JP2011105780A - 多孔質膜の製造方法、多孔質膜、多孔質膜製造装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】有機化合物と疎水性有機溶媒とを含む塗布液を支持体上に塗布して、0℃以上10℃以下に調整された塗布膜を形成する工程と、塗布膜の温度より露点を高く調整した水蒸気を含む水蒸気含有気体を塗布膜に供給して、塗布膜上で水蒸気を凝結させて塗布膜を乾燥させる工程とを含む多孔質膜の製造方法、その方法で得られる多孔質膜及び本発明の製造方法に適用可能な多孔質膜製造装置である。
【選択図】図1
Description
[2] 前記塗布膜形成工程において、前記塗布液を支持体上に塗布する際の該塗布液の温度を0℃以上10℃以下とする[1]に記載の多孔質膜の製造方法。
[3] 前記水蒸気含有気体の相対湿度を、40%以上95%以下とする[1]又は[2]に記載の多孔質膜の製造方法。
[4] 前記多孔質膜の厚みが500nm以下である[1]〜[3]のいずれかに記載の多孔質膜の製造方法。
[5] 前記凝結・乾燥工程において、前記塗布膜中の前記疎水性有機溶媒と前記凝結した水分とをこの順に段階的に蒸発させる[1]〜[4]のいずれかに記載の多孔質膜の製造方法。
[7] 塗布液を所定温度に調整する温度調整手段と、支持体上に、前記塗布液を塗布して塗布膜を形成する塗布膜形成手段と、水蒸気を含む水蒸気含有気体を前記塗布膜に供給して、当該塗布膜上で前記水蒸気を凝結させ、前記塗布膜を乾燥させる凝結・乾燥手段と、を有し、前記塗布膜形成手段により塗布膜が形成された直後に、当該塗布膜に前記水蒸気含有気体が供給されるように、前記凝結・乾燥手段の水蒸気含有気体供給部が設けられてなる多孔質膜製造装置。
本発明の多孔質膜の製造方法は、塗布膜形成工程と凝結・乾燥工程とを含む。以下、各工程について説明する。
塗布膜形成工程は、有機化合物と疎水性有機溶媒とを含む塗布液を支持体上に塗布して、0℃以上10℃以下に調整された塗布膜を形成する工程である。
ここで形成される塗布膜は、疎水性有機溶媒に有機化合物を含有したウェット状態(液体状)のものである。
なお、塗布膜の温度が0℃未満では、後の凝結・乾燥工程において水蒸気の凝結量が多くなりすぎて凝結した複数の水滴同士が結合し、個々に独立した孔が形成されず連続した帯状の切れ目が形成されてしまう。10℃を超えると後の凝結・乾燥工程において水蒸気の凝結が進行しにくくなり、所望の多孔質膜を製造することが困難となる。塗布膜の温度は、2〜8℃とすることが好ましく、3〜5℃とすることがより好ましい。
有機化合物の分子量としては、数平均分子量(Mn)で1,000〜10,000,000であることが好ましく、5,000〜1,000,000であることがより好ましい。
また、支持体としては、ガラス、金属、シリコンウエハー等の無機材料、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエーテルケトン、ポリフッ化エチレン等の耐有機溶剤性に優れた有機材料を用いることができる。支持体の形状としては、厚みが均一な多孔質膜を得やすいという観点から板状が好ましいが、円柱状や角柱状など特に限定されるものではない。支持体は塗布膜形成時には、塗布液と同じ温度であることが好ましく、塗布液中に所定時間浸漬させておくことが好ましい。支持体を塗布液に浸漬する所定時間としては、1分以上が好ましく、5分以上がより好ましく、10分以上がさらに好ましい。
凝結・乾燥工程は、塗布液より露点を高く調整した水蒸気を含む水蒸気含有気体を、塗布膜形成工程を経て形成された塗布膜に供給して、当該塗布膜上で水蒸気を凝結させ、乾燥させる工程である。
また、本発明における孔とは、貫通したもののみならず、一定の径で一定の深さを有する凹部をも孔とみなし、下記式を満たすものをいう。
式:孔の深さ(nm)/孔の径(nm)>0.03
上記式において、「孔の深さ/孔の径」は0.035〜10であることが好ましく、0.04〜5であることがより好ましく、0.05〜1がさらに好ましい。
孔径は、10〜800nmであることが好ましく、50〜600nmであることが好ましい。孔の深さは4nm以上が好ましく、6nm以上がより好ましい。
さらに、表面における孔の割合は、0.01〜30%であることが好ましく、0.05〜20%であることがより好ましい。孔の割合は、例えば多孔質膜の表面をAFMにて観察し、任意の5μm×5μmの領域(25μm2)に存在する孔の面積の合計から求めることができる。
hdry=h∞×W
h∞:wet膜厚
ρ:塗液密度
g:重力加速度
μ:塗液粘度
U:引き上げ速度
σ:塗液表面張力
hdry:dry膜厚(多孔質膜の厚さ)
W:固形分濃度
図1に本発明の多孔質膜製造装置の一形態を示す。
図1に示す多孔質膜製造装置10はディップコートを適用したもので、塗布膜形成手段12として、支持体14を固定(把持)しながらこれを昇降可能なディップコーター16とディップ槽18を有している。また、ディップ槽18は有機化合物と疎水性有機溶媒とを含む塗布液20で満たされる。この塗布液20を所定温度(0℃以上10℃以下)に保持するために、温度調整手段22が設けられている。温度調節手段22は例えばチラー22Aと熱交換器22Bとからなり、塗布液20を温度調節手段22とディップ槽18との間で循環させることで、塗布液20の温度を所定温度に維持する。
なお、塗布液を循環させる際には、図1に示すように送液ポンプ24や流量調節バルブ26A,26Bを設ければよい。また、図1中の矢印は塗布液の流れを示すものである。
塗布膜形成直後の塗布膜は塗布液の温度をほぼそのまま維持しており、この状態で水蒸気含有気体を供給することで、(1)水蒸気の凝結、(2)溶媒の蒸発、(3)凝結した水分の蒸発といったプロセスが進行しやすくなり、多孔質状の薄膜を簡便で効率よく製造することが可能となる。
なお、本実施形態において塗布膜の形成方法としてディップコートを適用したが、特にこれに限定されるものではなく、多孔質膜の製造方法における塗布膜形成工程で例示した塗布膜の形成方法を適宜選定して採用することができる。
なお、本例において湿度を一定に保った水蒸気含有気体である恒湿空気は、アズワン(株)製エアポンプNUP2に三菱重工業(株)製加湿器ナノミストSHH55DDを接続して供給した。また、塗布層形成から加湿空気吹き付けまでの時間は10秒とした。また、水蒸気含有気体供給部であるエアノズルの直径は2.5cmであった。
さらに、塗布膜の温度は、EXERGEN社製非接触温度計IRt/cにより測定した。
AFM画像は、日本電子(株)製原子間力顕微鏡JSPM−5400を用いて得た。得られたAFM画像を画像処理することで、孔の面積の割合及び「孔の深さ/孔の径」を求めた。
分子量約320,000のポリスチレンを溶解した塩化メチレン溶液(ポリマー濃度として0.2質量%)を、下記表2に示す温度に冷却し、ディップコーターにて引き上げ速度4mm/secで、ガラス基板(幅1cm、長さ10cm、厚さ1mm 他の例についても同様)上に塗布膜を形成したのち、塗布膜表面に温度22℃相対湿度80%の恒湿空気を毎分300cm3の定常流量で送り、塩化メチレン溶媒及び水分を蒸発させることによって、多孔質膜を得た。
なお、図2(A)は実施例1に相当し、図2(B)は実施例2に相当する。図3(A)は実施例3に相当し、図3(B)は実施例4に相当する。図4(A)は実施例5に相当し、図4(B)は実施例6に相当する。
分子量約320,000のポリスチレンを溶解した塩化メチレン溶液(ポリマー濃度として0.2質量%)を、4℃に冷却し、ディップコーターにて引き上げ速度4mm/secで塗布膜を形成したのち、塗布膜表面に温度22℃相対湿度50%の恒湿空気を毎分300cm3の定常流量で送り、塩化メチレン溶媒及び水分を蒸発させることによって、多孔質膜を得た。
分子量約320,000のポリスチレンを溶解したクロロホルム溶液(ポリマー濃度として0.2質量%)を、4℃に冷却し、ディップコーターにて引き上げ速度4mm/secで塗布膜を形成したのち、塗布膜表面に温度22℃相対湿度80%の恒湿空気を毎分300cm3の定常流量で送り、クロロホルム溶媒及び水分を蒸発させることによって、多孔質膜を得た。
実施例1と同じ条件で、分子量約320,000のポリスチレンを溶解した塩化メチレン溶液(ポリマー濃度として0.2質量%)を、−2℃に調節した場合の薄膜表面をAFMで観察し実施例1と比較した。その結果、塗布層表面には肉眼で観察できる大きさの連続的な帯状の切れ目が形成され、孔は得られなかった。
実施例1と同じ条件で、分子量約320,000のポリスチレンを溶解した塩化メチレン溶液(ポリマー濃度として0.2質量%)を、11℃に調節した場合の薄膜表面をAFMで観察し実施例1と比較した。その結果、塗布層表面に孔は得られなかった。
実施例7と同じ条件で、塗布層表面に温度13℃相対湿度50%の恒湿空気を毎分300cm3の定常流量で送った場合の薄膜表面をAFMで観察し実施例7と比較した。その結果、塗布層表面に孔は得られなかった。
実施例3と同じ条件で、分子量約320,000のポリスチレンを溶解した親水性溶媒であるテトラヒドロフラン溶液(ポリマー濃度として0.2質量%)を4℃に調節した場合の薄膜表面をAFMで観察し実施例3と比較した。その結果、塗布層表面には肉眼で観察できる大きさの連続的な帯状の切れ目が形成され、孔は得られなかった。
12・・・塗布膜形成手段
14・・・支持体
16・・・ディップコーター
18・・・ディップ槽
20・・・塗布液
22・・・温度調整手段
22A・・・チラー
22B・・・熱交換器
24・・・送液ポンプ
26A,26B・・・流量調節バルブ
28・・・加湿装置
28A・・・水蒸気含有気体供給部
30・・・塗布膜
Claims (7)
- 有機化合物と疎水性有機溶媒とを含む塗布液を支持体上に塗布して、0℃以上10℃以下に調整された塗布膜を形成する塗布膜形成工程と、
前記塗布膜の温度より露点を高く調整した水蒸気を含む水蒸気含有気体を前記塗布膜に供給して、当該塗布膜上で前記水蒸気を凝結させ前記塗布膜を乾燥させる凝結・乾燥工程と、
を含む多孔質膜の製造方法。 - 前記塗布膜形成工程において、前記塗布液を支持体上に塗布する際の該塗布液の温度を0℃以上10℃以下とする請求項1に記載の多孔質膜の製造方法。
- 前記水蒸気含有気体の相対湿度を、40%以上95%以下とする請求項1又は2に記載の多孔質膜の製造方法。
- 前記多孔質膜の厚みが500nm以下である請求項1〜3のいずれか1項に記載の多孔質膜の製造方法。
- 前記凝結・乾燥工程において、前記塗布膜中の前記疎水性有機溶媒と前記凝結した水分とをこの順に段階的に蒸発させる請求項1〜4のいずれか1項に記載の多孔質膜の製造方法。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の多孔質膜の製造方法により製造される多孔質膜。
- 塗布液を所定温度に調整する温度調整手段と、
支持体上に、前記塗布液を塗布して塗布膜を形成する塗布膜形成手段と、
水蒸気を含む水蒸気含有気体を前記塗布膜に供給して、当該塗布膜上で前記水蒸気を凝結させ、前記塗布膜を乾燥させる凝結・乾燥手段と、を有し、
前記塗布膜形成手段により塗布膜が形成された直後に、当該塗布膜に前記水蒸気含有気体が供給されるように、前記凝結・乾燥手段の水蒸気含有気体供給部が設けられてなる多孔質膜製造装置。
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