JP2011129518A5 - - Google Patents
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- 電子ビーム(64)を放出する放出器(58)と、
該放出器(58)の周りに配設されて前記電子ビーム(64)を集束させる少なくとも一つの集束電極(70)と、
前記電子ビーム(64)の周りに配置され、前記少なくとも一つの集束電極(70)によって収束される少なくとも一つの引出し電極(74)であって、前記少なくとも一つの集束電極(70)及び前記放出器(58)に関して正のバイアス電圧に保たれて前記電子ビーム(64)の強度を制御する少なくとも一つの引出し電極(74)と
を備えたX線管(50)用の入射器(52)。 - 前記電子ビーム(64)を発生するように、前記放出器(58)に衝突する加熱電子ビーム(108)を発生する少なくとも一つの熱イオン電子源(104)をさらに含んでいる請求項1に記載の入射器(52)。
- 前記少なくとも一つの熱イオン電子源(104)は放出面を含んでいる、請求項2に記載の入射器(52)。
- 前記放出器(58)は、タングステンよりも低い仕事関数を有する低仕事関数材料を含んでいる、請求項1乃至3のいずれかに記載の入射器(52)。
- 前記放出器(58)は、曲面型放出器、平面型放出器、又はこれらの組み合わせである、請求項1乃至4のいずれかに記載の入射器(52)。
- 前記集束電極(70)は、前記引出し電極(74)に関して負の電圧にあるバイアスを印加される、請求項1乃至5のいずれかに記載の入射器(52)。
- 請求項1乃至6のいずれかに記載の入射器(52)と、
前記電子ビーム(64)により衝突されるとX線(84)を発生するターゲット(56)と、
前記入射器(52)と前記ターゲット(56)との間に位置して、前記電子ビーム(64)を前記ターゲット(56)へ向けて集束、偏向及び/又は配置するのに指向的に作用する磁気アセンブリ(80)と
を備えたX線管(50)。 - 前記電子ビーム(64)を発生するように、前記放出器(58)に衝突する加熱電子ビーム(108)を発生する少なくとも一つの熱イオン電子源(104)をさらに含んでいる請求項7に記載のX線管(50)。
- 前記ターゲット(56)から後方散乱された電子を収集する電子収集器(82)をさらに含んでいる請求項7に記載のX線管(50)。
- ガントリ(12)と、
該ガントリ(12)に結合されたX線管(50)であって、
管外被(72)と、
請求項1乃至6のいずれかに記載の入射器(52)と、
前記電子ビーム(64)により衝突されるとX線(84)を発生するターゲット(56)と、
前記入射器(52)と前記ターゲット(56)との間に位置して、前記電子ビーム(64)を前記ターゲット(56)へ向けて集束、偏向及び/又は配置するのに指向的に作用する磁気アセンブリ(80)と
を含んでいるX線管(50)と、
該X線管(50)に電力及びタイミング信号を供給するX線制御器(28)と、
撮像対象(22)からの減弱されたX線ビームを検出する1又は複数の検出器素子(20)と
を備えた計算機式断層写真法システム(10)。
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