JP2011167680A5 - - Google Patents
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- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 35
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 34
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
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Description
狭い規格範囲内にあって、かつ再現性があり互換性のある半導体もしくは繊維を製造するために、製造プロセス中に変動しない蒸気濃度を使用することが望ましい。よって、再現性があってかつ一定の生成物を得るために、蒸気を含むキャリア流体の温度、キャリア流体滞留時間(例えば、バブラー中の液体レベル)およびキャリア流体の蒸気圧を制御することが望ましい。
キャリア流体中の化学物質蒸気濃度に影響を及ぼしうるさらに他の可変事項はキャリア流体の圧力である。商業的に入手可能な装置は機械式圧力制御装置を使用しており、これは圧力を感じそして制御するバネおよび隔壁に頼っている。しかし、このような市販の機械式装置に関しては、システムの変化に対する応答において本質的な遅れが存在する。このことは、圧力変動をもたらし、ひいては、このことは、化学物質蒸気濃度の変動を生じさせうる。
図1(A)は蒸発器100の上面図を描き、一方、図1(B)は蒸発器100の側面図を描く。図2は、図1(A)の断面A−A’でとった蒸発器100の断面図を描く。ここでの図1(A)、1(B)および2への言及に関して、蒸発器100は外部ケーシング102を含み、外部ケーシング102は第1の端部104および第2の端部106を含む。蒸発器100の外部ケーシング102は前駆体を収容する内部ケーシング110を取り囲む。内部ケーシング110は、蒸発器100にキャリアガスを送り出すための第1の導管210、および蒸発器100からキャリアガスを取り出すための第2の導管214を取り囲む。ある実施形態においては、第1の導管は逆U字型導管210であり、一方第2の導管は逆J字型導管214である。内部ケーシング110は第1の前駆体導管306にも接しており、第1の前駆体導管306は熱交換器300と流体連絡している。第1の前駆体導管306は第2の前駆体導管302と接している。典型的な例においては、第2の前駆体導管302は第1の前駆体導管306よりも狭い断面を有する。第2の前駆体導管302は蒸発器100のできるだけ近くで熱交換器300に包まれる。
ある実施形態においては(図示されない)、外部ケーシング102は第1の穴112、第2の穴114、および第3の穴116を有する。第1の穴112および第2の穴114内に配置されるのは、それぞれ、逆U字型導管210および逆J字型導管214である。第3の穴116内に配置されるのは熱交換器300と流体連絡している導管306である。典型的な実施形態においては(図2に示される)、プレート200は第1の穴112、第2の穴114および第3の穴116を有する。逆U字型導管210は第1の穴112を貫通し、逆J字型導管214は第2の穴114を貫通する。プレート200は第3の穴116の位置で第1の前駆体導管306と接触する。第1の前駆体導管306は熱交換器300と流体連絡している。
第1のポート204は逆U字型導管210と流体連絡している。逆U字型導管210の他方の端はスパージャー212と流体連絡している。スパージャー212は多孔性もしくは穴が開けられた表面を有し、第1のポート204に導入されるキャリア流体が内部ケーシング110内に収容される前駆体を通って分散させられるのを可能にする。ある実施形態においては、スパージャー212は内部ケーシング110の直径にほぼ等しい直径を有する。言い換えれば、スパージャー212の外周は内部ケーシング110の内周にほぼ等しい。この実施形態においては、スパージャーは逆U字型導管および逆J字型導管を収容するための穴を有することができる。別の実施形態においては、スパージャーは、スパージャー212の外周と内部ケーシング110の内周との間に、逆U字型導管および逆J字型導管が配置されるのを可能にするのに充分小さい直径を有することができる。
第2のポート206は逆J字型導管214と流体連絡している。逆J字型導管の他方の端はスプラッシュシールド(splash−shield)216によって保護される。このスプラッシュシールド216は逆J字型導管214の端の前約3〜約10ミリメートル、特に約5ミリメートルに配置される板である。前駆体を同伴するキャリア流体はスプラッシュシールド216の周りに進み、第2のポート206に移動し、これは同時に前駆体の液滴が同じ挙動をするのを妨げる。図2に認められうるように、スプラッシュシールド216は逆U字型導管210の方を向いている。ある実施形態においては(図示されていない)、前駆体の液滴が第2のポート206に移動するのをさらに妨げるために、スプラッシュシールドは逆U字型導管210とは別の方を向いていてもよい。
典型的な実施形態においては、逆U字型導管210、逆J字型導管214、スプラッシュシールド216、内部ケーシング110、スパージャー212は金属、セラミック、プラスチックまたはこれらの組み合わせから製造されうる。
ある実施形態においては、蒸発器100を製造する一方法において、第1の穴112、第2の穴114および第3の穴116を有するプレート200には、逆U字型導管210、逆J字型導管214、および第1の前駆体導管306が取り付けられ、この第1の前駆体導管には熱交換器300およびレベル検出装置308が取り付けられる。逆J字型導管214はその上に配置されたスプラッシュシールドを有する。内部ケーシング110はプレート200上にネジで取り付けられる。ある実施形態においては、内部ケーシング100はプレート200上に溶接される。内部ケーシングとプレート200との間にシールが配置される。内部ケーシング110は、熱交換器300およびレベル検出装置308に取り付けられる第1の前駆体導管306、逆U字型導管210、並びに逆J字型導管214を覆う。プレート200の相対する第2のフランジ202が、次いで、第1のフランジ108と位置あわせさせられ、この2つのフランジがボルトで一緒にされてガスケット208を封入する。
上述のように、蒸発器100の近傍に配置された熱交換器300を有することによって、その結果、内部ケーシング110内に存在する前駆体の温度または蒸気圧の変動が非常に小さくなる。これは、処理チャンバーへの実質的に一定の供給流体をもたらし、その流体は、キャリア流体の前駆体に対する実質的に一定の比率を有する。ある実施形態においては、熱交換器300は蒸発器100に非常に近く配置されるので、第2の導管によって蒸発器から取り出された後で、キャリア流体対前駆体の重量比は実質的に一定である。このことは、周囲温度が±15℃以内(境界値を含む)の量で、特に±25℃以内(境界値を含む)の量で、さらに特に±35℃以内(境界値を含む)の量で変動する場合でさえ起こる。さらなる実施形態においては、熱交換器300は蒸発器100と一体化される。
ある実施形態においては、熱交換器300は蒸発器100の非常に近くに配置されるので、キャリア流体の前駆体に対する重量比は約0.1%以上、特に約0.2%以上、さらに特に約0.5%以上の量で変化しない。このことは、周囲温度が±15℃以内(境界値を含む)の量で、特に±25℃以内(境界値を含む)の量で、さらに特に±35℃以内(境界値を含む)の量で変動する場合でさえ起こる。
Claims (10)
- 蒸発器および熱交換器を含む装置であって、
熱交換器は蒸発器と流体連絡しており;
蒸発器は外部ケーシングおよび内部ケーシングを含み;内部ケーシングは外部ケーシング内に配置されており;内部ケーシングはプレートと接触しており;内部ケーシングは第1の導管および第2の導管を取り囲んでおり;
第1の導管は蒸発器にキャリア流体を導入するように機能し;
第2の導管は前駆体を同伴したキャリア流体を取り出すように機能し;
外部ケーシングは取り外し可能にプレートに取り付けられており;プレートは第1の前駆体導管と接触しており;第1の前駆体導管は熱交換器から蒸発器へ前駆体を導入するように機能し;熱交換器は、熱交換器および蒸発器の周りの周囲温度が±35℃以内の量で変動する場合に、第1の熱交換器の中央から蒸発器まで伸びる流体径路における前駆体の温度の変動を±0.5℃以内に維持する距離で蒸発器の近傍に配置されている;
蒸発器および熱交換器を含む装置。 - 第1の導管が逆U字型導管であり、逆U字型導管が、キャリア流体を蒸発器に導入するための第1のポートと流体連絡している一方の端、およびスパージャーと流体連絡している反対側の端を有する、請求項1に記載の装置。
- 第2の導管が逆J字型導管であり、逆J字型導管が、前駆体を同伴したキャリア流体を蒸発器から取り出すための第2のポートと流体連絡している一方の端、およびスプラッシュシールドと流体連絡している反対側の端を有する、請求項1に記載の装置。
- 熱交換器と蒸発器との近さが、熱交換器および蒸発器の周りの周囲温度が±35℃以内の量で変動する場合に、キャリア流体の前駆体に対する重量比が約0.5%以上の量で変化しないように維持する、請求項1に記載の装置。
- 熱交換器と蒸発器との近さが、熱交換器から蒸発器への流体経路における前駆体の温度の変動を±0.1℃以内に維持する、請求項1に記載の装置。
- 逆U字型導管がプレートの穴を通って蒸発器内に配置される、請求項2に記載の装置。
- 逆J字型導管がプレートの穴を通って蒸発器内に配置される、請求項3に記載の装置。
- 熱交換器において前駆体を加熱または冷却する工程;
前駆体を熱交換器から蒸発器に送り出す工程;
キャリア流体を第1の導管を介して蒸発器に導入する工程;
キャリア流体で前駆体をスパージする工程;並びに、
前駆体を同伴したキャリア流体を第2の導管を介して蒸発器から取り出す工程;を含み、
蒸発器は外部ケーシングおよび内部ケーシングを含み;内部ケーシングは外部ケーシング内に配置されており;内部ケーシングはプレートと接触しており;内部ケーシングは第1の導管および第2の導管を取り囲んでおり;
熱交換器と蒸発器との近さが、熱交換器および蒸発器の周りの周囲温度が±35℃以内の量で変動する場合に、第1の熱交換器の中央から蒸発器まで伸びる流体径路における前駆体の温度の変動を±0.5℃以内に維持する;
方法。 - 外部ケーシングと内部ケーシングとの間の空間において流体を循環させることをさらに含む、請求項8に記載の方法。
- 逆U字型導管をプレートの第1の穴の中に、逆J字型導管をプレートの第2の穴の中に、および第1の前駆体導管をプレートの第3の穴の中に配置する工程、ここで、前記プレートは熱交換器に固定されている;並びに、
熱交換器がプレートに接触している面と反対側のプレートの面上に内部ケーシングおよび外部ケーシングを配置する工程、ここで、内部ケーシングは外部ケーシング内に収容されており、内部ケーシングは逆U字型導管、逆J字型導管および第1の前駆体導管を取り囲んでいる;
を含む、請求項1に記載の装置を製造する方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US12/687288 | 2010-01-14 | ||
US12/687,288 US8555809B2 (en) | 2010-01-14 | 2010-01-14 | Method for constant concentration evaporation and a device using the same |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016000294A Division JP6317375B2 (ja) | 2010-01-14 | 2016-01-04 | 一定濃度の蒸発のための方法およびその方法を使用する装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011167680A JP2011167680A (ja) | 2011-09-01 |
JP2011167680A5 true JP2011167680A5 (ja) | 2015-04-02 |
Family
ID=43608149
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011002670A Withdrawn JP2011167680A (ja) | 2010-01-14 | 2011-01-11 | 一定濃度の蒸発のための方法およびその方法を使用する装置 |
JP2016000294A Active JP6317375B2 (ja) | 2010-01-14 | 2016-01-04 | 一定濃度の蒸発のための方法およびその方法を使用する装置 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016000294A Active JP6317375B2 (ja) | 2010-01-14 | 2016-01-04 | 一定濃度の蒸発のための方法およびその方法を使用する装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8555809B2 (ja) |
EP (1) | EP2345473B1 (ja) |
JP (2) | JP2011167680A (ja) |
KR (1) | KR101778622B1 (ja) |
CN (1) | CN102162092B (ja) |
TW (1) | TWI482875B (ja) |
Families Citing this family (14)
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US7883745B2 (en) | 2007-07-30 | 2011-02-08 | Micron Technology, Inc. | Chemical vaporizer for material deposition systems and associated methods |
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-
2011
- 2011-01-11 EP EP11150646.5A patent/EP2345473B1/en active Active
- 2011-01-11 JP JP2011002670A patent/JP2011167680A/ja not_active Withdrawn
- 2011-01-11 TW TW100100904A patent/TWI482875B/zh active
- 2011-01-13 KR KR1020110003494A patent/KR101778622B1/ko active IP Right Grant
- 2011-01-14 CN CN2011100249449A patent/CN102162092B/zh active Active
-
2016
- 2016-01-04 JP JP2016000294A patent/JP6317375B2/ja active Active
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