JP2011170134A - 横電界方式の液晶表示装置 - Google Patents
横電界方式の液晶表示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011170134A JP2011170134A JP2010034366A JP2010034366A JP2011170134A JP 2011170134 A JP2011170134 A JP 2011170134A JP 2010034366 A JP2010034366 A JP 2010034366A JP 2010034366 A JP2010034366 A JP 2010034366A JP 2011170134 A JP2011170134 A JP 2011170134A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- display device
- shielding layer
- crystal display
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
光漏れをも抑制した横電界方式の液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶43が封入され、周囲がシール材36で貼り合わされた第1基板11及
び第2基板28と、両基板11、28のシール材36で囲まれた内側に形成された表示領
域37及びその周囲に形成された非表示領域38と、第1基板11に形成された下電極2
2及び上電極24と、第2基板28の表示領域37及び非表示領域38に跨って形成され
た遮光層32とを有するノーマリーブラックモードの横電界方式の液晶表示装置10であ
って、遮光層32は、非表示領域38において、表示領域37を囲むように遮光層非形成
領域32aを有し、上電極24は、平面視で遮光層非形成領域32aの全てと重畳する位
置まで延在されている。
【選択図】 図4
Description
表示不良を抑制し、しかも、バックライトの光漏れをも抑制した横電界方式の液晶表示装
置に関する。
源としてのバックライトを配置し、このバックライトから照射される光を液晶表示装置内
に透過させて、所望の画像や映像を表示させている。このとき、液晶表示装置の表示領域
の周辺である非表示領域(額縁領域ともいう)には、遮光層が形成されているため、バッ
クライトの光漏れを抑制することができる。
端部まで連続的に形成すると、遮光層の端部から浸入した静電気が、遮光層を経て表示領
域まで浸入することがある。特にFFS(Fringe Field Switching)モードないしIPS
(In-Plane Switching)モードで作動する横電界方式の液晶表示装置では、第1基板に液
晶駆動用の一対の電極が形成されており、カラーフィルター基板には液晶駆動用の電極は
形成されていないので、遮光層に侵入した静電気によって表示領域の液晶分子が駆動され
てしまい、表示不良が発生するおそれがある。そのため、遮光層の端部から静電気が浸入
しないようにするために、非表示領域で遮光層を分断することが行われているが、遮光層
を分断するとその部分から光漏れが発生するという課題がある。
トリクスを配置できない部分を偏光板にて遮光する横電界方式の液晶表示装置の発明が開
示されている。すなわち、下記特許文献1に開示されている液晶表示装置では、液晶層を
介して互に対向して配置される透明基板のうち、一方の透明基板の液晶層側の面に画素電
極と共通電極とが備えられ、他方の透明基板上に、樹脂組成物からなるブラックマトリク
スが備えられ、このブラックマトリクスの外周囲の大きさが筐体の開口領域の大きさより
も小さく形成され、対向する透明基板に配置された少なくとも1つの偏光板の大きさが筐
体の開口領域の大きさよりも大きく形成されている。
い部分に偏光板が形成されることにより、バックライトの光漏れは、偏光板で遮光できる
ので、画像表示領域の端部から筐体までの領域におけるバックライトの光漏れを確実に防
止できるとされている。
ようにして偏光板にキズが付かないようにするための構成が複雑となり、しかも、偏光板
と筐体との位置あわせを高精度に行う必要が生じる。
制することも考えられる。しかしながら、画素周辺部には、狭額縁化するために、第1基
板側に金属配線等を配置できない場合がある。特に、液晶表示装置を液晶滴下(ODF:
One Drop Fill)法を用いて製造する場合、光硬化性材料からなるシール材に紫外線を照
射して硬化させる必要がある。この光照射は、第2基板には遮光層が形成されているため
、第1基板側から行う必要があるので、アレイ基板側に光漏れ防止用の遮光膜を形成する
ことは困難となる。
よる表示の不具合を抑制するために、遮光層を非表示領域で分断するという構成を採用し
、しかも、この遮光層の分断された領域からの光漏れを抑制すべく種々検討を重ねてきた
。その結果、遮光層の分断された領域の液晶を常にノーマリーブラックモードで表示させ
ることによって解決できることを見出し、本発明を完成するに至ったものである。すなわ
ち、本発明の目的は、横電界方式の液晶表示装置において、遮光層に帯電する静電気によ
る表示の不具合を抑制し、且つバックライトの光漏れをも抑制した横電界方式の液晶表示
装置を提供することにある。
ール材で貼り合わされている第1基板及び第2基板と、前記第1基板及び前記第2基板の
前記シール材で囲まれた内側に形成された表示領域と、前記表示領域の周囲に形成された
非表示領域と、前記第1基板に絶縁層を挟んで形成された上電極及び下電極と、前記第2
基板の表示領域及び非表示領域に跨って形成された遮光層と、前記第1基板の外部側に配
置されたバックライト光源と、を有し、前記1対の電極間に生じる電界によって前記液晶
が駆動されるノーマリーブラックモードの横電界方式の液晶表示装置であって、前記遮光
層は、前記非表示領域において、前記表示領域を囲むように前記遮光層が形成されていな
い遮光層非形成領域を有し、前記上電極は、平面視で前記遮光層非形成領域の全てと重畳
する位置まで延在されており、共通電極電位に接続されていることを特徴とする。
光層の形成されていない遮光層非形成領域が形成されている。これにより、液晶表示装置
の端部から静電気が遮光層に浸入しても、その静電気は遮光層非形成領域を超えて、更に
遮光層を伝わって表示領域内に浸入することがなくなるので、表示不良の発生が抑制され
る。
する位置まで延在されている。そして、上電極は、共通電極電位に接続されているので、
液晶分子に対して基準電位となるため、上電極に印加されている電位によっては液晶分子
は駆動されない。そのため、本発明の液晶表示装置では、遮光層非形成領においては常時
ノーマリーブラックモードが維持されているので、遮光層非形成領においてバックライト
からの光が外部へ出てくることがなく、周辺領域でもコントラストが良好な横電界方式の
液晶表示装置が得られる。
電極が平面視で互いに重畳するFFSモードの液晶表示装置であっても、平面視で互いに
重畳しないIPSモードの液晶表示装置であっても等しく適用できる。また、本発明にお
ける「平面視」とは、液晶表示装置の表示面側から液晶表示装置を視認した場合の構成を
示す意味で用いられている。
金属を設ける必要がないので、ODF法で製造される液晶表示装置でも遮光層非形成領に
おける光漏れを抑制することができる。
ことが好ましい。
性が高いために、表示画質が外部からの静電気の影響を受け易い。そのため、従来の横電
界方式の液晶表示装置では樹脂製の遮光層が多く使用されている。しかしながら、本発明
の液晶表示装置によれば、第2基板の非表示領域に、表示領域を囲むように遮光層が形成
されていない遮光層非形成領域を形成しているので、遮光層が導電率の高い金属製のもの
であっても、外部から侵入した静電気が表示画質に悪影響を及ぼすことが少なくなる。
畳して位置決めマークが形成されているものとすることができる。
めマークは、遮光層の陰となり見難いものが多い。本発明の液晶表示装置によれば、遮光
層非形成領域に位置する上電極には位置決めマークが形成されている。この位置決めマー
クは、第1基板及び第2基板を貼り合わせる際に遮光層非形成領域を介して視認できるた
め、第1基板及び第2基板の貼り合わせを正確にかつ容易に行うことができる。なお、こ
の位置決めマークは、第1基板及び第2基板の間に液晶が封入されて液晶表示装置が完成
した後には、遮光層非形成領域では光が透過しないため、液晶表示装置の使用時に使用者
に視認されるおそれはない。
ることが好ましい。
本発明の効果がより良好に奏されるようになる。
スイッチング素子の電極と同材料で形成されていることが好ましい。
ば、下電極の駆動用スイッチング素子の電極と同時に形成できるので、別途位置決めマー
ク形成用の工程及び材料を用いる必要がなくなる。そのため、本発明の液晶表示装置によ
れば、特に製造工数を増加させることなく、位置決めマークを形成することができるよう
になる。なお、下電極の駆動用スイッチング素子としては、一般的には薄膜トランジスタ
ー(TFT:Thin Film Transistor)が採用されているが、この場合には位置決めマーク
をゲート電極又はソース電極と同じ材料で形成すればよい。
説明する。ただし、以下に示す実施形態は、本発明の電気光学装置の技術思想を具体化す
るために横電界方式のFFSモードの液晶表示装置を例にとって説明するものであって、
本発明をこの実施形態に記載されたFFSモードの液晶表示装置に特定することを意図す
るものではなく、本発明は特許請求の範囲に含まれるその他の実施形態のものにも等しく
適応し得るものである。なお、この明細書における説明のために用いられた各図面におい
ては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮
尺を異ならせて表示しており、必ずしも実際の寸法に比例して表示されているものではな
い。
まず、図1を参照して、実施形態1の液晶表示装置10の構成について説明する。図1
に示すように、実施形態1の液晶表示装置10は、ガラス等からなる第1透明基板12上
に各種配線等を形成したアレイ基板11(本発明の「第1基板」に対応)とガラス等から
なる第2透明基板29上にカラーフィルター層等を形成したカラーフィルター基板28(
本発明の「第2基板」に対応)が対向配置されている。そして、このアレイ基板11とカ
ラーフィルター基板28はシール材36で貼り合わされており、このシール材36で形成
された空間内に液晶43(図3参照)が封入されている。また、シール材36で囲まれた
内側の下電極22及び上電極24が平面視で重畳するように形成されている部分(図2及
び図3参照)が表示領域37となり、その外周側及びシール材36の外周側が非表示領域
38(「額縁領域」とも言う)となっている。なお、シール材で囲まれた内側の表示領域
37及び非表示領域38には液晶43が配置されている。
スの張出した部分が形成されるようにカラーフィルター基板28より若干サイズが大きい
ものが使用されている。この張出した部分は、液晶43を駆動するためのドライバーIC
42等が配置される実装領域12aとなっている。また、実施形態1の液晶表示装置10
では、液晶注入口39がシール材36により形成され、この液晶注入口39を封止材40
で封止した例を示している。
には、第1透明基板12の表面に例えばMo/Alの2層配線からなるゲート電極Gを含
む複数の走査線13が互いに平行になるように形成されている。また、この走査線13が
形成された第1透明基板12の表面全体に亘って窒化ケイ素ないしは酸化ケイ素等の透明
絶縁材料からなるゲート絶縁膜15が被覆されている。さらに、このゲート絶縁膜15の
表面のスイッチング素子としてのTFT20が形成される領域には例えばアモルファスシ
リコン層からなる半導体層16が形成されている。この半導体層16が形成されている位
置の走査線13の領域がTFT20のゲート電極Gを形成する。
らなるソース電極Sを含む信号線14及びドレイン電極Dが形成されている。この信号線
14のソース電極S部分及びドレイン電極D部分は、いずれも半導体層16の表面に部分
的に重なっている。また、このアレイ基板11の表面全体に亘って窒化ケイ素ないしは酸
化ケイ素等の透明絶縁材料からなるパッシベーション膜17が被覆されている。さらに、
このパッシベーション膜17の表面全体に例えば樹脂材料からなる層間膜21が被覆され
ており、ドレイン電極Dに対応する位置のパッシベーション膜17及び層間膜21にはコ
ンタクトホール26が形成されている。
域(以下「画素領域41」という)の層間膜21上に、例えばITO(Indium Thin Oxid
e)ないしIZO(Indium Zinc Oxide)からなる透明導電性材料で下電極22が形成され
ている。この下電極22はコンタクトホール26を介してドレイン電極Dと電気的に接続
されている。そのため、この下電極22は画素電極として作動する。さらに、この下電極
22上には電極間絶縁膜23が形成されている。この電極間絶縁膜23には、例えば窒化
ケイ素等の絶縁性が良好な透明絶縁材料が使用される。
スリット25を有するITOないしIZOからなる透明導電性材料で上電極24が形成さ
れている。そして、この基板の表面全体に亘り所定の配向膜(図示せず)が形成されてい
る。この上電極24は、表示領域37の全体に亘って形成されており、非表示領域38に
おいて共通配線(図示省略)と電気的に接続されている。そのため、上電極24は共通電
極として作動する。この上電極24は、図1及び図4Aに示すように、下電極22に対し
て非表示領域38の方向に延在された上電極延在部24aが形成されている。
明基板29の表面に、アレイ基板11の走査線13、信号線14、TFT20及び非表示
領域38に対応する位置を被覆するように遮光層32が形成されている。この非表示領域
38に形成される遮光層32は、例えばクロム金属製の薄膜によってカラーフィルター基
板28の端部32bまで形成されており、さらに非表示領域38には表示領域37を囲む
ように遮光層32が形成されていない遮光層非形成領域32aが設けられている(図1参
照)。この遮光層非形成領域32aはアレイ基板11に形成された上電極延在部24aと
平面視で重畳される位置に形成されている。なお、遮光層非形成領域32aの詳細な構成
については後述する。
、青の3色からなるカラーフィルター層33が形成されている。さらに、遮光層32及び
、カラーフィルター層33の表面を被覆するように透明樹脂からなるオーバーコート層3
4が形成されている。また、オーバーコート層34の表面には、カラーフィルター基板2
8の表面全体に亘り、配向膜(図示省略)が形成されている。また、アレイ基板11及び
、カラーフィルター基板28の外面には互いにクロスニコル配置された偏光板27、35
がそれぞれ設けられている。そのため、この液晶表示装置10は、ノーマリーブラックモ
ードで作動する。
材36を塗布し貼り合わせを行う。その後、シール材36で形成した液晶注入口39から
液晶43を注入し、液晶注入口39を封止材40で封止し、実装領域12aにドライバー
IC42等を設置することで、実施形態1の液晶表示装置10となる。
領域32aとアレイ基板11に形成された上電極延在部24aの詳細な構成について説明
する。
カラーフィルター基板28の端部32bまで形成されており、また、非表示領域38にお
いて表示領域37を囲むように遮光層32が形成されていない遮光層非形成領域32aが
設けられている。一方、アレイ基板11には、下電極22に比べて非表示領域38の方向
に延在された上電極延在部24aが形成されている。そして、この遮光層非形成領域32
aと上電極延在部24aは、平面視で重畳するように形成されている。
が浸入しても、その静電気は遮光層非形成領域32aを超えて表示領域37内に浸入する
ことがなくなるので、表示不良の発生が抑制される。
32aの全てと重畳する位置まで延在されている。実施形態1の液晶表示装置10では、
上電極24の電位は液晶分子に対して基準電位となるので、上電極24に印加されている
電位によっては液晶分子は駆動されない。そのため、図5に示すように、遮光層非形成領
域32aにおいては常時ノーマリーブラックモードが維持され、黒表示44となっている
ため、図4Bで示す遮光層非形成領域32aから光が外部へ出ていくことがなく、周辺領
域のコントラストが良好な液晶表示装置を得ることができる。
形成した方が、樹脂製の遮光層に比べ薄く形成しても遮光の精度が高いので好ましい。そ
のため、実施形態1の液晶表示装置10であれば、遮光層32を金属製で形成したとして
も、金属製の遮光層32は静電気が表示領域37内に侵入しやすいという課題を、表示領
域37と非表示領域38の遮光層32に遮光層非形成領域32aを形成することにより解
決され、液晶表示装置10の端部の遮光層32から侵入した静電気による表示不良を抑制
することができるようになる。
次に、実施形態2の液晶表示装置10'を、図1〜図3及び図6を参照して説明する。
なお、実施形態2の液晶表示装置10'は、実施形態1の液晶表示装置10に対し、上電
極延在部24aにマークを形成したものであり、実施形態1の液晶表示装置10と共通す
る構成部分には同一の参照符号を付し、それらの詳細な説明は省略する。
1に形成された上電極延在部24aと重畳するように位置決めのマーク45が形成されて
いる。この位置決めのマーク45はカラーフィルター基板28に形成された遮光層非形成
領域32aから視認できる位置に形成されている。なお、位置決めのマーク45は、アレ
イ基板11の表示領域37内に形成されたTFT20のゲート電極G又はソース電極Sの
形成時に同一の材料を用いて同時に形成することができる。
部24aと重畳する位置に形成された位置決めのマーク45をカラーフィルター基板28
に形成された遮光層非形成領域32aから視認することができるため、基板の貼り合わせ
を容易に行うことができ、アレイ基板11とカラーフィルター基板28の貼り合せの精度
を向上させることができる。さらに、この位置決めのマーク45は、アレイ基板11及び
カラーフィルター基板28との間に液晶43が封入され、液晶表示装置10が駆動される
と、この部分は常に黒表示となるため、液晶表示装置10'の使用時に使用者に視認され
るおそれはない。
数形成すると、位置合わせの精度がさらに高くなる。また、実施形態2の液晶表示装置1
0'では、位置決めのマーク45は十字状に形成された場合を示したが、これに限らず位
置合わせの確認ができるような形状であれば、任意の形状を採用できる。
真空注入法で製造される場合について説明したが、これに限らずODF法を用いて製造す
る場合でも適用することができる。光硬化性材料からなるシール材の硬化用の紫外線の照
射はアレイ基板から行われるため、通常はアレイ基板側に遮光層を形成することができな
い。本発明の液晶表示装置では、遮光層非形成領においては、アレイ基板に遮光用の金属
を設けることなく遮光ができるので、ODF法で製造される液晶表示装置でも遮光層非形
成領における光漏れを抑制することができる。
を例に取って説明したが、上電極と下電極との間に絶縁層が形成されていれば、IPSモ
ードの液晶表示装置の場合に対しても等しく適用可能である。更に、実施形態1及び2の
液晶表示装置では、下電極の駆動用スイッチング素子が薄膜トランジスターTFTの場合
について説明したが、これに限らず、2端子素子、例えば薄膜ダイオード等の場合にも適
用可能である。
域 13:走査線 14:信号線 15:ゲート絶縁膜 16:半導体層 17:パッシ
ベーション膜 20:TFT 21:層間膜 22:下電極 23:電極間絶縁膜 24
:上電極 24a:上電極延在部 25:スリット 26:コンタクトホール 27:偏
光板 28:カラーフィルター基板 29:第2透明基板 32:遮光層 32a:遮光
層非形成部 32b:端部 33:カラーフィルター層 34:オーバーコート層 35
:偏光板 36:シール材 37:表示領域 38:非表示領域 39:液晶注入口 4
0:封止材 41:画素領域 42:ドライバーIC 43:液晶 44:黒表示 45
:位置決めのマーク S:ソース電極 D:ドレイン電極 G:ゲート電極
Claims (5)
- 内部に液晶が封入され、周囲がシール材で貼り合わされている第1基板及び第2基板と
、前記第1基板及び前記第2基板の前記シール材で囲まれた内側に形成された表示領域と
、前記表示領域の周囲に形成された非表示領域と、前記第1基板に絶縁層を挟んで形成さ
れた上電極及び下電極と、前記第2基板の表示領域及び非表示領域に跨って形成された遮
光層と、前記第1基板の外部側に配置されたバックライト光源と、を有し、前記1対の電
極間に生じる電界によって前記液晶が駆動されるノーマリーブラックモードの横電界方式
の液晶表示装置であって、
前記遮光層は、前記非表示領域において、前記表示領域を囲むように前記遮光層が形成
されていない遮光層非形成領域を有し、前記上電極は、平面視で前記遮光層非形成領域の
全てと重畳する位置まで延在されており、共通電極電位に接続されていることを特徴とす
る液晶表示装置。 - 前記遮光層は、金属性材料で形成されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶表
示装置。 - 前記遮光層非形成領域に位置する上電極に重畳して位置決めマークが形成されているこ
とを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶表示装置。 - 前記位置決めマークは、複数個形成されていることを特徴とする請求項3に記載の液晶
表示装置。 - 前記位置決めマークは、前記下電極の駆動用スイッチング素子の電極と同材料で形成さ
れていることを特徴とする請求項3に記載の液晶表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010034366A JP5523864B2 (ja) | 2010-02-19 | 2010-02-19 | 液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010034366A JP5523864B2 (ja) | 2010-02-19 | 2010-02-19 | 液晶表示装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014080234A Division JP5879384B2 (ja) | 2014-04-09 | 2014-04-09 | 液晶表示装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011170134A true JP2011170134A (ja) | 2011-09-01 |
JP5523864B2 JP5523864B2 (ja) | 2014-06-18 |
Family
ID=44684328
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010034366A Active JP5523864B2 (ja) | 2010-02-19 | 2010-02-19 | 液晶表示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5523864B2 (ja) |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013195815A (ja) * | 2012-03-21 | 2013-09-30 | Japan Display West Co Ltd | 表示装置、製造方法、電子機器 |
WO2013146567A1 (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-03 | シャープ株式会社 | 液晶表示パネル |
CN104330917A (zh) * | 2014-11-26 | 2015-02-04 | 重庆京东方光电科技有限公司 | 一种彩膜基板及显示装置 |
US9086588B2 (en) | 2012-10-01 | 2015-07-21 | Japan Display Inc. | Liquid crystal display device and method of manufacturing the same |
JP2016126341A (ja) * | 2014-12-29 | 2016-07-11 | エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド | 液晶表示装置及びその製造方法 |
US9395589B2 (en) | 2012-03-20 | 2016-07-19 | Apple Inc. | Electronic device with inverted liquid crystal display |
US9703153B2 (en) | 2014-07-18 | 2017-07-11 | Mitsubishi Electric Corporation | Liquid crystal display |
US10031367B2 (en) | 2012-09-27 | 2018-07-24 | Apple Inc. | Display with inverted thin-film-transistor layer |
JP2019057610A (ja) * | 2017-09-21 | 2019-04-11 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 電子部品の実装装置および表示用部材の製造方法 |
WO2019210629A1 (en) * | 2018-05-03 | 2019-11-07 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Display substrate and display apparatus |
JP2020140039A (ja) * | 2019-02-27 | 2020-09-03 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示装置 |
CN113219698A (zh) * | 2021-04-21 | 2021-08-06 | 惠科股份有限公司 | 一种彩膜基板和显示面板 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1039335A (ja) * | 1996-07-25 | 1998-02-13 | Seiko Epson Corp | 液晶装置 |
JPH10123549A (ja) * | 1996-10-25 | 1998-05-15 | Sharp Corp | 液晶表示素子 |
JP2003021843A (ja) * | 2001-07-10 | 2003-01-24 | Hitachi Ltd | 液晶表示装置 |
JP2006338025A (ja) * | 2005-06-02 | 2006-12-14 | Lg Phillips Lcd Co Ltd | 液晶表示素子 |
-
2010
- 2010-02-19 JP JP2010034366A patent/JP5523864B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1039335A (ja) * | 1996-07-25 | 1998-02-13 | Seiko Epson Corp | 液晶装置 |
JPH10123549A (ja) * | 1996-10-25 | 1998-05-15 | Sharp Corp | 液晶表示素子 |
JP2003021843A (ja) * | 2001-07-10 | 2003-01-24 | Hitachi Ltd | 液晶表示装置 |
JP2006338025A (ja) * | 2005-06-02 | 2006-12-14 | Lg Phillips Lcd Co Ltd | 液晶表示素子 |
Cited By (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9395589B2 (en) | 2012-03-20 | 2016-07-19 | Apple Inc. | Electronic device with inverted liquid crystal display |
US10101623B2 (en) | 2012-03-21 | 2018-10-16 | Japan Display Inc. | Display device, method of manufacturing the same, and electronic device |
CN107300801A (zh) * | 2012-03-21 | 2017-10-27 | 株式会社日本显示器 | 显示装置、其制造方法以及电子设备 |
US11156886B2 (en) | 2012-03-21 | 2021-10-26 | Japan Display Inc. | Display device, method of manufacturing the same, and electronic device |
JP2013195815A (ja) * | 2012-03-21 | 2013-09-30 | Japan Display West Co Ltd | 表示装置、製造方法、電子機器 |
US9500897B2 (en) | 2012-03-21 | 2016-11-22 | Japan Display Inc. | Display device, method of manufacturing the same, and electronic device |
US8934073B2 (en) | 2012-03-21 | 2015-01-13 | Japan Display West Inc. | Display device, method of manufacturing the same, and electronic device |
JPWO2013146567A1 (ja) * | 2012-03-30 | 2015-12-14 | シャープ株式会社 | 液晶表示パネル |
WO2013146567A1 (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-03 | シャープ株式会社 | 液晶表示パネル |
US10031367B2 (en) | 2012-09-27 | 2018-07-24 | Apple Inc. | Display with inverted thin-film-transistor layer |
US9086588B2 (en) | 2012-10-01 | 2015-07-21 | Japan Display Inc. | Liquid crystal display device and method of manufacturing the same |
US9703153B2 (en) | 2014-07-18 | 2017-07-11 | Mitsubishi Electric Corporation | Liquid crystal display |
US9880433B2 (en) | 2014-11-26 | 2018-01-30 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Color filter substrate and display device |
CN104330917B (zh) * | 2014-11-26 | 2017-05-10 | 重庆京东方光电科技有限公司 | 一种彩膜基板及显示装置 |
CN104330917A (zh) * | 2014-11-26 | 2015-02-04 | 重庆京东方光电科技有限公司 | 一种彩膜基板及显示装置 |
JP2016126341A (ja) * | 2014-12-29 | 2016-07-11 | エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド | 液晶表示装置及びその製造方法 |
TWI697107B (zh) * | 2014-12-29 | 2020-06-21 | 南韓商Lg顯示器股份有限公司 | 液晶顯示裝置及其製造方法 |
US10197841B2 (en) | 2014-12-29 | 2019-02-05 | Lg Display Co., Ltd. | Liquid crystal display device and method of manufacturing the same |
JP2019057610A (ja) * | 2017-09-21 | 2019-04-11 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 電子部品の実装装置および表示用部材の製造方法 |
US10871673B2 (en) | 2018-05-03 | 2020-12-22 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Display substrate and display apparatus |
WO2019210629A1 (en) * | 2018-05-03 | 2019-11-07 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Display substrate and display apparatus |
CN111624803B (zh) * | 2019-02-27 | 2023-04-28 | 株式会社日本显示器 | 显示装置 |
CN111624803A (zh) * | 2019-02-27 | 2020-09-04 | 株式会社日本显示器 | 显示装置 |
US11573447B2 (en) | 2019-02-27 | 2023-02-07 | Japan Display Inc. | Display device |
JP7237649B2 (ja) | 2019-02-27 | 2023-03-13 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示装置 |
JP2020140039A (ja) * | 2019-02-27 | 2020-09-03 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示装置 |
US11789304B2 (en) | 2019-02-27 | 2023-10-17 | Japan Display Inc. | Display device |
CN113219698A (zh) * | 2021-04-21 | 2021-08-06 | 惠科股份有限公司 | 一种彩膜基板和显示面板 |
CN113219698B (zh) * | 2021-04-21 | 2023-11-24 | 惠科股份有限公司 | 一种彩膜基板和显示面板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5523864B2 (ja) | 2014-06-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5523864B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
US10134906B2 (en) | Display device | |
US9507199B2 (en) | Liquid crystal display device | |
US9274366B2 (en) | Display device | |
JP2011186279A (ja) | 液晶表示パネル | |
US10197842B2 (en) | Liquid crystal display device | |
JP2010054980A (ja) | 液晶表示装置 | |
US9733532B2 (en) | Display device and method of manufacturing thin film transistor | |
JP5736895B2 (ja) | 横電界方式の液晶表示装置 | |
JP6436666B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
JP5429776B2 (ja) | 液晶表示パネル | |
WO2017024708A1 (zh) | 显示基板及其制作方法、显示器件 | |
JP5681269B2 (ja) | 液晶表示パネル | |
JP5879384B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
JP2009193051A (ja) | 横電界方式の液晶表示装置 | |
KR101983214B1 (ko) | 씨오티 구조 액정표시장치 | |
JP2009069806A (ja) | 液晶表示パネル、液晶表示パネルを備えた電子機器、及び液晶表示パネルの製造方法 | |
JP5247615B2 (ja) | 横電界方式の液晶表示装置 | |
JP2010266711A (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
JP5769989B2 (ja) | 表示装置 | |
JP5403539B2 (ja) | 横電界方式の液晶表示装置 | |
JP5207947B2 (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
JP2009169162A (ja) | 液晶表示装置 | |
JP2014026200A (ja) | 液晶表示装置 | |
JP5800070B2 (ja) | アレイ基板、および液晶表示装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20120330 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130111 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130619 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130709 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130808 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130905 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20130905 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140311 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140409 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5523864 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |