JP2011068556A - 気泡の形成を低減させながらガラス溶融物からガラスを製造するための方法および装置 - Google Patents
気泡の形成を低減させながらガラス溶融物からガラスを製造するための方法および装置 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】ガラス溶融物FSを交流電流により加熱するために前記ガラス溶融物FS中に伸長する電極を使用し、前記ガラス溶融物FS中に直流電流が生じ、前記直流電流が前記ガラス溶融物FS中の気泡の形成の臨界となるしきい値を超過する電流密度を有するような低含有量のレドックス緩衝剤を含むガラス溶融物FSを使用し、気泡の形成を低減または防止するため、加熱用交流電流の動作周波数を最小周波数に調整し、それにより、生じている電流密度が臨界しきい値より下に留まる、製造方法。
【選択図】図1
Description
本発明により、少なくとも二次気泡の発生は非常に効果的に、検出、防止または低減することができ、その際の気泡には、例えばO2、SO2、N2またはCO2の気泡があり得る。気泡は低濃度の酸化物清澄剤(5000ppm未満)または非酸化物清澄剤(硫酸塩、塩化物など)を含むガラス中で生じやすい。周波数を減少する間、電流に関連するかまたは電流が原因の二次気泡の形成が増加するリスクを考慮に入れなければならない。
−ガラス溶融物を交流電流により加熱するためにガラス溶融物中に伸長する電極;
−ガラス溶融物中の気泡の形成の臨界となるしきい値を超える電流密度でガラス溶融物中に直流電流が生じるように、ガラス溶融物が低含有量でレドックス緩衝剤を有する。
−ガラスの気泡形成を低減するために、加熱用交流電流の動作周波数を最小周波数に適合させ、これにより、発生する電流密度を臨界しきい値より下に留める。
ガラス溶融物FSが供給され、第一セクションまたは領域(左側、溶融領域)および第二領域(右側、精製領域)を有する溶融タンクW。溶融タンクSWの内壁は、例えば白金で被覆されている。同様に内面が白金で被覆され、それを通して精製されたガラス溶融物FSがるつぼRTに供給される供給チャネルSRがそれに付随する。このるつぼは金属で被覆された攪拌ロッドRSを備える。これらの製造ユニットは電流を印加することができ、それにより熱的な気泡の形成に加えて電流に関連する気泡の形成も生じ得る。
・導電性材料の種類。この点で、特にPt、Pt合金、Irおよび他の貴金属は決定的である。Mo、W、SnO2は通常臨界電流密度がより高い。
・電流の周波数。より高い周波数は臨界電流密度がより高い。
・ガラスの基本組成。
・ガラス中のドーピング。溶融物が、例えば以下の元素の酸化物(Sn、As、SB、Bi、V、Nb、Cr、Mo、W、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Eu、Ce)を含む場合は、臨界電流密度はそのようなドーピングのないガラスの密度を超える。
ユニットまたは集合体(aggregate)中でしばらくの間ガラスが既に溶けた状態であり、かつ、例えば50Hzの低周波数を使用しても二次気泡が存在しない限りは、本発明は適用する必要はない。このことは、前記元素の酸化物などの適当な清澄剤をガラスが使用している場合、および、設備が、その特定のガラスの臨界電流密度が発生しないか、発生しづらいように構成されるか、設計されている場合にも、同様に真実である。
−制御方法や条件が変更され、現状がもはや許容されなくなった場合に、ガラスに添加する具体的なドーピングを変える必要が生じている。
−制御条件(process window)またはパラメータが未知の新しい組成を溶融させなければならない。
−新たな要求に応えるため、現状のタンクをある程度まで変更する必要がある。
−加熱に使用する交流電流の電流密度が高すぎる場合には、交流電流の周波数を増加させなければならない。
−加熱用電流の周波数の増加が十分でないか、高いレベルに調整できない場合には、適当な逆電圧(直流電圧)を、臨界直流電流密度を超過することの影響を止めるために印加する。これらの対策は、上記の対策に加えて適用し得る。
ガラス溶融物FS’中には、この例では温度センサーTSとして使用する参照電極TSも配置される。参照電極または例えばZrO2で被覆されるプローブには、2の測定装置EMKおよびEMK*のコネクターまたは端子が接続される。第一測定装置EMKの一方の端子はるつぼTGに接続され、これは対極を表わす。第二測定装置EMK*の別の端子は、回転電極ESおよびそのディスクに接続する。
ガラス中の電流に関連する二次気泡の形成を引き起こす可能性のある臨界電流密度(白金における)の典型的な値は、DC電流について例えば5〜500μA/cm2である。50Hzの交流電流により加熱が行われる場合には、電流密度はかなり高くなる(例えば5〜500μA/cm2)。これは、加熱するために、100〜5000アンペアの範囲もしくはそれ以上の加熱用電流(交流電流)を使用するためである。金属部材の幾何学的配置(geometry)によっては、電流密度はμAの範囲で非常に急速である。さらに、整流効果は、金属部材の表面での化学反応をもたらす。このことは、交流電流の一部が最終的に二次気泡の形成の原因となるDC電流に移行するか変換されることを意味する。
−第一に、臨界電流密度が測定される(図2中工程110参照)。そのために、印加する交流電流が測定され(電流クランプによって)、同時に分路を介して整流により交流電流から発生するDC電流が測定される。したがって、高交流電流と低DC電流の同時測定が達成される。
回転電極(測定電極としてのディスク)によるガラス流シミュレーション。
−加熱は要求される電流周波数に適合させる。
−エネルギー分配は臨界電流密度が防止されるように変える。
FS Fiolax(登録商標)(Schott社の登録商標)を含むガラス溶融物
以下の形式の製造ユニット:
SW 溶融タンク、SR 供給チャネル、
RT 攪拌るつぼ、RS 攪拌ロッド
100 気泡形成を防止する方法であり、以下の工程110、120および130を含む:
110 制御条件(材料特有のパラメータ)の決定
120 シミュレーション/製造ユニットの構成または集合体(システム特有のパラメータ)
130 運転中のパラメータのモニターおよび適合
MA電流密度を決定するための測定配置
TG 容器、ここではるつぼが使用される(対極として機能する白金で被覆された)
OF 炉の加熱
K セラミックス
E (回転)ディスクESを有する電極
TS 参照電極(組み込み熱センサー含む)
M アクチュエーターまたはドライブ、ギアボックスを備える電気モーターが使用される
LE 電源(電源ユニット)
R 測定抵抗(分路)
IAC 交流電流
IDC 測定電流(DC成分)
EMK るつぼの起電力を測定するための測定装置
EMK* 電極の起電力を測定するための測定装置
Temp ガラス溶融物の温度
pO2 るつぼにおける酸素分圧
pO2* 回転ディスクにおける酸素分圧
RA 管部分
GF ガラス流
HF、HF’ 加熱フランジ
KM、KM’ 追加の接続
Claims (21)
- ガラス溶融物(FS)が供給される少なくとも1の製造ユニット(SW、SR、RT、RS)を運転することによるガラスの製造方法であって、前記ガラス溶融物を交流電流により加熱するために前記ガラス溶融物中に伸長する電極を使用し、前記ガラス溶融物中に直流電流が生じ、前記直流電流が前記ガラス溶融物中の気泡の形成の臨界となるしきい値を超過する電流密度を有するような低含有量のレドックス緩衝剤を含むガラス溶融物(FS)を使用し、気泡の形成を低減または防止するため、加熱用交流電流の動作周波数を最小周波数に調整し、それにより、生じている電流密度が臨界しきい値より下に留まる、製造方法。
- 加熱用交流電流の動作周波数が100Hz(Hertz)より高い最小周波数、特に1000Hzよりも高い周波数に調整される、請求項1に記載の方法。
- 発生する直流電流密度が500mA/cm2(milli−amperes per square centimeter)未満の臨界しきい値よりも小さい、請求項1または2に記載の方法。
- 前記ガラス溶融物が5000ppm(parts per million)未満の量のレドックス緩衝剤を有する、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
- 直流電圧が前記ガラス溶融物と接触している電極に供給され、前記電圧は前記ガラス溶融物中で発生している直流電流を相殺する補償直流電流を生じる、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
- 前記ガラス溶融物中に前記気泡の形成に臨界となるしきい値を前記密度が超過するような直流電流密度が生じているかどうかについて検査を行う、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
- ガラス溶融物(FS)が供給される少なくとも1の製造ユニット(SW、SR、RT、RS)によってガラスを製造する装置であって、前記装置は、交流電流により加熱するための前記ガラス溶融物中に伸長する電極を含み、少なくとも1の製造ユニット(SW、SR、RT、RS)は、前記ガラス溶融物中に直流電流が発生し、前記直流電流は前記ガラス溶融物中で気泡の形成に臨界となるしきい値を超過する電流密度を有するように、低含有量でレドックス緩衝剤を含むガラス溶融物(FS)が供給され、気泡の形成を低減するために電極に最小周波数に調整された動作周波数を有する加熱用交流電流が供給され、それにより、発生する電流密度が臨界しきい値より下に留まる、装置。
- ガラス溶融物(FS)が供給される少なくとも1の製造ユニット(SW、SR、RT、RS)の運転中に、気泡の形成を低減または防止するためのモニター方法(100)であって、交流電流により加熱するために前記ガラス溶融物中に伸長する電極を使用し、5000ppm(工程120)未満の含有量のレドックス緩衝剤を含むガラス溶融物(FS)を使用する場合に、前記ガラス溶融物中に、前記気泡の形成にとって臨界しきい値を超過するような直流電流密度が発生しているかどうかを検査する(工程130)、モニター方法。
- 以下の元素:Sn、As、Sb、Bi、V、Nb、Cr、Mo、W、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、EuおよびCeの酸化物を単独でまたは組み合わせてレドックス緩衝剤として使用する(工程120、130)、先行する請求項のいずれか一項に記載のモニター方法(100)または方法。
- 一以上の清澄剤が前記ガラス溶融物(FS)に添加される、特に、ハロゲン化物、塩化物、フッ化物、臭化物および/または硫酸塩が添加される、先行する請求項のいずれか一項に記載のモニター方法(100)または方法。
- 少なくとも1の製造ユニットが、溶融タンクまたは炉(SW)、供給チャネル(SR)、るつぼ(RT)および/または攪拌ロッド(RS)を含む、先行する請求項のいずれか一項に記載のモニター方法(100)または方法。
- 臨界しきい値が、前記ガラス溶融物の試料(FS’)を入れる金属容器(TG)、前記試料中に伸長する電極(ES)および交流電圧を発生する電源(LE)を備える測定配置(MA)によって決定され、測定回路を形成するために(工程110)電源の第一極が前記電極(ES)に接続され、第二極が金属容器(TG)に接続される、請求項8〜11のいずれか一項に記載のモニター方法(100)または方法。
- 臨界しきい値を決定するために測定分路(R)が使用され、分路は前記測定回路に統合され、整流効果(工程110)によってガラス溶融物の前記試料(FS’)中に発生する直流電流(IDC)を測定し、前記測定回路を通ってまたはその中を流れる交流電流(IAC)を測定し、交流電流は加熱用電流に相当し、直流電流(IDC)および交流電流(IAC)の相互依存性は、特に前記電源(LE)によって発生する交流電流の振幅および/または周波数の変化中に特定される(工程10)、請求項12に記載のモニター方法(100)または方法。
- 前記電極(ES)とガラス溶融物の前記試料(FS’)中に伸長する参照電極(TS)との間に発生する起電力(EMK*)が測定され、起電力は前記電極(ES)における気泡の発生を検出するために測定され、特に臨界しきい値(工程110)を決定するために気泡の発生中の直流電流(IDC)を測定する、請求項12または13に記載のモニター方法(100)または方法。
- 前記測定配置(MA)によって決定される前記臨界しきい値によって、前記ガラス溶融物中(FS)の気泡の形成を決定するためのシミュレーションが、前記少なくとも1の製造ユニット(SW、SR、RT、RS)の運転中に実施される(工程120)、請求項12または13に記載のモニター方法(100)または方法。
- 前記測定配置(MA)によって決定される前記臨界しきい値によって、前記少なくとも1の製造ユニット(SW、SR、RT、RS)の運転のための構成(configuration)が実施され(工程120)、特に前記ガラス溶融物中(FS)の加熱エネルギー分配および/または各製造ユニット(SW、SR、RT、RS)中の部材の寸法決定(dimensioning)の構成を実施し(工程120)、特に少なくとも1の製造ユニット(SW、SR、RT、RS)の運転のために決定した臨界電流密度によって、前記ガラス溶融物(FS)を加熱する交流電流の動作周波数の基準値が決定される(工程120)、先行する請求項のいずれか一項に記載のモニター方法(100)または方法。
- ガラス溶融物(FS)が供給される少なくとも1の製造ユニット(SW、SR、RT、RS)の動作中に気泡の形成を低減または防止するためのモニター装置であって、前記装置は交流電流により加熱するために前記ガラス溶融物中に伸長する電極を含み、5000ppm未満の含有量のレドックス緩衝剤を含むガラス溶融物(FS)を使用する場合に、前記装置は前記ガラス溶融物中に直流電流が発生しているかどうかおよび前記電流が前記気泡の形成に臨界となるしきい値を超過する電流密度を有するかどうかを検査する、モニター装置。
- 前記装置が前記ガラス溶融物(FS)中に伸長する電極(ES)および交流電圧を発生する電源(LE)を有する測定配置(MA)を含み、直流電流を測定する測定回路を形成するために、電源の第一極は前記電極(ES)に接続され、第二極は少なくとも1の製造ユニット(SW、SR、RT、RS)の金属部材、特に容器(TG)に接続され、測定された直流電流の電流密度が臨界しきい値を超える場合には、特に前記モニター装置は少なくとも1の製造ユニット(SW、SR、RT、RS)の動作周波数を、特に100Hzを超える値まで増加する、請求項17に記載のモニター装置。
- 前記装置は前記ガラス溶融物(FS)と接触している電極に直流電圧を供給し、電流密度が前記臨界しきい値を超過する場合には、前記電圧は前記ガラス溶融物中に前記直流電流とは逆の補償直流電流を発生する、先行する請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 前記装置は交流電流により(VAC)加熱される管状部材(RA)に接続され、交流電圧は前記部材(RA)、特にそこに設けられたフランジ(HF、HF’)の末端に供給され、前記装置は各末端に直流電圧を供給し、逆電圧(VDC1、VDC2)として、各電圧が前記末端、特に前記フランジ(HF、HF’)の一方と、前記部材(RA)の長さの中間に、特に軸対称に配置された接続(KM)との間に供給される、請求項19に記載のモニター装置。
- 前記装置が部材(RT)およびその中に配置された攪拌部材(RS)に接続され、交流電圧が前記部材(RA)の末端、特にそこに設けられたフランジ(HF、HF’)に供給され、前記装置は、各末端に直流電圧を供給し、逆電圧(VDC1、VDC2)として、各電圧は前記末端の一方、特に前記フランジ(HF、HF’)の一方と、攪拌部材(RS)と部材(RT)の内壁との間の距離の一点に配置された接続(KM’)との間に供給され、該一点は壁の間隔がもっとも小さい、請求項19に記載の装置またはモニター装置。
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