、読み取り解像度の限界から「分散した小さいドットは読み取れない」という装置の特性を利用したものであり、背景領域は上記のような分散した小さいドットで構成し、潜像領域は読み取り可能なサイズのドット（あるいは小さいドットが集合したドット）で構成するようになっている。

たとえば、複写時に、白地に文字が浮かび上がるようにする場合は、文字を潜像領域とし、文字以外の部分を背景領域とした地紋画像にすればよい。一方、複写時に、地の中に白抜きの文字が浮かび上がるようにする場合は、文字を背景領域とし、文字以外の部分を潜像領域として地紋画像を原本の地画像にすればよい。

このような、地紋画像では、隠されている文字を目視で判別困難にすることが重要であり、そのための技術として、カモフラージュ技術がある。カモフラージュ技術は、比較的細かい網目などの模様をカモフラージュパターンとして地紋画像全体に合成するものであり、人の注意力をカモフラージュパターンに向けることで、隠されている文字の判別をより困難にする。

また、地紋画像では、潜像領域と背景領域とのマクロ的な濃度を同一にする必要があるので、潜像領域においては、比較的な大きいドットを低密度で配置することになる。このため、目視距離が近い場合には、潜像領域のドットが目立ち、見た目の美しさが損なわれたり、潜像領域と背景領域との判別困難性が低下したりする。このような問題に対応する技術として、たとえば、特許文献１には、潜像領域の大きなドット間に、複写時に再現されなくてもよい小さいドットを埋め込む手法が開示されている。また、特許文献２には、潜像領域の大きなドット（第１ドット）間の空白長を計算し、空白長が所定以上の場合は、第１ドットの周囲に、小さいドットを配置する手法が開示されている。

特開２００５−１５１４５６号公報 特開２００６−３１０９８８号公報

前述したように、潜像領域では、マクロ的な濃度を背景領域と同一にするために、比較的大きいドットを低密度で配置する必要がある。このため、潜像領域に、比較的細かい網目などのカモフラージュパターンを合成すると、その模様を明確に描くことができない、という問題がある。

たとえば、カモフラージュパターンが、模様の部分にドットを打たない白抜き模様である場合、その模様は周囲のドットの存在によって表現されるので、潜像領域を構成する低密度の大きいドットでは、カモフラージュパターンの模様を明確に表現することはできない。一方、背景領域には、潜像領域に比べて小さいドットが高密度に配置されるので、カモフラージュパターンの白抜き模様が明確に再現される。

このように、カモフラージュパターンの模様の再現性が潜像領域と背景領域とで異なると、隠されている文字などの判別を困難にする目的で合成したはずのカモフラージュパターンが、隠されている文字をかえって判別し易くしてしまうといった結果にもなりかねない。

特許文献１、２に開示されているように、潜像領域において、低密度に配置された大きいドット間に、複写時に再現されなくてもよい小さいドットを配置すると、カモフラージュパターンの模様の周囲に存在するドットは増加する。しかし、カモフラージュパターンとの関係を考慮することなく小さいドットを配置するので、カモフラージュパターンの模様を明確に視認できるようにする効果は期待できない。なお上記の問題は、カモフラージュパターンが白抜き模様である場合に限定されるものではなく、模様部分の濃度が薄い場合やドット密度が低い場合など、すなわち、周囲のドットの存在によって模様の形が明確にされるようなカモフラージュパターンの場合に生じる。

本発明は、上記の問題を解決しようとするものであり、潜像領域においてもカモフラージュパターンが明確に再現される地紋画像を生成することのできる地紋画像生成方法および画像処理装置、画像形成装置を提供することを目的としている。

かかる目的を達成するための本発明の要旨とするところは、次の各項の発明に存する。

［１］複写時に再現される潜像領域と複写時に消失する背景領域とで構成され、かつ、カモフラージュパターンの合成された地紋画像を生成する地紋画像生成方法であって、
前記潜像領域の描画に際して、カモフラージュパターンの輪郭に沿ってドットを配列する
ことを特徴とする地紋画像生成方法。

上記発明では、潜像領域の描画に際して、カモフラージュパターンの輪郭に沿って、潜像領域描画用のドットを配列する。これにより、たとえば、カモフラージュパターンが白抜き模様のようにドットを打たない部分で模様を表しているような場合でも、その模様の輪郭に沿って潜像領域描画用のドットを配列するので、これらのドットによって模様の輪郭が明確に表現される。輪郭に沿ってドットを配置することによってカモフラージュパターンの模様を明確にする効果は、上記のように、模様がドットを打たない部分となっている場合に顕著となるが、ドット密度が低い場合などでも、明確化の効果は得られる。すなわち、カモフラージュパターンの模様の形がその周囲のドットの存在によって初めて明確となるような場合に特に有効になる。

［２］前記潜像領域の描画に際して、複写時に再現されるドットとこれより小さいドットとを配列する
ことを特徴とする［１］に記載の地紋画像生成方法。

潜像領域は、背景領域と平均濃度をほぼ同一にするために、複写時に再現される比較的大きいドットは低密度にする必要がある。上記発明では、複写時に再現されるドットより小さいドットを潜像領域の描画に併用するので、背景領域と平均濃度をほぼ同一に維持しつつ潜像領域のドット密度を高めることができ、カモフラージュパターンの輪郭をより明確に描くことができる。すなわち、カモフラージュパターンの輪郭に沿って、複写時に再現されるドットとこれより小さいドットとを配列すれば、背景領域と平均濃度をほぼ同一にしつつ輪郭に沿って配置するドット数を増やすことができ、輪郭をより明確に表すことができる。

［３］前記小さいドットにより、前記カモフラージュパターンの輪郭に沿って実線または破線を描画する
ことを特徴とする［２］に記載の地紋画像生成方法。

上記発明では、複写時に再現されるドットより小さいドットで、カモフラージュパターンの輪郭に沿って実線または破線を描画する。これにより、カモフラージュパターンの輪郭が明確に描画される。

［４］前記カモフラージュパターンは、模様部分と透過部分で構成され、
前記模様部分は、カモフラージュパターンと他の画像を合成した場合に、当該模様部分の画像がその部分の合成画像となる領域であり、前記透過部分は、カモフラージュパターンと他の画像を合成した場合に前記他の画像がその部分の合成画像となる領域であり、
前記カモフラージュパターンの前記模様部分はドットを打たない、もしくは潜像領域より低密度にドットを打つ部分である
ことを特徴とする［１］乃至［３］のいずれか１つに記載の地紋画像生成方法。

上記発明では、カモフラージュパターンは、当該カモフラージュパターンと他の画像とを合成した場合に、模様部分の形が、その周囲に存在する他の画像のドットによって明確にされるようなパターンである。

［５］カモフラージュパターンが合成済みの潜像領域の画像データを所定の画像サイズ分予め作製して記憶部に記憶しておき、
前記記憶部に記憶されている前記画像データを繰り返し配列することで、カモフラージュパターンの合成された潜像領域を描画する
ことを特徴とする［１］乃至［４］のいずれか１つに記載の地紋画像生成方法。

上記発明では、記憶部に記憶されているカモフラージュパターン合成済みの潜像領域の画像データを繰り返し使用して、必要サイズの潜像領域が描画される。なお、カモフラージュパターン合成済みの潜像領域の画像データは、コンピュータプログラムによって自動的に生成されてもよいし、ドットを手動で配列して作成されてもよい。

［６］カモフラージュパターンの合成された地紋画像を、［１］乃至［５］のいずれか１つに記載の地紋画像生成方法によって生成する画像処理装置。

［７］［６］に記載の画像処理装置と、
前記画像処理装置によって生成された地紋画像の上に印刷指示された画像を重ねた画像を生成する画像合成部と、
前記画像合成部で合成された画像を記録紙上に画像形成して出力する画像形成部と、
を有する
ことを特徴とする画像形成装置。

本発明に係る地紋画像生成方法および画像処理装置、画像形成装置によれば、潜像領域においてもカモフラージュパターンが明確に再現される地紋画像を生成することができる。

本発明の実施の形態に係る地紋画像生成方法によって地紋画像を生成する機能を備えた画像形成装置の概略構成を示すブロック図である。 カモフラージュパターンおよびカモフラージュパターンの合成された潜像領域のドット配列（カモフラージュド潜像部基本パターン）等を例示した説明図である。 カモフラージュパターンおよびカモフラージュド潜像部基本パターン等の他の例を示す説明図である。 背景部基本パターンとカモフラージュパターンとの論理積によりカモフラージュド背景部基本パターンを生成する過程を示す説明図である。 地紋印刷設定画面の一例を示す正面図である。 地紋印刷を行う画像形成装置の動作を示す流れ図である。 地紋印刷におけるデータフローを示す説明図である。

以下、図面に基づき本発明の実施の形態を説明する。

図１は、本発明の実施の形態に係る地紋画像生成方法によって地紋画像を生成する画像処理装置としての機能を備えた画像形成装置の概略構成を示している。画像形成装置１０は、原稿を光学的に読み取ってその複製画像を記録紙に印刷する複写機能、読み取った原稿の画像データをファイルにして保存したり外部端末へネットワークを通じて送信したりするスキャン機能、外部端末からネットワークを通じて受信した印刷データに係る画像を記録紙上に形成して印刷出力するＰＣプリント機能などを備えた装置（所謂、複合機）である。

また、原稿の複写やＰＣプリントを行うに際して、複写対象あるいは印刷対象の画像や文字等の背景に、地紋画像を合成して印刷する地紋印刷の機能を備えている。また、地紋印刷において、カモフラージュパターンを合成した地紋画像とするか、カモフラージュパターンを合成しない地紋画像とするかを選択可能になっている。

画像形成装置１０は、当該画像形成装置１０の動作を統括制御する制御部としてのＣＰＵ（Central Processing Unit）１１を備えている。ＣＰＵ１１には、バス１２を通じて画像読取部１３と、印刷部１４と、ＲＯＭ（Read Only Memory）１５と、ＲＡＭ（Random Access Memory）１６と、不揮発メモリ１７と、表示部１８と、操作部１９と、画像処理部２１と、ネットワークＩ／Ｆ部２２と、ハードディスク装置（ＨＤＤ）２３とが接続されている。

ＲＯＭ１５には各種のプログラムが格納されており、これらのプログラムに従ってＣＰＵ１１が処理を実行することにより画像形成装置１０としての各機能（地紋画像を生成する画像処理装置としての機能を含む）が実現される。ＲＡＭ１６はＣＰＵ１１がプログラムを実行する際に各種のデータを一時的に格納するワークメモリや画像データを格納する画像メモリなどとして使用される。

画像読取部１３は、原稿を光学的に読み取って画像データを取得する機能を果たす。画像読取部１３は、たとえば、原稿に光を照射する光源と、その反射光を受けて原稿を幅方向に１ライン分読み取るラインイメージセンサと、ライン単位の読取位置を原稿の長さ方向に順次移動させる移動手段と、原稿からの反射光をラインイメージセンサに導いて結像させるレンズやミラーなどからなる光学経路、ラインイメージセンサの出力するアナログ画像信号をデジタルの画像データに変換する変換部などを備えて構成される。たとえば、画像読取部１３の読み取り解像度は、６００ｄｐｉとなっている。

印刷部１４は、画像データに応じた画像を記録紙に印刷する機能を果たす。ここでは、記録紙の搬送装置と、感光体ドラムと、帯電装置と、レーザーユニットと、現像装置と、転写分離装置と、クリーニング装置と、定着装置とを有し、電子写真プロセスによって画像形成を行う、所謂、カラーレーザープリンタとして構成されている。他の方式のプリンタであっても構わない。たとえば、印刷部１４の出力解像度は、３６００ｄｐｉとなっている。

不揮発メモリ１７には、システム情報、ユーザ情報などが記憶される。

表示部１８は、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ…Liquid Crystal Display）などで構成され、各種の操作画面、設定画面などを表示する機能を果たす。操作部１９は、ユーザからジョブの投入や設定など各種の操作を受け付ける機能を果たす。操作部１９は、表示部１８の画面上に設けられて押下された座標位置を検出するタッチパネルのほかテンキーや文字入力キー、スタートキーなどを備えて構成される。

画像処理部２１は、画像の拡大縮小、回転などの処理のほか、印刷データをイメージデータに変換するラスタライズ処理、画像データの圧縮、伸張処理などを行う。後述する画像合成処理を行うように構成されてもよい。

ネットワークＩ／Ｆ部２２は、ＬＡＮ（Local Area Network）などのネットワークと接続して外部の端末装置やサーバなどと各種のデータを送受信する機能を果たす。

ハードディスク装置２３は、大容量不揮発の記憶装置であり、たとえば、印刷データや画像データの保存に使用される。また、ハードディスク装置２３には、フォントやスタンプ、カモフラージュパターンなど地紋画像の生成に使用される各種のデータやパターンが記憶される。なお、これらを不揮発メモリ１７に記憶する構成としてもよい。

地紋画像は、複写時に再現される潜像領域と複写時に消失する（再現されない）背景領域とで構成されており、背景領域は、分散した小さいドットで描画される。たとえば、３６００ｄｐｉの解像度に対応するドット（小ドットと呼ぶものする。）を、６００ｄｐｉの解像度では再現できない密度で分散配列する。たとえば、３ドット間隔で配列された小ドットを６００ｄｐｉに相当するアパーチャ(たとえば、小ドットを６×６としたサイズの開口)で読み取ると、濃度は、アパーチャ全体にドットがある場合の濃度を１として、４／３６となる。したがって、５０％の閾値で白黒２値にすると、白画素となり、複写時に再現されなくなる。一方、人には、背景領域は４／３６の濃度のグレー領域として観察される。

潜像領域は、複写時に再現されるドットのみ、もしくは複写時に再現されるドットとこれよりも小さいドット（複写時に再現されなくてもよいドット）とを配列して描画される。たとえば、複写時に再現されなくてもよいドットは上記の小ドットとし、複写時に再現されるドット（大ドットと呼ぶものとする。）は、小ドットを５×５の形状で２５ドット集合させたドットとする。大ドットは、６００ｄｐｉのアパーチャで読み取ると濃度は２５／３６となり、５０％を閾値として白黒２値にすると黒画素となり、複写時に再現される。

地紋画像では、潜像領域と背景領域とを人の目で判別できなくするために、それらのマクロ的な濃度（平均濃度）は同一にされる。すなわち、上記の例では、背景領域の平均濃度は４／３６なので、潜像領域では大ドットを十分低密度に配列することになる。たとえば、潜像領域において、６０×６０ドットの領域内に大ドットを１０個の割合で分散配置し、その間に１５０個の小ドットを適宜に配列すれば、平均濃度は４００／３６００となり、背景領域と同一濃度にすることができる。

図２（ａ）、図３(ａ)は、カモフラージュパターン３１（３１Ａ、３１Ｂ）を例示している。図中の白色部分は、カモフラージュパターンの模様部分である。模様部分Ｗは、たとえば、白抜き模様やグレー濃度の模様である。模様部分Ｗは、当該カモフラージュパターンと潜像領域や背景領域と合成した場合に模様部分Ｗの画像がその部分の合成画像となる領域である。模様部分Ｗ以外の部分（図２（ａ）、図３(ａ)における黒色部分）は透過部分Ｂである。透過部分Ｂは、当該カモフラージュパターンと潜像領域や背景領域とを合成した場合にその潜像領域や背景領域の画像がその部分の合成画像となる領域、すなわち、合成相手の潜像領域や背景領域の画像がそのまま現われる領域である。

ここでは、カモフラージュパターン３１の模様部分Ｗは、ドットを打たない、もしくは潜像領域より低密度にドットを打つ部分（あるいは平均濃度が潜像領域より低い部分）となっている。以後の説明では、カモフラージュパターン３１は白抜き模様であり、模様部分Ｗはドットを打たない領域を表すものとする。

背景領域に白抜き模様のカモフラージュパターン３１を合成する場合は、図４に示すように、カモフラージュパターンの合成されない背景領域のドット配列（背景部基本パターン３４と呼ぶものとする。）に対して、カモフラージュパターン３１を重ね合わせ、カモフラージュパターン３１Ｂの模様部分Ｗと重なる部分は「ドット無し」とし、カモフラージュパターン３１の透過部分Ｂと重なる部分は「背景部基本パターンにあったドットをそのまま有効」とする。これにより、カモフラージュパターンの合成された背景部基本パターン（カモフラージュド背景部基本パターン３５と呼ぶものとする。）が形成される。

たとえば、白抜き模様のカモフラージュパターンの画像データとして、模様部分Ｗに対応する箇所は「０」、透過部分Ｂに対応する箇所は［１］としたものを用意する。そして、ドットを打つ部分を「１」、ドットを打たない部分を「０」で表した背景部基本パターンの画像データとカモフラージュパターンの画像データとの積（論理積）をとることで、カモフラージュド背景部基本パターン３５の画像データを生成する。

背景領域では、比較的高い密度で小ドットが配置されるので、論理積をとる手法により、カモフラージュパターン（模様部分Ｗ）の輪郭が明確に表現されたカモフラージュド背景部基本パターン３５を得ることができる。

潜像領域にカモフラージュパターンを合成する場合は、カモフラージュパターンの模様部分Ｗに対応する部分はドット無しとし、透過部分Ｂに対応する部分においては、カモフラージュパターンの輪郭に沿って（言い換えると、模様部分Ｗの輪郭外側に沿って、あるいは、透過部分Ｂの輪郭内側に沿って）ドットを配列する。

たとえば、図２（ｂ）は、同図（ａ）のカモフラージュパターン３１Ａを合成（考慮）した潜像領域のドット配列（カモフラージュド潜像部基本パターン３３Ａ）を示している。図２（ｂ）のカモフラージュド潜像部基本パターン３３Ａでは、カモフラージュパターン３１Ａの透過部分Ｂに、カモフラージュパターン３１の輪郭に沿ってドットを配列している。より詳細には、カモフラージュパターン３１Ａの透過部分Ｂに対応する部分に、カモフラージュパターン３１Ａの輪郭に沿って、複写時に再現されるドットより小さいドット（小ドット）を破線状に配列し、さらにカモフラージュパターン３１Ａの輪郭に沿いかつ輪郭からは少し透過部分Ｂの内側へ離れた位置に、複写時に再現されるドット（大ドット）を配置している。小ドットは、カモフラージュパターン３１Ａの輪郭に接していても、接していなくてもかまわない。なお、大ドットおよび小ドットは、透過部分Ｂに対応する部分におけるカモフラージュド潜像部基本パターンの平均濃度とカモフラージュド背景部基本パターンの平均濃度とが同一になるように配列する。

このように、潜像領域の描画に際して、カモフラージュパターンの輪郭に沿って小ドットおよび大ドットを配列するので、潜像領域においても、カモフラージュパターンの輪郭を明確に表すことができる。

図２（ｃ）、（ｄ）は、カモフラージュパターン３１Ａの輪郭に沿ってドットを配列する処理を行わずに、図４と同様の手法でカモフラージュパターン３１Ａを潜像領域に合成した場合の例を示している。図２（ｃ）は、大ドットと小ドットを縦横の格子状に配列した潜像領域の基本パターンであり、これに対して、図４と同様の手法で、カモフラージュパターン３１Ａを重ね合わせて論理積をとると、図２（ｄ）に示すようなドットパターンとなる。図２（ｄ）では、カモフラージュパターンの輪郭をほとんど認識することはできない。

図３（ｂ）は、同図（ａ）のカモフラージュパターン３１Ｂを合成（考慮）した場合のカモフラージュド潜像部基本パターン３３Ｂを示している。図３（ｂ）では、カモフラージュパターン３１Ｂの透過部分Ｂに、カモフラージュパターン３１Ｂの輪郭に沿って（言い換えると、模様部分Ｗの輪郭外側に沿って、あるいは、透過部分Ｂの輪郭内側に沿って）小ドットおよび大ドットを配列している。より詳細には、カモフラージュパターン３１Ｂの透過部分Ｂに対応する部分に、カモフラージュパターン３１Ｂの輪郭に沿って小ドットを破線状に配列し、さらにカモフラージュパターン３１Ｂの輪郭に沿って大ドットを分散配置している。なお、大ドットおよび小ドットは、透過部分Ｂに対応する部分において、カモフラージュド潜像部基本パターンの平均濃度とカモフラージュド背景部基本パターンの平均濃度とが同一になるように配列してある。

図３（ｂ）のカモフラージュド潜像部基本パターン３３Ｂでは、潜像領域に存在するドットは、カモフラージュパターン３１Ｂの各透過部分Ｂに対して１本の線となっている。これは、カモフラージュパターン３１Ｂの各透過部分Ｂが幅狭の線形状を成しているので、その輪郭内側に沿って小ドットを破線状に配列し、また、輪郭内側に沿って大ドットを適宜の間隔で配列すると、結果的にそれらのドットが１本の線となって配置されたものである。

このように、カモフラージュパターンの輪郭に沿って小ドットおよび大ドットを配列するので、潜像領域においても、カモフラージュパターンの輪郭が明確に表現される。

図３（ｃ）は、カモフラージュパターン３１Ｂの輪郭に沿って小ドットおよび大ドットを配列する処理を行わずに、図４と同様の手法で潜像領域にカモフラージュパターン３１Ｂを合成した場合の例を示している。図３（ｃ）は、格子状に配列した大ドットに対して、図４と同様の手法で、カモフラージュパターン３１Ｂを重ね合わせて論理積をとって得たドットパターンであり、カモフラージュパターン３１Ｂの輪郭をほとんど認識することはできない。

次に、地紋印刷を行う場合における画像形成装置１０の動作の流れを説明する。

図５は、地紋印刷に関する各種の設定をユーザから受け付ける地紋印刷設定画面５０の一例を示している。地紋印刷設定画面５０は、ＣＰＵ１１の制御により表示部１８に表示される。たとえば、所定のメニュー画面において「地紋印刷設定」の選択操作を受けた場合に表示される。

地紋印刷設定画面５０では、地紋印刷を行うか否かの選択、地紋画像に隠れているコピープロテクトパターンなどの文字を、複写物において白抜きにして浮かび上がらせるか、文字浮きにするかの選択、コピープロテクトパターンの文字サイズ、濃度、カモフラージュパターンの種類などの設定操作をユーザから受け付ける。また、コピープロテクトパターンの内容をどのような文字や図柄にするかの設定操作を受け付ける。たとえば、ユーザが事前に登録した登録スタンプ、画像形成装置にプリセットされている定型スタンプ、シリアル番号、部数管理番号等をコピープロテクトパターンの内容として設定する操作を受け付け可能になっている。ＣＰＵ１１は、地紋印刷設定画面５０を通じて地紋印刷に関する各種の設定操作を受け付け、ＯＫボタン５２が押下されると、その時点の設定内容を地紋印刷設定情報としてＲＡＭ１６に保存する。

図６は、地紋印刷を行う場合の画像形成装置１０の動作の流れを示し、図７は、地紋印刷におけるデータフローを示している。なお、本例では、取り扱う画像は白黒２値画像とする。また、特に断らない限り、各パターンの生成、合成等の画像処理はＣＰＵ１１が行うものとするが、一部の特定の処理を画像処理部２１で行う構成としてもよい。

ＣＰＵ１１は、画像読取部１３に対してコピー対象の原稿の読み取りを要求し、その原稿に対応する原稿画像データ６１を入力してＲＡＭ１６に保存する（ステップＳ１０１）。なお、原稿画像データ６１は、パーソナルコンピュータなどの外部端末からネットワークＩ／Ｆ部２２を通じて入力されてもよいし、パーソナルコンピュータなどの外部端末からネットワークＩ／Ｆ部２２を通じて受信した印刷データをＣＰＵ１１でラスタライズして取得してもよい。原稿画像データ６１の取得方法は問わない。

ＣＰＵ１１は、地紋印刷設定画面５０で受け付けた地紋印刷設定情報をＲＡＭ１６から読み出して参照し、地紋印刷の要求が成されているか否かを確認する（ステップＳ１０２）。地紋印刷の要求なしの場合は（ステップＳ１０２；Ｎｏ）、印刷部１４に対して、ステップＳ１０１で取得した原稿画像データ６１の印刷を要求して（ステップＳ１１１）処理を終了する。

地紋印刷の要求がなされている場合は（ステップＳ１０２；Ｙｅｓ）、ＣＰＵ１１は、ＲＡＭ１６に保存されている地紋印刷設定情報に従って、作成すべきコピープロテクトパターンの内容を特定し、そのコピープロテクトパターンに対応する画像データ（地紋パターン６２）を、ハードディスク装置２３に記憶してあるフォントデータやスタンプなどのパターンデータに基づいて作成する（ステップＳ１０３）。地紋パターン６２は、印刷する１ページ分のサイズ（印刷サイズ）の画像データとして作成される。

次に、ＣＰＵ１１は、ＲＡＭ１６に保存されている地紋印刷設定情報に従ってカモフラージュパターンを特定し、これに対応する、カモフラージュド背景部基本パターン３５を作成して、ＲＡＭ１６に保持する（ステップＳ１０４）。

カモフラージュド背景部基本パターン３５の作成方法としては、以下の２方法がある。
（１）あらかじめ用意され、ＲＯＭ１５、またはハードディスク装置２３に保存された、カモフラージュド背景部基本パターンを読み出してＲＡＭ１６に保持する。
（２）あらかじめ用意され、ＲＯＭ１５、またはハードディスク装置２３に保存された背景部基本パターン及びカモフラージュパターンをそれぞれ読み出し、双方の論理積をとってカモフラージュド背景部基本パターンを作成してＲＡＭ１６に保持する（図４に示す方法）。

次にＣＰＵ１１は、背景領域と同じカモフラージュパターンによるカモフラージュド潜像部基本パターン３３を作成してＲＡＭ１６に保持する（ステップＳ１０５）。

なお、カモフラージュド潜像部基本パターン３３の作成方法としては、以下の２方法がある。
（１）あらかじめ用意され、ＲＯＭ１５、またはハードディスク装置２３に保存された、カモフラージュド潜像部基本パターンを読み出してＲＡＭ１６に保持する。
（２）カモフラージュパターン、平均濃度（背景領域と同じ平均濃度）等のパラメータを与えることにより、コンピュータプログラムによりＣＰＵ１１が計算して大小のドットを配置してカモフラージュド潜像部基本パターンを作成する。
なお（１）の方法において予め用意するカモフラージュド潜像部基本パターンは、（２）と同様のプログラムによってコンピュータで作成されてもよいし、手動でカモフラージュパターンを考慮しながら大小のドットを配置する方法で作成されてもよい。

次にＣＰＵ１１は、ステップＳ１０４で作成したカモフラージュド背景部基本パターン３５を印刷サイズ分、タイリングし、印刷サイズと同サイズの背景部パターン６５を作成してＲＡＭ１６に保持する（ステップＳ１０６）。

ＣＰＵ１１は、ステップＳ１０５で作成したカモフラージュド潜像部基本パターン３３を印刷サイズ分、タイリングし、印刷サイズと同サイズの潜像部パターン６６を作成してＲＡＭ１６に保持する（ステップＳ１０７）。

ＣＰＵ１１は、ステップＳ１０３で作成した地紋パターン６２と、ステップＳ１０６で作成した背景部パターン６５とから、地紋パターン考慮済み背景部パターン６７を作成し、ＲＡＭ１６に保持する（ステップＳ１０８）。このとき、地紋（コピープロテクトパターン）を文字浮きとする場合は、地紋パターン６２の反転と、背景部パターン６５の積を地紋パターン考慮済みの背景部パターン６７とし、地紋を白抜きとする場合は、地紋パターン６２と、背景部パターン６５の積を地紋パターン考慮済み背景部パターン６７とする。

ＣＰＵ１１は、ステップＳ１０３で作成した地紋パターン６２と、ステップＳ１０７で作成した潜像部パターン６６とから、地紋パターン考慮済み潜像部パターン６８を作成する（ステップＳ１０９）。このとき、地紋を文字浮きとする場合は、地紋パターン６２と、潜像部パターン６６の積を地紋パターン考慮済み潜像部パターン６８とし、地紋を白抜きとする場合は、地紋パターン６２の反転と、潜像部パターン６６の積を地紋パターン考慮済み潜像部パターン６８とする。なお、このとき、地紋パターン考慮済み背景部パターン６７と地紋パターン考慮済み潜像部パターン６８は、互いに排他となる。

ＣＰＵ１１は、ステップＳ１０１で取得してＲＡＭ１６に保持した原稿画像データ６１、ステップＳ１０８で作成してＲＡＭ１６に保持した地紋パターン考慮済み背景部パターン６７、及び、ステップＳ１０９で作成してＲＡＭ１６に保持した地紋パターン考慮済み潜像部パターン６８を合成（各画像データの和をとる）して印刷画像データ６９を作成する（ステップＳ１１０）。なお、画像合成は、原稿画像データ６１が最上位のレイヤとなり、地紋画像（地紋パターン考慮済み背景部パターン６７および地紋パターン考慮済み潜像部パターン６８）はその背景となるように合成される。

ＣＰＵ１１は、ステップＳ１１０で作成した印刷画像データ６９に対応する画像の印刷を印刷部１４に対して要求して（ステップＳ１１１）処理を終了する。

以上、本発明の実施の形態を図面によって説明してきたが、具体的な構成は実施の形態に示したものに限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲における変更や追加があっても本発明に含まれる。

たとえば、カモフラージュパターンは、図２（ａ）、図３（ａ）に例示したものに限定されない。また、カモフラージュパターンの模様部分Ｗは、白抜き模様に限定されるものではない。カモフラージュパターンの模様部分Ｗは、その輪郭が、背景領域や潜像領域など合成される他の画像の存在によって明確になるような模様であることが好ましい。たとえば、模様部分Ｗを構成するドットがない場合のほか、ドット密度が低い場合（特には、潜像領域のドット密度より低いもの）なども含まれる。また、カモフラージュパターンや潜像領域、背景領域の描画は、白地に黒色のドットを打つ場合に限らず、黒地に白のドットを打つ場合なども含まれ、描画するドットの色は限定されない。

また、図２（ｂ）、図３（ｂ）では、カモフラージュパターンの輪郭に沿って小ドットを破線状に配列したが、実線でもよい。また、大ドットを輪郭に沿って適宜の間隔で配列し、その間に小ドットを配置する、あるいはその間を小ドットによる破線または実線でつなぐ、といった配列でもかまわない。さらには、小ドットを配列せず、大ドットのみをカモフラージュパターンの輪郭に沿って配置するようにしても、カモフラージュパターンの模様部分Ｗの輪郭の明確性は改善される。

大ドット、小ドットのサイズは、実施の形態に例示したものに限定されない。大ドットは複写時に再現されるドットであればよく、また、小ドットは、大ドットより小さいドットであればよい。また、１ドットは、単独のドットでもよいし、より小さい複数ドットの集合体であってもよい。

実施の形態では、画像形成装置１０を例に説明したが、画像読取部１３や印刷部１４などを具備せず、カモフラージュパターンを含む地紋画像を生成し、入力された画像の背景にこれを合成した画像データを生成する画像処理装置として構成されてもよい。また、画像処理装置としての機能は、コンピュータ装置に所定のプログラムを実行させることで実現されてもよく、本発明は該プログラムとされてもよい。

１０…画像形成装置
１１…ＣＰＵ
１２…バス
１３…画像読取部
１４…印刷部
１５…ＲＯＭ
１６…ＲＡＭ
１７…不揮発メモリ
１８…表示部
１９…操作部
２１…画像処理部
２２…ネットワークＩ／Ｆ部
２３…ハードディスク装置
３１、３１Ａ、３１Ｂ…カモフラージュパターン
３３、３３Ａ、３３Ｂ…カモフラージュド潜像部基本パターン
３４…背景部基本パターン
３５…カモフラージュド背景部基本パターン
５０…地紋印刷設定画面
５２…ＯＫボタン
６１…原稿画像データ
６２…地紋パターン
６５…背景部パターン
６６…潜像部パターン
６７…地紋パターン考慮済み背景部パターン
６８…地紋パターン考慮済み潜像部パターン
６９…印刷画像データ
Ｂ…透過部分
Ｗ…模様部分

Claims (7)

1. 複写時に再現される潜像領域と複写時に消失する背景領域とで構成され、かつ、カモフラージュパターンの合成された地紋画像を生成する地紋画像生成方法であって、
   前記潜像領域の描画に際して、カモフラージュパターンの輪郭に沿ってドットを配列する
   ことを特徴とする地紋画像生成方法。
2. 前記潜像領域の描画に際して、複写時に再現されるドットとこれより小さいドットとを配列する
   ことを特徴とする請求項１に記載の地紋画像生成方法。
3. 前記小さいドットにより、前記カモフラージュパターンの輪郭に沿って実線または破線を描画する
   ことを特徴とする請求項２に記載の地紋画像生成方法。
4. 前記カモフラージュパターンは、模様部分と透過部分で構成され、
   前記模様部分は、カモフラージュパターンと他の画像を合成した場合に、当該模様部分の画像がその部分の合成画像となる領域であり、前記透過部分は、カモフラージュパターンと他の画像を合成した場合に前記他の画像がその部分の合成画像となる領域であり、
   前記カモフラージュパターンの前記模様部分はドットを打たない、もしくは潜像領域より低密度にドットを打つ部分である
   ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１つに記載の地紋画像生成方法。
5. カモフラージュパターンが合成済みの潜像領域の画像データを所定の画像サイズ分予め作製して記憶部に記憶しておき、
   前記記憶部に記憶されている前記画像データを繰り返し配列することで、カモフラージュパターンの合成された潜像領域を描画する
   ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１つに記載の地紋画像生成方法。
6. カモフラージュパターンの合成された地紋画像を、請求項１乃至５のいずれか１つに記載の地紋画像生成方法によって生成する画像処理装置。
7. 請求項６に記載の画像処理装置と、
   前記画像処理装置によって生成された地紋画像の上に印刷指示された画像を重ねた画像を生成する画像合成部と、
   前記画像合成部で合成された画像を記録紙上に画像形成して出力する画像形成部と、
   を有する
   ことを特徴とする画像形成装置。