JP2011085585A - 組織試料を処理する装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】組織試料を処理する装置(20)は、組織試料を取り入れ、処理するプロセス空間(22)を有する。室(34)がプロセス空間(22)と連通する。少なくとも1つの充填レベルセンサ(28、30、32)が該室(34)内の液体の充填レベルを表す測定値を検知する。計算ユニットが、該室(34)内の液体の充填レベルに依存し、プロセス空間(22)内の液体の充填レベルを検出する。
【選択図】図1
Description
特に組織試料である試料は、基本的に試薬を用いて処理され、その後、顕微鏡を使って検査できるように薄片へ切断される。これらの組織試料は、好ましくは組織処理装置(ないし組織プロセッサ)内で部分自動又は完全自動で処理され、特に相前後して異なる試薬につけられる。この際、組織試料は、組織試料を処理する装置、特にレトルト(ないし処理容器)内へ取り入れられる。それに続いてレトルトは、組織試料が適切な試薬に浸漬されるように、組織試料の洗浄、脱水、固定のために相前後して異なる試薬で満たされる。ほぼ各プロセスステップにおいて、組織試料が完全に試薬で覆われ、それにより各々の試薬に完全に浸漬されることが重要である。従ってレトルト内には基本的に充填レベルセンサが配置されている。これらの充填レベルセンサは、洗浄工具、又は組織試料を収容する籠状部材により損傷されることがある。更に籠状部材により充填レベル測定が誤った測定値を生ずることがある。
特許文献1は、プロセス空間を有する組織処理装置を示し、この組織処理装置は、充填レベルセンサが配置されている室と連通している。充填レベルセンサは、該室の異なる側面に各々配置されている超音波送信機と超音波受信機を含んでいる。
(形態1)前記基本構成1を参照。
(形態2)前記形態1の装置において、前記室は、プロセス空間の壁部に形成されていることが好ましい。
(形態3)前記形態1又は2の装置において、前記室は、穴あき板によりプロセス空間とは区切られていることが好ましい。
(形態4)前記基本構成2を参照。
(形態5)前記形態4の装置において、規定角度は、50°よりも大きく60°よりも小さいことが好ましい。
(形態6)前記基本構成3を参照。
(形態7)前記形態6の装置において、加熱装置は、プロセス空間の壁部の穴に配置されていることが好ましい。
(形態8)前記形態6又は7の装置において、加熱装置は、充填レベルセンサの上方に配置されている第1加熱要素、及び/又は充填レベルセンサの下方に配置されている第2加熱要素を含んでいることが好ましい。
(形態9)前記形態1〜5のいずれか一形態の装置において、充填レベルセンサは、前記室においてプロセス空間の壁部に対して規定角度で配置されていることが好ましい。
(形態10)前記形態4〜8のいずれか一形態の装置において、充填レベルセンサは、プロセス空間の壁部に対して規定角度で配置されていて、加熱装置を使って加熱されることが好ましい。
(形態11)前記形態1〜3のいずれか一形態、又は前記形態6〜8のいずれか一形態の装置において、充填レベルセンサは、前記室に配置されていて、加熱装置を使って加熱されることが好ましい。
(形態12)前記形態1〜11のいずれか一形態の装置において、充填レベルセンサは、前記室においてプロセス空間の壁部に対して規定角度で配置されていて、加熱装置を使って加熱されることが好ましい。
(形態13)前記形態1〜12のいずれか一形態の装置において、少なくとも3つの充填レベルセンサが上下に配置されていることが好ましい。
(形態14)前記形態12の装置において、少なくとも4つの充填レベルセンサが上下に配置されていて、そのうちの最上位の充填レベルセンサが、プロセス空間のオーバーフローを回避するための安全センサとして設けられていることが好ましい。
本発明は、第1の視点に従い、プロセス空間と連通する室(凹部ないしチャンバ)により特徴付けられている。該室内の液体の充填レベルを表す測定値を検知するために少なくとも1つの充填レベルセンサが設けられている。計算ユニットが、該室内の液体の充填レベルに依存し、プロセス空間内の液体の充填レベルを検出する。この際、特に、該室は、プロセス空間の壁部に形成されていること、及び、該室は、穴あき板によりプロセス空間とは区切られていることが好ましい。
22 プロセス空間
24 カバー
26 最上位の充填レベルセンサ
28 第1充填レベルセンサ
30 第2充填レベルセンサ
31 加熱装置
32 第3充填レベルセンサ
34 室(凹部)
36 下方の充填ライン
38 中間の充填ライン
40 籠状部材
42 上方の充填ライン
44 最大の充填ライン
Claims (12)
- 組織試料を処理する装置であって、
組織試料を取り入れ、処理するプロセス空間(22)と、
該プロセス空間(22)と連通する室(34)と、
該室(34)内の液体の充填レベルを表す測定値を検知するための少なくとも1つの充填レベルセンサ(28、30、32)と、
該室(34)内の液体の充填レベルに依存し、プロセス空間(22)内の液体の充填レベルを検出する計算ユニットとを有すること、
該室(34)は、プロセス空間(22)の壁部に形成されていること、及び、
該室(34)は、穴あき板(24)によりプロセス空間(22)とは区切られていること
を特徴とする装置。 - 組織試料を処理する装置であって、
組織試料を取り入れ、処理するプロセス空間(22)と、
該プロセス空間(22)内の液体の充填レベルを表す測定値を検知するための少なくとも1つの充填レベルセンサ(28、30、32)とを有し、
該充填レベルセンサの縦軸線がプロセス空間(22)の壁部と90°よりも小さい規定角度をもって交わること
を特徴とする装置。 - 規定角度は、50°よりも大きく60°よりも小さいこと
を特徴とする、請求項2に記載の装置。 - 組織試料を処理する装置であって、
組織試料を取り入れ、処理するプロセス空間(22)と、
測定値が該プロセス空間(22)内の液体の充填レベルを表す少なくとも1つの充填レベルセンサ(28、30、32)と、
該充填レベルセンサ(28、30、32)を加熱する加熱装置(31)とを有すること
を特徴とする装置。 - 加熱装置(31)は、プロセス空間(22)の壁部の穴に配置されていること
を特徴とする、請求項4に記載の装置。 - 加熱装置(31)は、充填レベルセンサ(28、30、32)の上方に配置されている第1加熱要素、及び/又は充填レベルセンサ(28、30、32)の下方に配置されている第2加熱要素を含んでいること
を特徴とする、請求項4又は5に記載の装置。 - 充填レベルセンサ(28、30、32)は、前記室(34)においてプロセス空間(22)の壁部に対して規定角度で配置されていること
を特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の装置。 - 充填レベルセンサ(28、30、32)は、プロセス空間(22)の壁部に対して規定角度で配置されていて、加熱装置(31)を使って加熱されること
を特徴とする、請求項2〜6のいずれか一項に記載の装置。 - 充填レベルセンサ(28、30、32)は、前記室(34)に配置されていて、加熱装置(31)を使って加熱されること
を特徴とする、請求項1、2、4〜6のいずれか一項に記載の装置。 - 充填レベルセンサ(28、30、32)は、前記室(34)においてプロセス空間(22)の壁部に対して規定角度で配置されていて、加熱装置(31)を使って加熱されること
を特徴とする、請求項1〜8のいずれか一項に記載の装置。 - 少なくとも3つの充填レベルセンサ(28、30、32)が上下に配置されていること
を特徴とする、請求項1〜10のいずれか一項に記載の装置。 - 少なくとも4つの充填レベルセンサ(26、28、30、32)が上下に配置されていて、そのうちの最上位の充填レベルセンサが、プロセス空間(22)のオーバーフローを回避するための安全センサとして設けられていること
を特徴とする、請求項11に記載の装置。
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