JP2011164542A - 近接露光装置及び近接露光方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】露光装置PEは、露光されるべき基板Wが第1又は第2基板ステージ11,12に供給されるかどうかを検出し、露光されるべき基板Wの供給が停止したとき、少なくとも第1又は第2基板ステージ11,12の空運転を行う。
【選択図】図7
Description
(1) マスクを保持するマスクステージと、該マスクステージの下方に位置する露光位置に基板を保持可能な基板ステージと、前記基板ステージの露光位置に保持された基板に、パターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射装置と、を備える近接露光方法であって、
露光されるべき基板が前記基板ステージに供給されるかどうかを検出する工程と、
前記露光されるべき基板の供給が停止したとき、少なくとも前記基板ステージの空運転を行う工程と、
を有することを特徴とする近接露光方法。
(2) 前記基板ステージの空運転は、前記基板を露光する際のステップ移動と同じ動作を行うことを特徴とする(1)に記載の近接露光方法。
(3) マスクを保持するマスクステージと、
該マスクステージの下方に位置する露光位置に基板を保持可能な基板ステージと、
前記基板ステージの露光位置に保持された基板に、パターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射装置と、
露光されるべき基板の前記基板ステージへの供給が停止したとき、少なくとも前記基板ステージの空運転を行う制御部と、
を有することを特徴とする近接露光装置。
形成している。マスクステージ10は、中央に矩形の開口25aを有して、マスクステージ10に対してX,Y,θ方向に位置調整可能に支持されたマスク保持部25を備え、露
光すべきパターンを有するマスクMがこの開口25aに臨むようにしてマスク保持部25
に保持されている。また、マスクステージ10には、マスク保持部25に対するマスクMの位置を検出するマスク用アライメントカメラ(図示せず)と、マスクMと基板Wとの間のギャップを検出するギャップセンサ(図示せず)とが設けられている。
配置すべく、第1基板ステージ11を第1待機位置WP1と露光位置EP間で案内レール40に沿ってY軸方向に移動させ、第2基板ステージ12を第2待機位置WP2と露光位置EP間で案内レール40に沿ってY軸方向に移動させる。また、X軸送り機構36及びY軸送り機構34は、露光位置EPにある基板保持部31a,31bをマスクMに対してX、Y方向にステップ移動させるように第1及び第2基板ステージ11,12を移動させる。
なお、Y軸送り駆動機構39、X軸送り駆動機構46、及び可動くさび機構は、モータとボールねじ装置とを組み合わせているが、ステータと可動子とを有するリニアモータによって構成されてもよい。
なお、光源としては、単一の高圧水銀ランプ81と凹面鏡82の代わりに、高圧水銀ランプとリフレクタとをそれぞれ有する複数の光源部からなるマルチランプユニットによって構成されてもよい。
し、またプリアライメントされた基板Wをプリアライメントユニット14から第1基板ステージ11に搬送するようになっている。
搬送するようになっている。
11 第1基板ステージ
12 第2基板ステージ
13 照明装置
14 プリアライメントユニット
15 第1基板ローダ
16 第2基板ローダ
70A,70B コンベア
PE 露光装置
M マスク
P マスクパターン
W 基板
EP 露光位置
WP1 第1待機位置
WP2 第2待機位置
Claims (3)
- マスクを保持するマスクステージと、該マスクステージの下方に位置する露光位置に基板を保持可能な基板ステージと、前記基板ステージの露光位置に保持された基板に、パターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射装置と、を備える近接露光方法であって、
露光されるべき基板が前記基板ステージに供給されるかどうかを検出する工程と、
前記露光されるべき基板の供給が停止したとき、少なくとも前記基板ステージの空運転を行う工程と、
を有することを特徴とする近接露光方法。 - 前記基板ステージの空運転は、前記基板を露光する際のステップ移動と同じ動作を行うことを特徴とする請求項1に記載の近接露光方法。
- マスクを保持するマスクステージと、
該マスクステージの下方に位置する露光位置に基板を保持可能な基板ステージと、
前記基板ステージの露光位置に保持された基板に、パターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射装置と、
露光されるべき基板の前記基板ステージへの供給が停止したとき、少なくとも前記基板ステージの空運転を行う制御部と、
を有することを特徴とする近接露光装置。
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