JP2011151092A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6029268B2 (ja) * 2011-09-12 2016-11-24 キヤノン株式会社 インプリント装置、それを用いた物品の製造方法
JP6012209B2 (ja) * 2012-03-15 2016-10-25 キヤノン株式会社 インプリント装置及び物品の製造方法
JP5813603B2 (ja) * 2012-09-04 2015-11-17 株式会社東芝 インプリント装置およびインプリント方法
JP2015170815A (ja) 2014-03-10 2015-09-28 キヤノン株式会社 インプリント装置、アライメント方法及び物品の製造方法
JP6552329B2 (ja) * 2014-09-12 2019-07-31 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリントシステム及び物品の製造方法
JP6552392B2 (ja) * 2015-11-30 2019-07-31 キヤノン株式会社 インプリント装置、計測方法、インプリント方法、および物品の製造方法
JP6590667B2 (ja) * 2015-11-30 2019-10-16 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法
KR102078954B1 (ko) * 2015-11-30 2020-02-19 캐논 가부시끼가이샤 임프린팅 장치, 측정 방법, 임프린팅 방법, 및 물품 제조 방법
JP6548560B2 (ja) * 2015-11-30 2019-07-24 キヤノン株式会社 インプリント装置、計測方法、インプリント方法、および物品の製造方法
JP2019036679A (ja) 2017-08-21 2019-03-07 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法、および、物品の製造方法
JP7289895B2 (ja) * 2017-08-21 2023-06-12 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法、および、物品の製造方法
KR102022268B1 (ko) * 2018-02-14 2019-09-19 한국기계연구원 순간가열방식 및 용액전사방식의 임프린트 장치와, 그 방법
JP7086711B2 (ja) * 2018-05-18 2022-06-20 キヤノン株式会社 インプリント装置、および物品製造方法
JP7257817B2 (ja) 2019-03-04 2023-04-14 キヤノン株式会社 インプリント装置、および物品の製造方法
JP7699993B2 (ja) * 2021-07-30 2025-06-30 キヤノン株式会社 液体吐出装置、液体吐出方法、成形装置及び物品の製造方法

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5772905A (en) * 1995-11-15 1998-06-30 Regents Of The University Of Minnesota Nanoimprint lithography
US6309580B1 (en) * 1995-11-15 2001-10-30 Regents Of The University Of Minnesota Release surfaces, particularly for use in nanoimprint lithography
JP4006217B2 (ja) * 2001-10-30 2007-11-14 キヤノン株式会社 露光方法、露光装置及びデバイスの製造方法
US6653030B2 (en) * 2002-01-23 2003-11-25 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Optical-mechanical feature fabrication during manufacture of semiconductors and other micro-devices and nano-devices that include micron and sub-micron features
JP2003251792A (ja) * 2002-02-28 2003-09-09 Seiko Epson Corp 機能液滴吐出ヘッドの位置認識装置およびヘッドユニットの組立装置、並びに液晶表示装置の製造方法、有機ｅｌ装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、ｐｄｐ装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機ｅｌの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法
JP4478424B2 (ja) 2003-09-29 2010-06-09 キヤノン株式会社 微細加工装置およびデバイスの製造方法
JP2005167166A (ja) 2003-12-01 2005-06-23 Bussan Nanotech Research Institute Inc 位置制御可能なパターン形成装置及び位置制御方法
US7309225B2 (en) * 2004-08-13 2007-12-18 Molecular Imprints, Inc. Moat system for an imprint lithography template
US7292326B2 (en) * 2004-11-30 2007-11-06 Molecular Imprints, Inc. Interferometric analysis for the manufacture of nano-scale devices
JP2006165371A (ja) * 2004-12-09 2006-06-22 Canon Inc 転写装置およびデバイス製造方法
US20060267231A1 (en) * 2005-05-27 2006-11-30 Asml Netherlands B.V. Imprint lithography
US7418902B2 (en) * 2005-05-31 2008-09-02 Asml Netherlands B.V. Imprint lithography including alignment
JP4290177B2 (ja) * 2005-06-08 2009-07-01 キヤノン株式会社 モールド、アライメント方法、パターン形成装置、パターン転写装置、及びチップの製造方法
US7414722B2 (en) * 2005-08-16 2008-08-19 Asml Netherlands B.V. Alignment measurement arrangement and alignment measurement method
JP2007081070A (ja) * 2005-09-14 2007-03-29 Canon Inc 加工装置及び方法
US8001924B2 (en) * 2006-03-31 2011-08-23 Asml Netherlands B.V. Imprint lithography
JP4819577B2 (ja) * 2006-05-31 2011-11-24 キヤノン株式会社 パターン転写方法およびパターン転写装置
US8015939B2 (en) * 2006-06-30 2011-09-13 Asml Netherlands B.V. Imprintable medium dispenser
JP5110924B2 (ja) * 2007-03-14 2012-12-26 キヤノン株式会社 モールド、モールドの製造方法、加工装置及び加工方法
US7837907B2 (en) * 2007-07-20 2010-11-23 Molecular Imprints, Inc. Alignment system and method for a substrate in a nano-imprint process
US8119052B2 (en) * 2007-11-02 2012-02-21 Molecular Imprints, Inc. Drop pattern generation for imprint lithography
JP5361309B2 (ja) * 2008-09-25 2013-12-04 キヤノン株式会社 インプリント装置およびインプリント方法
NL2005259A (en) * 2009-09-29 2011-03-30 Asml Netherlands Bv Imprint lithography.
JP5289492B2 (ja) * 2011-03-23 2013-09-11 株式会社東芝 インプリント方法およびインプリント装置

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