JP2011086607A - ドナー基板及びそれを用いた有機電界発光素子の製造方法 - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 121
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 38
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims abstract description 25
- 229910000861 Mg alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 claims abstract description 12
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 251
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 33
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 18
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 16
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 16
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 claims description 8
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 5
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 5
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 claims description 5
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 claims description 5
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims description 4
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims 2
- 229910052976 metal sulfide Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 31
- 238000013518 transcription Methods 0.000 abstract description 6
- 230000035897 transcription Effects 0.000 abstract description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 description 55
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 19
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 18
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 18
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 14
- 230000008569 process Effects 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K tri(quinolin-8-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1 TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 5
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 5
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 4
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 4
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 4
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 3
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 3
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N Allylamine Chemical compound NCC=C VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000001017 electron-beam sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- UHXOHPVVEHBKKT-UHFFFAOYSA-N 1-(2,2-diphenylethenyl)-4-[4-(2,2-diphenylethenyl)phenyl]benzene Chemical compound C=1C=C(C=2C=CC(C=C(C=3C=CC=CC=3)C=3C=CC=CC=3)=CC=2)C=CC=1C=C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 UHXOHPVVEHBKKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXWWMGJBPGRWRS-CMDGGOBGSA-N 4- -2-tert-butyl-6- -4h-pyran Chemical compound O1C(C(C)(C)C)=CC(=C(C#N)C#N)C=C1\C=C\C1=CC(C(CCN2CCC3(C)C)(C)C)=C2C3=C1 HXWWMGJBPGRWRS-CMDGGOBGSA-N 0.000 description 1
- GMEQIEASMOFEOC-UHFFFAOYSA-N 4-[3,5-bis[4-(4-methoxy-n-(4-methoxyphenyl)anilino)phenyl]phenyl]-n,n-bis(4-methoxyphenyl)aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N(C=1C=CC(=CC=1)C=1C=C(C=C(C=1)C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC(OC)=CC=1)C=1C=CC(OC)=CC=1)C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC(OC)=CC=1)C=1C=CC(OC)=CC=1)C1=CC=C(OC)C=C1 GMEQIEASMOFEOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWXGSYPUMWKTBR-UHFFFAOYSA-N 4-carbazol-9-yl-n,n-bis(4-carbazol-9-ylphenyl)aniline Chemical compound C12=CC=CC=C2C2=CC=CC=C2N1C1=CC=C(N(C=2C=CC(=CC=2)N2C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C32)C=2C=CC(=CC=2)N2C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C32)C=C1 AWXGSYPUMWKTBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000837344 Homo sapiens T-cell leukemia translocation-altered gene protein Proteins 0.000 description 1
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N Stilbene Natural products C=1C=CC=CC=1/C=C/C1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- 102100028692 T-cell leukemia translocation-altered gene protein Human genes 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- COOGPNLGKIHLSK-UHFFFAOYSA-N aluminium sulfide Chemical compound [Al+3].[Al+3].[S-2].[S-2].[S-2] COOGPNLGKIHLSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFVXQDWNSAGPHN-UHFFFAOYSA-K bis[(2-methylquinolin-8-yl)oxy]-(4-phenylphenoxy)alumane Chemical compound [Al+3].C1=CC=C([O-])C2=NC(C)=CC=C21.C1=CC=C([O-])C2=NC(C)=CC=C21.C1=CC([O-])=CC=C1C1=CC=CC=C1 UFVXQDWNSAGPHN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000000313 electron-beam-induced deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000007857 hydrazones Chemical class 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical compound C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000009987 spinning Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021286 stilbenes Nutrition 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/048—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using irradiation by energy or particles
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/10—Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/18—Deposition of organic active material using non-liquid printing techniques, e.g. thermal transfer printing from a donor sheet
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- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明は、基材フィルムと、上記基材フィルム上に形成される光熱変換層と、上記光熱変換層の上部に形成されるバッファ層と、上記バッファ層上に形成される転写層とを含み、上記バッファ層は、マグネシウム(Mg)、マグネシウム合金(Mg−Alloy)またはマグネシウム酸化物からなることを特徴とするレーザ転写用ドナー基板及び上記ドナー基板を用いた有機電界発光素子の製造方法を提供する。
したがって、本発明は、レーザ転写用ドナー基板において中問層と転写層との間または光熱変換層と転写層との間にバッファ層を形成することで、ドナー基板と転写物質の表面特性を向上させることができる。
【選択図】図5
Description
32 光熱変換層
33 転写層
34 ドナー基板
35 中問層
36 バッファ層
Claims (18)
- 基材フィルムと、
前記基材フィルム上に形成される光熱変換層と、
前記光熱変換層の上部に形成されるバッファ層と、
前記バッファ層上に形成される転写層と、を含み、
前記バッファ層は、マグネシウム(Mg)、マグネシウム合金(Mg−Alloy)またはマグネシウム酸化物からなることを特徴とするレーザ転写用ドナー基板。 - 前記バッファ層は、厚さが1μm以下であることを特徴とする、請求項1に記載のレーザ転写用ドナー基板。
- 前記バッファ層は、レーザビーム透過率が20%以下であることを特徴とする、請求項1に記載のレーザ転写用ドナー基板。
- 前記光熱変換層は、レーザ光吸収物質が含まれている有機膜、または金属、金属の酸化物、金属の硫化物及びこれらの複合層からなる金属化合物のうちの1種の物質であることを特徴とする、請求項1に記載のレーザ転写用ドナー基板。
- 前記光熱変換層上に形成される中問層をさらに含み、前記バッファ層は前記中問層上に形成されることを特徴とする、請求項1に記載のレーザ転写用ドナー基板。
- 前記中問層は、アクリル樹脂またはアルキド樹脂からなることを特徴とする、請求項5に記載のレーザ転写用ドナー基板。
- 前記転写層は、発光層、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層及び電子輸送層の有機膜からなる群より選択される1つの単層膜または1つ以上の多層膜に形成されることを特徴とする、請求項1に記載のレーザ転写用ドナー基板。
- 基材フィルム、光熱変換層、バッファ層及び転写層を含むレーザ転写用ドナー基板において、
前記転写層は前記バッファ層上に形成され、前記バッファ層はマグネシウム(Mg)、マグネシウム合金(Mg−Alloy)またはマグネシウム酸化物からなることを特徴とする、レーザ転写用ドナー基板。 - 前記バッファ層は、厚さが1μm以下であることを特徴とする、請求項8に記載のレーザ転写用ドナー基板。
- 前記バッファ層は、レーザビーム透過率が20%以下であることを特徴とする、請求項8に記載のレーザ転写用ドナー基板。
- 前記光熱変換層は、レーザ光吸収物質が含まれている有機膜、または金属、金属の酸化物、金属の硫化物及びこれらの複合層からなる金属化合物のうちの1種の物質であることを特徴とする、請求項8に記載のレーザ転写用ドナー基板。
- 前記光熱変換層上に形成される中問層をさらに含み、前記バッファ層は前記中問層上に形成されることを特徴とする、請求項8に記載のレーザ転写用ドナー基板。
- 前記中問層は、アクリル樹脂またはアルキド樹脂からなることを特徴とする、請求項12に記載のレーザ転写用ドナー基板。
- 前記転写層は、発光層、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層及び電子輸送層の有機膜からなる群より選択される1つの単層膜または1つ以上の多層膜に形成されることを特徴とする、請求項8に記載のレーザ転写用ドナー基板。
- 下部電極が形成された素子基板を提供する段階と、
前記素子基板から離隔されて位置し、基材フィルム、前記基材フィルム上に光熱変換層、バッファ層及び転写層を含むドナー基板を前記転写層が前記素子基板を向けるように配置する段階と、
前記ドナー基板の所定領域にレーザを照射して、前記転写層を前記下部電極上に転写して前記下部電極上に有機膜パターンを形成する段階と、を含み、
前記転写層は前記バッファ層上に形成され、前記バッファ層はマグネシウム(Mg)、マグネシウム合金(Mg−Alloy)またはマグネシウム酸化物からなることを特徴とする、有機電界発光素子の製造方法。 - 前記光熱変換層上に形成される中問層をさらに含み、前記バッファ層は前記中問層上に形成されることを特徴とする、請求項15に記載の有機電界発光素子の製造方法。
- 前記中問層は、アクリル樹脂またはアルキド樹脂からなることを特徴とする、請求項16に記載の有機電界発光素子の製造方法。
- 前記転写層は、発光層、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層及び電子輸送層の有機膜からなる群より選択される1つの単層膜または1つ以上の多層膜に形成されることを特徴とする、請求項15に記載の有機電界発光素子の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2009-0097435 | 2009-10-13 | ||
KR1020090097435A KR101073559B1 (ko) | 2009-10-13 | 2009-10-13 | 도너 기판 및 그를 이용한 유기전계발광소자의 제조방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011086607A true JP2011086607A (ja) | 2011-04-28 |
JP5336437B2 JP5336437B2 (ja) | 2013-11-06 |
Family
ID=43854128
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010163738A Active JP5336437B2 (ja) | 2009-10-13 | 2010-07-21 | ドナー基板及びそれを用いた有機電界発光素子の製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8575649B2 (ja) |
JP (1) | JP5336437B2 (ja) |
KR (1) | KR101073559B1 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013143377A (ja) * | 2012-01-09 | 2013-07-22 | Samsung Display Co Ltd | ドナーフィルム及びこれを用いた有機発光表示装置の製造方法、並びにこれを用いて製造された有機発光表示装置 |
JP2014067993A (ja) * | 2012-09-24 | 2014-04-17 | Samsung Display Co Ltd | 有機発光素子、有機発光表示パネル、及び有機発光表示パネルの製造方法 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A711 | Notification of change in applicant |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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