JP2011142144A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2011142144A5
JP2011142144A5 JP2010000829A JP2010000829A JP2011142144A5 JP 2011142144 A5 JP2011142144 A5 JP 2011142144A5 JP 2010000829 A JP2010000829 A JP 2010000829A JP 2010000829 A JP2010000829 A JP 2010000829A JP 2011142144 A5 JP2011142144 A5 JP 2011142144A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
iron
following formula
composite oxide
head according
jet head
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2010000829A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2011142144A (ja
JP5641185B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2010000829A priority Critical patent/JP5641185B2/ja
Priority claimed from JP2010000829A external-priority patent/JP5641185B2/ja
Priority to US12/983,838 priority patent/US8573755B2/en
Priority to CN201110003853.7A priority patent/CN102152630B/zh
Publication of JP2011142144A publication Critical patent/JP2011142144A/ja
Publication of JP2011142144A5 publication Critical patent/JP2011142144A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5641185B2 publication Critical patent/JP5641185B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2010000829A 2010-01-05 2010-01-05 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びに圧電素子 Expired - Fee Related JP5641185B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010000829A JP5641185B2 (ja) 2010-01-05 2010-01-05 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びに圧電素子
US12/983,838 US8573755B2 (en) 2010-01-05 2011-01-03 Liquid-ejecting head, liquid-ejecting apparatus, and piezoelectric element
CN201110003853.7A CN102152630B (zh) 2010-01-05 2011-01-04 液体喷射头、液体喷射装置和压电元件

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010000829A JP5641185B2 (ja) 2010-01-05 2010-01-05 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びに圧電素子

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2011142144A JP2011142144A (ja) 2011-07-21
JP2011142144A5 true JP2011142144A5 (enExample) 2013-02-07
JP5641185B2 JP5641185B2 (ja) 2014-12-17

Family

ID=44224490

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010000829A Expired - Fee Related JP5641185B2 (ja) 2010-01-05 2010-01-05 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びに圧電素子

Country Status (3)

Country Link
US (1) US8573755B2 (enExample)
JP (1) JP5641185B2 (enExample)
CN (1) CN102152630B (enExample)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102008057721A1 (de) * 2008-11-17 2010-05-20 Epcos Ag Keramischer Werkstoff, Verfahren zur Herstellung des keramischen Werkstoffs und Bauelement mit dem keramischen Werkstoff
JP5556182B2 (ja) 2010-01-05 2014-07-23 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びに圧電素子
JP5660274B2 (ja) * 2010-01-05 2015-01-28 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッドの製造方法、圧電素子の製造方法、液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び圧電素子
JP5660288B2 (ja) 2010-01-05 2015-01-28 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び圧電素子並びに液体噴射ヘッドの製造方法
JP2011211143A (ja) * 2010-03-12 2011-10-20 Seiko Epson Corp 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びに圧電素子
JP5375688B2 (ja) * 2010-03-16 2013-12-25 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッド、圧電素子および圧電アクチュエーター
JP6326991B2 (ja) * 2013-06-12 2018-05-23 セイコーエプソン株式会社 圧電素子、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置
JP6263950B2 (ja) * 2013-10-22 2018-01-24 株式会社リコー 電気−機械変換素子とその製造方法及び電気−機械変換素子を備えた液滴吐出ヘッド、インクカートリッジ並びに画像形成装置
US10355196B2 (en) * 2016-02-10 2019-07-16 Seiko Epson Corporation Piezoelectric element, piezoelectric element application device, and method of manufacturing piezoelectric element
JP2019161098A (ja) * 2018-03-15 2019-09-19 セイコーエプソン株式会社 圧電素子及び液体吐出ヘッド
KR102050753B1 (ko) * 2018-06-04 2019-12-02 충남대학교산학협력단 유연 압전소자 제조방법 및 이로부터 제조된 유연 압전소자

Family Cites Families (42)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5453262A (en) * 1988-12-09 1995-09-26 Battelle Memorial Institute Continuous process for production of ceramic powders with controlled morphology
US5264403A (en) * 1991-09-27 1993-11-23 Ngk Insulators, Ltd. Dielectric ceramic composition containing ZnO-B2 O3 -SiO2 glass
JP4051654B2 (ja) 2000-02-08 2008-02-27 セイコーエプソン株式会社 圧電体素子、インクジェット式記録ヘッド及びこれらの製造方法並びにインクジェットプリンタ
JP4015820B2 (ja) * 2001-04-11 2007-11-28 日本碍子株式会社 配線基板及びその製造方法
US6969157B2 (en) * 2002-05-31 2005-11-29 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Piezoelectric element, ink jet head, angular velocity sensor, method for manufacturing the same, and ink jet recording apparatus
EP1744377B1 (en) * 2004-03-05 2011-04-20 Panasonic Corporation Piezoelectric element, inkjet head, angular velocity sensor, production methods for these and inkjet recording device
JP3806127B2 (ja) * 2004-04-06 2006-08-09 株式会社東芝 半導体装置およびその製造方法
JP4984018B2 (ja) * 2005-03-30 2012-07-25 セイコーエプソン株式会社 圧電素子及び液体噴射ヘッド並びに液体噴射装置
JP4793568B2 (ja) * 2005-07-08 2011-10-12 セイコーエプソン株式会社 アクチュエータ装置、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置
JP4333686B2 (ja) * 2006-04-03 2009-09-16 セイコーエプソン株式会社 アクチュエータ装置及び液体噴射ヘッド並びに液体噴射装置
JP5041121B2 (ja) 2006-04-12 2012-10-03 セイコーエプソン株式会社 インクジェット式記録ヘッドおよびインクジェットプリンタ
US8505925B2 (en) * 2006-09-28 2013-08-13 GM Global Technology Operations LLC Temperature adaptive dynamic shaft seal assembly
US7498725B2 (en) 2006-11-30 2009-03-03 Tdk Corporation Piezoelectric ceramic composition and laminated piezoelectric element
US7786656B2 (en) * 2007-04-26 2010-08-31 Fujifilm Corporation Piezoelectric body, piezoelectric device, and liquid discharge apparatus
JP5307986B2 (ja) * 2007-05-07 2013-10-02 富士フイルム株式会社 圧電素子とその製造方法、及び液体吐出装置
US20080302658A1 (en) * 2007-06-08 2008-12-11 Tsutomu Sasaki Oxide body, piezoelectric device, and liquid discharge device
JP5253894B2 (ja) 2007-06-08 2013-07-31 富士フイルム株式会社 強誘電体膜、圧電素子、及び液体吐出装置
JP5253895B2 (ja) 2007-06-08 2013-07-31 富士フイルム株式会社 強誘電体膜、圧電素子、及び液体吐出装置
JP2009070926A (ja) 2007-09-11 2009-04-02 Tokyo Institute Of Technology ペロブスカイト型酸化物薄膜の成膜方法および積層体
JP2009071144A (ja) 2007-09-14 2009-04-02 Seiko Epson Corp 強誘電体メモリの製造方法
JP5391395B2 (ja) * 2007-10-15 2014-01-15 日立金属株式会社 圧電薄膜付き基板及び圧電素子
JP2009113419A (ja) 2007-11-08 2009-05-28 Seiko Epson Corp 液体噴射ヘッドの製造方法及び圧電素子の製造方法
JP5507097B2 (ja) 2008-03-12 2014-05-28 富士フイルム株式会社 ペロブスカイト型酸化物とその製造方法、圧電体、圧電素子、液体吐出装置
JP5267971B2 (ja) 2008-03-21 2013-08-21 国立大学法人金沢大学 強誘電体材料及び圧電体
CN101544113A (zh) * 2008-03-27 2009-09-30 精工爱普生株式会社 液体喷射头、液体喷射装置、以及执行器
JP2009255529A (ja) * 2008-03-27 2009-11-05 Seiko Epson Corp 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びにアクチュエータ
JP5248168B2 (ja) 2008-04-01 2013-07-31 セイコーエプソン株式会社 圧電材料および圧電素子
JP4775772B2 (ja) 2008-04-01 2011-09-21 セイコーエプソン株式会社 圧電材料および圧電素子
US7896479B2 (en) * 2008-04-30 2011-03-01 Seiko Epson Corporation Liquid jet head and a piezoelectric element
JP5313792B2 (ja) 2008-07-17 2013-10-09 富士フイルム株式会社 ペロブスカイト型酸化物、酸化物組成物、酸化物体、圧電素子、及び液体吐出装置
JP2010067756A (ja) 2008-09-10 2010-03-25 Fujifilm Corp 圧電体膜、圧電素子、及び液体吐出装置
JP5010565B2 (ja) 2008-09-26 2012-08-29 株式会社東芝 磁気抵抗素子及び磁気メモリ
JP5435206B2 (ja) 2009-02-25 2014-03-05 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置
JP5577844B2 (ja) 2009-11-02 2014-08-27 セイコーエプソン株式会社 液体噴射装置
JP5621964B2 (ja) * 2009-11-02 2014-11-12 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び圧電素子並びに超音波デバイス
JP2011207202A (ja) 2009-11-02 2011-10-20 Seiko Epson Corp 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び圧電素子並びに圧電材料
JP5445755B2 (ja) * 2009-11-11 2014-03-19 セイコーエプソン株式会社 液滴噴射ヘッドおよびその製造方法、並びに液滴噴射装置
JP5556182B2 (ja) * 2010-01-05 2014-07-23 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びに圧電素子
JP5660288B2 (ja) * 2010-01-05 2015-01-28 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び圧電素子並びに液体噴射ヘッドの製造方法
JP5660274B2 (ja) * 2010-01-05 2015-01-28 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッドの製造方法、圧電素子の製造方法、液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び圧電素子
JP5725272B2 (ja) * 2010-03-08 2015-05-27 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びに圧電素子
JP2011211143A (ja) * 2010-03-12 2011-10-20 Seiko Epson Corp 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びに圧電素子

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2011142144A5 (enExample)
JP2011205067A5 (ja) 液体噴射ヘッド、液体噴射装置、圧電素子、超音波センサー及び赤外センサー
JP2010110202A5 (enExample)
JP2009245955A5 (enExample)
JP2010504301A5 (enExample)
JP2013249393A5 (enExample)
JP2015520726A5 (enExample)
JP2010524750A5 (enExample)
WO2010024641A3 (ko) 신규한 열전 변환 재료 및 그 제조 방법과, 이를 이용한 열전 변환 소자
JP2008266364A5 (enExample)
JP2011506530A5 (enExample)
WO2011106295A3 (en) Process for synthesizing layered oxides
JP2010521616A5 (enExample)
JP2013504386A5 (enExample)
JP2007287739A5 (enExample)
JP2013543253A5 (enExample)
JP2013093561A5 (ja) 酸化物半導体膜
JP2010536154A5 (enExample)
JP2011205066A5 (ja) 液体噴射ヘッド、液体噴射装置、圧電素子、超音波センサー及び赤外センサー
JP2010541165A5 (enExample)
JP2008284874A5 (enExample)
WO2015061177A3 (en) Iv-vi and iii-v quantum dot structures in a v-vi matrix
WO2010124196A3 (en) Catalyst property control with intermixed inorganics
JP2012164894A5 (ja) 液体噴射ヘッド、液体噴射装置、圧電素子、超音波デバイス及びｉｒセンサー
JP2013102002A5 (enExample)