JP2011168487A - 単結晶ダイヤモンド - Google Patents
単結晶ダイヤモンド Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011168487A JP2011168487A JP2011089248A JP2011089248A JP2011168487A JP 2011168487 A JP2011168487 A JP 2011168487A JP 2011089248 A JP2011089248 A JP 2011089248A JP 2011089248 A JP2011089248 A JP 2011089248A JP 2011168487 A JP2011168487 A JP 2011168487A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diamond
- diamond plate
- length dimension
- plate
- growth
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000010432 diamond Substances 0.000 title claims abstract description 191
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 182
- 239000013078 crystal Substances 0.000 title claims abstract description 51
- 230000012010 growth Effects 0.000 claims abstract description 123
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 87
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims abstract description 54
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 6
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 52
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 13
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 14
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 6
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 238000004854 X-ray topography Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 3
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 208000012868 Overgrowth Diseases 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- 238000009966 trimming Methods 0.000 description 2
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 239000006225 natural substrate Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/02—Elements
- C30B29/04—Diamond
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B25/00—Single-crystal growth by chemical reaction of reactive gases, e.g. chemical vapour-deposition growth
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B25/00—Single-crystal growth by chemical reaction of reactive gases, e.g. chemical vapour-deposition growth
- C30B25/02—Epitaxial-layer growth
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B25/00—Single-crystal growth by chemical reaction of reactive gases, e.g. chemical vapour-deposition growth
- C30B25/02—Epitaxial-layer growth
- C30B25/18—Epitaxial-layer growth characterised by the substrate
- C30B25/20—Epitaxial-layer growth characterised by the substrate the substrate being of the same materials as the epitaxial layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B33/00—After-treatment of single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
【解決手段】化学蒸着によりダイヤモンド基体上にホモエピタキシャル成長したダイヤモンドを、ダイヤモンド成長が起こった基体の表面を横切って切り離すことにより得られる単結晶ダイヤモンドプレートであって、それの向かい合う側に主表面を有し且つそれら主表面と交差する転位を有している該ダイヤモンドプレートにおいて、主表面と交差する前記転位の密度が、50/mm2を超えておらず、そして、少なくとも1つの長さ寸法が10mmを超えている
【選択図】なし
Description
本発明は、単結晶ダイヤモンドに関する。
ダイヤモンドの多くの用途において、入手可能なダイヤモンドの制限されている横方向寸法は、実質的制限がある。多結晶の化学蒸着によるダイヤモンド層は、多結晶構造が用途に適している場合の用途に対するこの問題を実質的に取り除いた。しかし、多くの用途において、多結晶ダイヤモンドは適切でない。
通常入手することのできる(001)基体は、{100}エッジによって範囲が定められる場合、約7mm2以下の範囲であり、{100}エッジ及び{110}エッジによって範囲が定められる場合、主表面を横切って、約8.5mm以下の範囲である。
ホモエピタキシャル成長に対する代替案は、ヘテロエピタキシャル成長であり、ヘテロエピタキシャル成長において、非ダイヤモンド基体が、エピタキシャル関係によって成長する。しかし、報告されている全てのケースにおいて、このプロセスの生成物は、ホモエピタキシャル成長のものとは全く異なっており、高度に配向しているが正確には配向していない領域(domain)の間に小さい角度の境界を有している。これら境界によって、ダイヤモンドの諸特性は著しく低下する。
もし、ダイヤモンドプレート上に理想的なホモエピタキシャル成長を達成することが可能であるならば、達成された該ホモエピタキシャル成長は、実質的に添付図面の図1及び図2に例示されるものである。例示されるその成長形態は、競合する多結晶ダイヤモンド成長が全く存在しないものと考えられる。しかし、実際には、一般に多結晶成長による競合は存在し、その多結晶成長は、表面であってそれに接してダイヤモンド基体のプレートが置かれている該表面から成長する。このことは、添付図面の図3に例示する。
多結晶ダイヤモンドが単結晶ダイヤモンドと競合しない成長条件下では、ダイヤモンド基体のエッジに存在している異なる形状及び作業条件が多結晶成長を抑制するのに用いられる方法によって悪化される結果として、横方向の単結晶成長の質が、概して乏しくなるという問題が依然として残る。
本発明による、単結晶ダイヤモンドのプレートを製造する方法は、実質的に表面欠陥のない表面を有するダイヤモンド基体を与える工程;化学蒸着(CVD)によって、前記表面上にホモエピタキシャル成長によりダイヤモンドを成長させる工程;及び、化学蒸着によってホモエピタキシャル成長した前記ダイヤモンドと、ダイヤモンド成長が生じた前記基体の表面を、典型的には該基体表面に垂直に(即ち、90°又は約90°で)、横切る前記基体とを切り離して、化学蒸着による単結晶ダイヤモンドのプレートを製造する工程と;を包含する。
その場合、本方法によって製造された、化学蒸着による単結晶ダイヤモンドのプレートはそれ自体、本発明の方法における基体として使用することができる。化学蒸着による厚い単結晶ダイヤモンドは、該ダイヤモンドプレートの主表面の上にホモエピタキシャル的に成長させることができる。
次に、添付図面を参照しながら本発明の具体例を記述する。図4に関し、ダイヤモンドプレート30が与えられている。ダイヤモンドプレート30は、単結晶ダイヤモンドのプレートである。上部表面32は(001)面であり、側表面34は{010}面である。表面32には、実質的に表面欠陥がない;より詳しく言えば、WO(国際公開)01/96634号明細書に記載されているような結晶欠陥が実質的にない。
WO01/96634号明細書に記載の方法によると、ダイヤモンド成長36は、ダイヤモンド基体30の上に起こる。このダイヤモンド成長は、上部表面32の上に垂直に;基体30の角38から外に向かって;また、側表面34から外に向かって;起こる。このダイヤモンド成長は通常、高品質のホモエピタキシャル単結晶であるとは言え、先に記述したように、{111}上には転位及び双晶が存在することがある。
表面に接して基体が置かれている該表面の上には、ある種の多結晶ダイヤモンド成長が生じる。この多結晶ダイヤモンド成長は、ダイヤモンド成長領域36の厚さにもよるが、この領域の下部表面40と接触する。
ひとたび所望の厚さのダイヤモンド成長36が生じてしまえば、ダイヤモンド成長領域36及び基体30は、線44によって例示されるように、表面32に対して垂直に(約90°で)切り離す。このことによって、高品質の単結晶ダイヤモンドのプレート46が製造される。元の基体とダイヤモンド成長の間の界面は、実際的には、その試料のバルクから見分けがつかない。元の基体材料は、プレート46の一部分を成すこともあり、又はそれから取り除くこともある。1枚より多いプレートであって、各々のプレートが次のプレートに平行であり、基体に対して垂直であるそれらプレートを製造することができる。
板46は、本発明の方法のための基体として用いることができる。従って、板46が、長さが10mmより大きい側表面48を有し、しかも、厚さが10mmを超えるダイヤモンド成長が、該プレートの主表面50の上に造られている場合、方形、矩形又は類似形状のプレートであって、4つの側表面全てが長さが10mmを超えている該プレートを造ることが可能である。
更に、図4の切り離し面44に対して直角である面であって、{100}主表面を有するプレートともなる該面;又は、切り離し面44に対して他のあらゆる角度である面であって、タイプ{hko}の主表面を有するプレートとなる該面;に沿って切り離すことが可能である。単結晶ダイヤモンドプレートを得るためには、エッジにおける多結晶成長又は欠陥成長に対するある種のトリミングを行う必要がある場合もある。
1)最も簡単なケースは、全ての転位が、概ね平行に且つ成長方向に成長し、該成長方向を非常に明らかにしているケースである。
2)もう1つの一般的ケースは、転位が、成長方向の周りに扇形に徐々に広がり、通常、該成長方向の周りに、この軸の周りに典型的には20°未満、より典型的には15°未満、更にいっそう典型的には10°未満、最も典型的には5°未満の角度で対称の形を示しているケースである。また、化学蒸着によるダイヤモンド層の小さい領域からの成長方向は、それら転位から容易に決定される。
3)ときどき、成長面はそれ自体、局部的成長方向に対して直角であるのではなく、これから幾らか小さい角度だけ離れている。そのような状況下、転位は、それらが見出だされる成長領域の基体表面に対して直角な方向に向かって偏ることがある。とりわけ、エッジ近辺において、成長方向は、例えば、{001}成長主表面を有する基体の上の{101}エッジ面において、層のバルク(bulk)と実質的に異なることがある。これら両方の例において、基体全体を考慮すれば、全般的成長方向は、転位構造から非常に明らかであるが、材料が2以上の成長セクターから形成されることは同等に明らかである。従って、それら転位の方向が重要である用途においては、1つだけの成長セクターからの材料を用いることが一般的には望ましい。
もう1つの用途は、レーザー窓に関する用途であって、そこで転位に平行に進む光線の影響によって、局部的電界が高められて、破損することもあり得る該用途である。これは、転位方向を光線の方向から偏らせるか、又は、好ましくは、転位方向をレーザー窓の主表面に平行に設定する、ことによって制御することができる。このように、レーザーの最大損失限界は、本発明の方法を実施することによって達成することができる。
(実施例1)
WO01/96633号明細書に記載されている方法に従って、化学蒸着によるダイヤモンド成長を行うために、2つの{001}合成ダイヤモンド基体を造った。次いで、これらダイヤモンド基体の上に、層を6.7mmの厚さまで成長させた。それら層は、それらの転位方向について特徴付けを行って、X線トポグラフィによって認識できる転位の90%を超えるものは成長方向の20°以内にあり、また、転位の80%を超えるものは成長方向の10°以内にあることが分かった。
次いで、化学蒸着によるダイヤモンド成長の第2の段階のために、1枚のプレートを用いた。そのプレートは、WO01/96633号明細書に記載されている方法に従って造り、このようにして、4mmを超える厚さの第2の層であって、主表面に成長方向を含むように切断される4×4mmのプレートを造るのに適している該第2の層を生成した。次いで、この層は、小平面を造り、暴露プラズマエッチング(revealing plasma etch)の方法を用いることによって、成長方向における該層の転位密度について特徴付けを行った。そうすることによって、転位密度は非常に小さく、10/mm2の範囲にあることが分かった。
光学的用途における重要なパラメータは、例えば、複屈折性及び屈折率のような特性値の均一性及び拡散性である。これらの特性は、転位群を取り囲む歪み場(strain fields)によって影響を受ける。
WO01/96633号明細書に記載される方法に従って、化学蒸着によるダイヤモンド成長を行うために、2つの{001}合成ダイヤモンド基体を造った。このダイヤモンドの上に、層を4mmの厚さまで成長させた。それら層は、転位方向について特徴付けを行って、平均転位方向は成長方向の15°以内にあることが分かった。これら層から2枚のプレートを切り取ったが、それは、それらプレートの主表面が>4×4mmの寸法を有し、しかも、成長方向がそれら主表面の平面に存在するようなやり方で行った。
WO01/96633号明細書に記載される方法に従って、化学蒸着によるダイヤモンド成長を行うために、1つの合成ダイヤモンド基体を造った。次いで、このダイヤモンドの上に、層を4mmの厚さまで成長させた。その合成条件は、この層が、固体中で測定して、7×1016[B]原子/cm3の濃度までホウ素でドーピングされるような条件であった。該層は、それの転位方向について特徴付けを行って、平均転位方向は成長方向の25°以内にあることが分かった。この層から2枚のプレートを切り取った。それは、それらプレートの主表面が>4×4mmの寸法を有し、しかも、成長方向がそれら主表面の平面に存在するようなやり方で行った。
これらプレートは、主表面と交わる転位の密度が、ホウ素によるドーピングと組み合されて低いので、例えば、ダイヤモンドの金属半導体接合電界効果トランジスタ(MESFET)のような電子デバイスのための基板としての特殊用途を有した。
WO01/96633号明細書に記載される方法を用いて、合成による6×6mmの基体1bを造った。次いで、この基体は、複数の段階で成長させ、典型的には、各々の段階で約3mmの成長を加えながら成長させた。各々の段階の終わりに、層は、該層の周辺に成長した多結晶ダイヤモンド層の中に保持され、この多結晶層は、レーザートリミングを用いてトリミングを行い直径約25mmのディスクにした。次いで、凹みタングステン又は他の金属のディスクの中に取り付けたが、それは、単結晶が多結晶ダイヤモンド層の上にさらされている地点が、該タングステンディスクの上面の(0.3mm以内まで)ほぼ均一となるようなやり方で行った。
これらの板は、次いで、再び上記の技術を用いながら、基体として作成して、成長の第2の段階のために用い、10〜18mmの厚さの層を生成した。これらの層から、主表面内の<100>の第2の寸法が10〜18mmより大きく、しかも、10〜18mmの範囲の、第1の<100>の寸法を保持している該垂直プレートを切り取ることができた。例えば、直交する方向<100>で寸法を測定したとき、15mm×12mmより大きいプレートを作成した。
Claims (41)
- 単結晶ダイヤモンドプレートを製造する方法であって、実質的に表面欠陥のない表面を有するダイヤモンド基体を与える工程;化学蒸着(CVD)によって、前記表面上にホモエピタキシャルにダイヤモンドを成長させる工程;及び、化学蒸着によってホモエピタキシャル成長した前記ダイヤモンドと、単結晶のCVDダイヤモンドプレートを製造するために、ダイヤモンド成長が生じた前記基体の表面を横切る前記基体を切り離す工程と;を包含する、上記製造方法。
- 化学蒸着によってホモエピタキシャル成長した前記ダイヤモンドと前記基体が、前記基体の表面に対して垂直に切り離される、請求項1に記載の方法。
- 化学蒸着によってホモエピタキシャル成長した前記ダイヤモンドの成長厚さは、約10mmより大きい、請求項1又は2に記載の方法。
- 化学蒸着によってホモエピタキシャル成長した前記ダイヤモンドの成長厚さは、約12mmより大きい、請求項3に記載の方法。
- 化学蒸着によってホモエピタキシャル成長した前記ダイヤモンドの成長厚さは、約15mmより大きい、請求項4に記載の方法。
- 化学蒸着による単結晶ダイヤモンドプレートは、10mmを超える少なくとも1つの長さ寸法を有する、請求項1〜5のいずれか1項に記載の方法。
- ダイヤモンド基体は、請求項1〜6のいずれか1項に記載の方法によって製造された、化学蒸着による単結晶ダイヤモンドプレートである、請求項1〜6のいずれか1項に記載の方法。
- 化学蒸着による単結晶ダイヤモンドプレートに残存している前記の元の基体は除去される、請求項1〜7のいずれか1項に記載の方法。
- 化学蒸着による単結晶ダイヤモンドプレートは、矩形、方形、平行四辺形又は類似形状を有する、請求項1〜8のいずれか1項に記載の方法。
- 化学蒸着による(001)単結晶ダイヤモンドプレートにおいて、それの向かい合う側に、{100}側表面によって範囲が定められる主表面を有する前記ダイヤモンドプレートであって、各々の主表面が、10mmを超える少なくとも1つの長さ寸法を有している、上記ダイヤモンドプレート。
- 少なくとも1つの長さ寸法が12mmを超えている、請求項10に記載のダイヤモンドプレート。
- 少なくとも1つの長さ寸法が15mmを超えている、請求項11に記載のダイヤモンドプレート。
- 10mmを超える第1の長さ寸法及び第2の長さ寸法を有している、請求項10に記載のダイヤモンドプレート。
- 第1の長さ寸法及び/又は第2の長さ寸法が12mmを超えている、請求項13に記載のダイヤモンドプレート。
- 第1の長さ寸法及び/又は第2の長さ寸法が15mmを超えている、請求項14に記載のダイヤモンドプレート。
- ダイヤモンドプレートは、{100}側表面によって範囲が定められている、矩形を有する(001)単結晶ダイヤモンドプレートであり;しかも、少なくとも1つの長さ寸法が、軸寸法、横方向寸法又は横方向エッジ寸法である、請求項10〜15のいずれか1項に記載のダイヤモンドプレート。
- 少なくとも1つの長さ寸法が、{100}側表面と主表面の交差によって形成された<100>エッジである、請求項10〜16のいずれか1項に記載のダイヤモンドプレート。
- 第1の長さ寸法及び第2の長さ寸法が、各々の{100}側表面と主表面の交差によって形成された直交<100>エッジである、請求項13〜16のいずれか1項に記載のダイヤモンドプレート。
- ダイヤモンドプレートが、矩形、方形、平行四辺形又は類似形状を有している、請求項10〜18のいずれか1項に記載のダイヤモンドプレート。
- 化学蒸着による単結晶ダイヤモンドプレートであって、それの向かい合う側に主表面を有し且つそれら主表面と交差する転位を有している該ダイヤモンドプレートにおいて、主表面と交差する前記転位の密度が、50/mm2を超えていない、上記ダイヤモンドプレート。
- 主表面と交差する転位の密度が、20/mm2を超えていない、請求項20に記載のダイヤモンドプレート。
- 主表面と交差する転位の密度が、10/mm2を超えていない、請求項21に記載のダイヤモンドプレート。
- 主表面と交差する転位の密度が、5/mm2を超えていない、請求項22に記載のダイヤモンドプレート。
- ダイヤモンドプレートにおける他の平面と交差する転位の密度が、主表面と交差する転位の各々の密度限界を超えていない、請求項20〜23のいずれか1項に記載のダイヤモンドプレート。
- 少なくとも1つの長さ寸法が10mmを超えている、請求項20〜24のいずれか1項に記載のダイヤモンドプレート。
- 化学蒸着による単結晶ダイヤモンドプレートであって、それの向かい合う側に主表面を有し且つ成長の間に生じた転位を有している前記ダイヤモンドプレートにおいて、それら転位が、前記主表面の少なくとも1つに概して平行な方向に配列している、上記ダイヤモンドプレート。
- 転位の方向が、主表面の少なくとも1つに対して30°より小さい角度である、請求項26に記載のダイヤモンドプレート。
- 転位の方向が、主表面の少なくとも1つに対して20°より小さい角度である、請求項27に記載のダイヤモンドプレート。
- 転位の方向が、主表面の少なくとも1つに対して10°より小さい角度である、請求項28に記載のダイヤモンドプレート。
- 転位の方向が、主表面の少なくとも1つに対して5°より小さい角度である、請求項29に記載のダイヤモンドプレート。
- 各々の主表面が、転位の全般的方向の方向に対応する第1の長さ寸法であって、2mmを超える前記長さ寸法を有している、請求項26〜30のいずれか1項に記載のダイヤモンドプレート。
- 第1の長さ寸法が3mmを超えている、請求項31に記載のダイヤモンドプレート。
- 第1の長さ寸法が4mmを超えている、請求項32に記載のダイヤモンドプレート。
- 第1の長さ寸法が5mmを超えている、請求項33に記載のダイヤモンドプレート。
- 第1の長さ寸法が7mmを超えている、請求項34に記載のダイヤモンドプレート。
- 第1の長さ寸法に直交する各々の主表面の第2の長さ寸法が、第1の長さ寸法に等しいか又はそれより大きい、請求項31〜35のいずれか1項に記載のダイヤモンドプレート。
- 化学蒸着による単結晶ダイヤモンドプレートであって、それの向かい合う側に主表面を有し且つ成長の間に生じた転位を有している前記ダイヤモンドプレートにおいて、平均的な転位方向が、前記主表面の少なくとも1つに対して垂直な線から偏っている方向を向いている、上記ダイヤモンドプレート。
- 平均的な転位方向が、主表面の少なくとも1つに対して垂直な線から、20°を超える角度だけ偏っている、請求項37に記載のダイヤモンドプレート。
- 平均的な転位方向が、主表面の少なくとも1つに対して垂直な線から、30°を超える角度だけ偏っている、請求項38に記載のダイヤモンドプレート。
- 平均的な転位方向が、主表面の少なくとも1つに対して垂直な線から、40°を超える角度だけ偏っている、請求項39に記載のダイヤモンドプレート。
- 平均的な転位方向が、主表面の少なくとも1つに対して垂直な線から、50°を超える角度だけ偏っている、請求項40に記載のダイヤモンドプレート。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GBGB0221949.1A GB0221949D0 (en) | 2002-09-20 | 2002-09-20 | Single crystal diamond |
GB0221949.1 | 2002-09-20 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004537433A Division JP4949627B2 (ja) | 2002-09-20 | 2003-09-19 | 単結晶ダイヤモンド |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011168487A true JP2011168487A (ja) | 2011-09-01 |
JP5717518B2 JP5717518B2 (ja) | 2015-05-13 |
Family
ID=9944519
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004537433A Expired - Lifetime JP4949627B2 (ja) | 2002-09-20 | 2003-09-19 | 単結晶ダイヤモンド |
JP2009233475A Expired - Lifetime JP5312281B2 (ja) | 2002-09-20 | 2009-10-07 | 単結晶ダイヤモンド |
JP2011089248A Expired - Lifetime JP5717518B2 (ja) | 2002-09-20 | 2011-04-13 | 単結晶ダイヤモンド |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004537433A Expired - Lifetime JP4949627B2 (ja) | 2002-09-20 | 2003-09-19 | 単結晶ダイヤモンド |
JP2009233475A Expired - Lifetime JP5312281B2 (ja) | 2002-09-20 | 2009-10-07 | 単結晶ダイヤモンド |
Country Status (17)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US20040177803A1 (ja) |
EP (1) | EP1543181B1 (ja) |
JP (3) | JP4949627B2 (ja) |
KR (1) | KR101078970B1 (ja) |
CN (5) | CN101319358B (ja) |
AT (1) | ATE365818T1 (ja) |
AU (1) | AU2003263447A1 (ja) |
CA (1) | CA2496710C (ja) |
DE (1) | DE60314648T2 (ja) |
ES (1) | ES2287565T3 (ja) |
GB (6) | GB0221949D0 (ja) |
HK (5) | HK1078906A1 (ja) |
IL (1) | IL166897A (ja) |
RU (1) | RU2332532C2 (ja) |
TW (1) | TWI323299B (ja) |
WO (1) | WO2004027123A1 (ja) |
ZA (1) | ZA200501294B (ja) |
Families Citing this family (40)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE60115435T2 (de) * | 2000-06-15 | 2006-08-31 | Element Six (Pty) Ltd. | Dicke einkristalline diamantschicht, verfahren zur herstellung der schicht und edelsteine hergestellt durch bearbeitung der schicht |
KR100837033B1 (ko) | 2000-06-15 | 2008-06-10 | 엘리먼트 씩스 (프티) 리미티드 | 화학 증착에 의해 제조된 단결정 다이아몬드 |
GB0130004D0 (en) * | 2001-12-14 | 2002-02-06 | Diamanx Products Ltd | Coloured diamond |
GB0130005D0 (en) * | 2001-12-14 | 2002-02-06 | Diamanx Products Ltd | Boron doped diamond |
RU2328563C2 (ru) * | 2002-09-06 | 2008-07-10 | Элемент Сикс Лимитед | Цветные алмазы |
GB0221949D0 (en) | 2002-09-20 | 2002-10-30 | Diamanx Products Ltd | Single crystal diamond |
GB0227261D0 (en) * | 2002-11-21 | 2002-12-31 | Element Six Ltd | Optical quality diamond material |
KR100683574B1 (ko) * | 2004-10-19 | 2007-02-16 | 한국과학기술연구원 | 기하학적 형태의 다이아몬드 쉘 및 그 제조방법 |
JP5163920B2 (ja) * | 2005-03-28 | 2013-03-13 | 住友電気工業株式会社 | ダイヤモンド単結晶基板の製造方法及びダイヤモンド単結晶基板 |
US7399358B2 (en) * | 2005-09-05 | 2008-07-15 | Rajneesh Bhandari | Synthesis of large homoepitaxial monocrystalline diamond |
WO2007066215A2 (en) * | 2005-12-09 | 2007-06-14 | Element Six Technologies (Pty) Ltd | High crystalline quality synthetic diamond |
US9034200B2 (en) * | 2007-01-22 | 2015-05-19 | Element Six Limited Technologies Limited | Plasma etching of diamond surfaces |
US8342164B2 (en) * | 2008-05-09 | 2013-01-01 | SCIO Diamond Technology Corporation | Gemstone production from CVD diamond plate |
JP4803464B2 (ja) * | 2008-07-04 | 2011-10-26 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 単結晶ダイヤモンドの表面損傷の除去方法 |
GB0813491D0 (en) | 2008-07-23 | 2008-08-27 | Element Six Ltd | Diamond Material |
GB0813490D0 (en) * | 2008-07-23 | 2008-08-27 | Element Six Ltd | Solid state material |
GB2476306B (en) * | 2009-12-21 | 2012-07-11 | Element Six Ltd | Single crystal diamond material |
US9157170B2 (en) | 2009-12-21 | 2015-10-13 | Element Six Technologies Limited | Single crystal diamond material |
GB201000768D0 (en) * | 2010-01-18 | 2010-03-03 | Element Six Ltd | CVD single crystal diamond material |
US9017633B2 (en) * | 2010-01-18 | 2015-04-28 | Element Six Technologies Limited | CVD single crystal diamond material |
GB201021985D0 (en) | 2010-12-24 | 2011-02-02 | Element Six Ltd | Dislocation engineering in single crystal synthetic diamond material |
WO2014168053A1 (ja) | 2013-04-09 | 2014-10-16 | 住友電気工業株式会社 | 単結晶ダイヤモンドおよびダイヤモンド工具 |
GB201310212D0 (en) * | 2013-06-07 | 2013-07-24 | Element Six Ltd | Post-synthesis processing of diamond and related super-hard materials |
CN106574393B (zh) * | 2014-07-22 | 2019-10-08 | 住友电气工业株式会社 | 单晶金刚石及其制造方法、包含单晶金刚石的工具和包含单晶金刚石的部件 |
JP6041229B2 (ja) * | 2015-10-29 | 2016-12-07 | 住友電気工業株式会社 | ダイヤモンド複合体、ダイヤモンド複合体の製造方法、及び単結晶ダイヤモンドの製造方法 |
GB2558395B (en) * | 2016-11-10 | 2019-07-24 | Element Six Tech Ltd | Synthesis of thick single crystal diamond material via chemical vapour deposition |
JP6217949B2 (ja) * | 2016-11-10 | 2017-10-25 | 住友電気工業株式会社 | 単結晶ダイヤモンド |
TWI706061B (zh) * | 2017-04-26 | 2020-10-01 | 新加坡商二A 科技有限公司 | 大單晶鑽石及其生產方法 |
CN107675249B (zh) * | 2017-09-08 | 2020-07-07 | 西安电子科技大学 | 单晶金刚石的扩径生长方法 |
ES2724214B2 (es) | 2018-03-01 | 2020-01-15 | Business Res And Diamonds S L | Procedimiento para la obtencion de diamantes sinteticos a partir de la sacarosa y equipo para llevar a cabo dicho procedimiento |
CN108360065A (zh) * | 2018-04-12 | 2018-08-03 | 西安交通大学 | 一种生长单晶金刚石的方法及生长结构 |
CN108908762A (zh) * | 2018-06-15 | 2018-11-30 | 西安碳星半导体科技有限公司 | Cvd生长宝石级厚单晶金刚石切割方法 |
CN108754600A (zh) * | 2018-06-26 | 2018-11-06 | 西安交通大学 | 一种拼接生长大面积单晶金刚石的方法 |
CN108677246A (zh) * | 2018-06-26 | 2018-10-19 | 西安交通大学 | 一种横向搭桥拼接生长大面积单晶金刚石的方法 |
GB201811162D0 (en) | 2018-07-06 | 2018-08-29 | Element Six Tech Ltd | Method of manufacture of single crystal synthetic diamond material |
CN108977880A (zh) * | 2018-08-29 | 2018-12-11 | 西安交通大学 | 一种交叉拼接生长大面积单晶金刚石的方法 |
GB201918883D0 (en) * | 2019-12-19 | 2020-02-05 | Element Six Tech Ltd | Method for producing chemical vapour deposition diamond |
IL294826A (en) * | 2020-01-20 | 2022-09-01 | M7D Corp | A method for growing larger diamonds |
GB2614521A (en) | 2021-10-19 | 2023-07-12 | Element Six Tech Ltd | CVD single crystal diamond |
GB2614522B (en) | 2021-10-19 | 2024-04-03 | Element Six Tech Ltd | CVD single crystal diamond |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09165295A (ja) * | 1994-12-05 | 1997-06-24 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 低欠陥ダイヤモンド単結晶及びその合成方法 |
JPH111392A (ja) * | 1997-04-18 | 1999-01-06 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 単結晶ダイヤモンドの製造方法および製造装置 |
WO2001096633A1 (en) * | 2000-06-15 | 2001-12-20 | Element Six (Pty) Ltd | Single crystal diamond prepared by cvd |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01103994A (ja) * | 1987-10-16 | 1989-04-21 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ダイヤモンドの単結晶成長方法 |
JP2571795B2 (ja) | 1987-11-17 | 1997-01-16 | 住友電気工業株式会社 | 紫色ダイヤモンドおよびその製造方法 |
US5127983A (en) * | 1989-05-22 | 1992-07-07 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Method of producing single crystal of high-pressure phase material |
US5360479A (en) * | 1990-07-02 | 1994-11-01 | General Electric Company | Isotopically pure single crystal epitaxial diamond films and their preparation |
US5614019A (en) * | 1992-06-08 | 1997-03-25 | Air Products And Chemicals, Inc. | Method for the growth of industrial crystals |
JPH0687691A (ja) * | 1992-09-04 | 1994-03-29 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ダイヤモンドの製造方法およびダイヤモンドの製造方法に使用するダイヤモンド単結晶基材 |
JPH06227895A (ja) * | 1993-02-04 | 1994-08-16 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ダイヤモンドの合成法 |
JPH06107494A (ja) | 1992-09-24 | 1994-04-19 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ダイヤモンドの気相成長法 |
US5474021A (en) * | 1992-09-24 | 1995-12-12 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Epitaxial growth of diamond from vapor phase |
JP3314444B2 (ja) | 1993-03-15 | 2002-08-12 | 住友電気工業株式会社 | 赤色ダイヤモンドおよび桃色ダイヤモンド |
JP3484749B2 (ja) | 1994-04-04 | 2004-01-06 | 住友電気工業株式会社 | ダイヤモンドの合成法 |
JPH113994A (ja) | 1997-06-11 | 1999-01-06 | Miyazaki Oki Electric Co Ltd | 突起構造の形成方法、ldd構造の形成方法、配線形成方法、およびトレンチ形成方法 |
JPH1131014A (ja) | 1997-07-14 | 1999-02-02 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 位置制御方式及び速度制御方式 |
JPH11300194A (ja) * | 1998-04-23 | 1999-11-02 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 超高圧発生用ダイヤモンドアンビル |
DE60115435T2 (de) * | 2000-06-15 | 2006-08-31 | Element Six (Pty) Ltd. | Dicke einkristalline diamantschicht, verfahren zur herstellung der schicht und edelsteine hergestellt durch bearbeitung der schicht |
JP3968968B2 (ja) * | 2000-07-10 | 2007-08-29 | 住友電気工業株式会社 | 単結晶GaN基板の製造方法 |
JP2002265296A (ja) * | 2001-03-09 | 2002-09-18 | Kobe Steel Ltd | ダイヤモンド薄膜及びその製造方法 |
GB0130004D0 (en) * | 2001-12-14 | 2002-02-06 | Diamanx Products Ltd | Coloured diamond |
GB0130005D0 (en) * | 2001-12-14 | 2002-02-06 | Diamanx Products Ltd | Boron doped diamond |
RU2328563C2 (ru) * | 2002-09-06 | 2008-07-10 | Элемент Сикс Лимитед | Цветные алмазы |
GB0221949D0 (en) | 2002-09-20 | 2002-10-30 | Diamanx Products Ltd | Single crystal diamond |
GB0227261D0 (en) * | 2002-11-21 | 2002-12-31 | Element Six Ltd | Optical quality diamond material |
-
2002
- 2002-09-20 GB GBGB0221949.1A patent/GB0221949D0/en not_active Ceased
-
2003
- 2003-09-19 CN CN2008101274361A patent/CN101319358B/zh not_active Expired - Lifetime
- 2003-09-19 DE DE60314648T patent/DE60314648T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-09-19 KR KR1020057004836A patent/KR101078970B1/ko active IP Right Grant
- 2003-09-19 WO PCT/IB2003/004057 patent/WO2004027123A1/en active IP Right Grant
- 2003-09-19 AT AT03797475T patent/ATE365818T1/de not_active IP Right Cessation
- 2003-09-19 CN CN2008101274380A patent/CN101319360B/zh not_active Expired - Lifetime
- 2003-09-19 ES ES03797475T patent/ES2287565T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2003-09-19 JP JP2004537433A patent/JP4949627B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2003-09-19 CN CN038222647A patent/CN1681976B/zh not_active Expired - Lifetime
- 2003-09-19 CN CN2008101274395A patent/CN101319361B/zh not_active Expired - Lifetime
- 2003-09-19 GB GB0623782A patent/GB2429213B/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-09-19 GB GB0508004A patent/GB2409468B/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-09-19 GB GB0623784A patent/GB2429215A/en not_active Withdrawn
- 2003-09-19 ZA ZA200501294A patent/ZA200501294B/en unknown
- 2003-09-19 RU RU2005111972/15A patent/RU2332532C2/ru active
- 2003-09-19 EP EP03797475A patent/EP1543181B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-09-19 CN CN2008101274376A patent/CN101319359B/zh not_active Expired - Lifetime
- 2003-09-19 GB GB0623783A patent/GB2429214A/en not_active Withdrawn
- 2003-09-19 GB GB0623781A patent/GB2429212B/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-09-19 CA CA2496710A patent/CA2496710C/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-09-19 AU AU2003263447A patent/AU2003263447A1/en not_active Abandoned
- 2003-09-22 TW TW092126090A patent/TWI323299B/zh not_active IP Right Cessation
- 2003-09-22 US US10/665,550 patent/US20040177803A1/en not_active Abandoned
-
2005
- 2005-02-14 IL IL166897A patent/IL166897A/en active IP Right Grant
- 2005-11-25 HK HK05110696.1A patent/HK1078906A1/xx not_active IP Right Cessation
-
2007
- 2007-05-03 US US11/743,680 patent/US9518338B2/en active Active
-
2009
- 2009-06-09 HK HK09105138.3A patent/HK1127791A1/xx not_active IP Right Cessation
- 2009-06-09 HK HK09105136.5A patent/HK1127789A1/xx not_active IP Right Cessation
- 2009-06-09 HK HK09105137.4A patent/HK1127790A1/xx not_active IP Right Cessation
- 2009-06-09 HK HK09105139.2A patent/HK1127792A1/xx not_active IP Right Cessation
- 2009-10-07 JP JP2009233475A patent/JP5312281B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2011
- 2011-04-13 JP JP2011089248A patent/JP5717518B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2016
- 2016-10-20 US US15/298,380 patent/US9816202B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09165295A (ja) * | 1994-12-05 | 1997-06-24 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 低欠陥ダイヤモンド単結晶及びその合成方法 |
JPH111392A (ja) * | 1997-04-18 | 1999-01-06 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 単結晶ダイヤモンドの製造方法および製造装置 |
WO2001096633A1 (en) * | 2000-06-15 | 2001-12-20 | Element Six (Pty) Ltd | Single crystal diamond prepared by cvd |
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5717518B2 (ja) | 単結晶ダイヤモンド | |
JP4613314B2 (ja) | 単結晶の製造方法 | |
JP2010517263A (ja) | ダイヤモンド電子デバイス及びそれらの製造方法 | |
JP2013018706A (ja) | 軸オフの種結晶上での100ミリメートル炭化ケイ素結晶の成長 | |
KR101455482B1 (ko) | 단결정 다이아몬드 물질 | |
JP2003119097A (ja) | SiC単結晶及びその製造方法並びにSiC種結晶及びその製造方法 | |
JPH06107494A (ja) | ダイヤモンドの気相成長法 | |
US9157170B2 (en) | Single crystal diamond material | |
JPH0672797A (ja) | 高圧相物質の合成方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110418 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110418 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121204 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20130301 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20130306 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20131213 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20140411 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150317 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5717518 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |