JP2011054965A - バンプを備えた印刷回路基板及びその製造方法 - Google Patents

バンプを備えた印刷回路基板及びその製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】外部連結端子としての機能を遂行することができるバンプの形成を、追加的な工程なしに一回の工程で内層回路層とともに形成させるバンプを備えた印刷回路基板及びその製造方法を提供する。また、バンプに追加的に半田ボールを結合する場合、半田ボールと印刷回路基板間の接合強度が大きいバンプを備えた印刷回路基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、バンプを備えた印刷回路基板及びその製造方法に関するもので、内層回路層102が含浸された絶縁層106、絶縁層106に形成され、内層回路層102のうちパッド部103を露出させる開口部105を有する保護層101、及びパッド部103と一体に形成され、開口部105を通じて保護層101の内側方向から保護層101の外部に突出されるように形成されたバンプ104、を含む。
【選択図】図2

Description

本発明は、バンプを備えた印刷回路基板及びその製造方法に関する。
最近、電子製品は、多機能化及び高速化の趨勢が早い速度で進行されている。このような趨勢に応じるべく、半導体チップ、及び半導体チップと主基板を連結させる半導体チップ実装印刷回路基板も非常に早い速度で発展している。
このような半導体チップ実装印刷回路基板の発展に要求される事項は、半導体チップ実装印刷回路基板の高速化及び高密度化と密接に連関されていて、これらを満足させるため、印刷回路基板の軽薄短小化、微細回路化、優れた電気的特性、高信頼性、高速信号伝逹構造など、半導体チップ実装印刷回路基板の多くの改善及び発展が必要な実情である。
一方、従来は、内部にコア層を挿入し、印刷回路基板の歪み現象(Warpage)を防止するコア基板が主に用いられてきた。しかし、コア基板の場合、厚さが厚くて信号処理時間が長いという問題点があった。これにより、印刷回路基板の発展による薄板化に応じるべく、コア層を取り除いて全体的な厚さを減らすことによって、信号処理時間を短縮することができるコアレス基板が注目されている。
図1は、従来技術による印刷回路基板の断面図である。以下、これを参照してその製造方法を説明すると、以下の通りである。
図1に図示したように、従来の印刷回路基板は、絶縁層5、前記絶縁層5上に形成され、パッド部3を含む回路層4、印刷回路基板の最外層に形成され、回路層4を保護する半田レジスト層2、及びパッド部3と連結され、外部素子と印刷回路基板の間を連結する半田ボール1を含んで構成される。
上述のように構成された印刷回路基板の製造方法は、次の通りである。
まず、キャリア(未図示)上に多層または単層の絶縁層5及び回路層4を積層する。
次に、最外層に形成されて回路層4を取り囲むように形成された半田レジスト層2を形成する。
そして、半田レジスト層2のパッド部3を露出させる開口部を加工する。
更に、半田ペーストの印刷、リフロー工程を経て半田ボール1を形成する。
最後に、キャリアを取り除いて半田ボールを備えた印刷回路基板の製作を完了する。
しかし、従来のような印刷回路基板の場合、半田ボール1を形成するために、半田レジスト層2のパッド部3を外部に露出させる開口部を形成する工程、及び半田ペーストを印刷してリフローする工程を経なければならないため、製造工程及び製造コストが増加するという問題点があった。
また、半田ボール1は、パッド部3のみによって支持されるため、半田ボール1と印刷回路基板間の接合強度が弱くて、半田ボール1が剪断力などの外力によって破壊されたり、剪断力の方向に歪むという問題点があった。
本発明は、上述のような従来技術の問題点を解決するために導き出されたものであり、本発明の目的は、外部連結端子としての機能を遂行することができるバンプの形成を、追加的な工程なしに一回の工程で内層回路層とともに形成させるバンプを備えた印刷回路基板及びその製造方法を提供することにある。
本発明の他の目的は、バンプに追加的に半田ボールを結合する場合、半田ボールと印刷回路基板間の接合強度が大きいバンプを備えた印刷回路基板及びその製造方法を提供することにある。
本発明の好ましい第1実施例によるバンプを備えた印刷回路基板は、内層回路層が含浸された絶縁層、前記絶縁層に形成され、前記内層回路層のうちパッド部を露出させる開口部を有する保護層、及び前記パッド部と一体に形成され、前記開口部を通じて前記保護層の内側方向から前記保護層の外部に突出されるように形成されたバンプ、を含むことを特徴とする。
ここで、前記バンプの突出された表面積は、前記保護層の前記開口部の面積より広いことが好ましい。
また、前記バンプは、前記保護層の外側方向に長く形成された電気接続用ピンの形状を有することが好ましい。
更に、前記保護層は、半田レジスト層であることが好ましい。
そして、前記内層回路層及び前記バンプは、メッキされて形成されたことが好ましい。
また、前記バンプの外部に突出された面に形成された金属層をさらに含むことが好ましい。
本発明の好ましい第2実施例によるバンプを備えた印刷回路基板は、内層回路層が含浸された絶縁層、前記絶縁層に形成され、前記内層回路層のうちパッド部を露出させる開口部を有する保護層、前記パッド部と一体に形成され、前記開口部に形成されたバンプ、及び前記バンプの上面に結合された電気接続用ピンを含むことを特徴とする。
ここで、前記バンプと前記電気接続用ピンは、メッキ結合されることが好ましい。
本発明の好ましい第3実施例によるバンプを備えた印刷回路基板は、内層回路層が含浸された絶縁層、前記絶縁層に形成され、前記内層回路層のうちパッド部を露出させる開口部を有する保護層、前記パッド部と一体に形成され、前記開口部を通じて前記保護層の内側方向から前記保護層の外部に突出されるように形成されたバンプ、及び前記保護層に含浸され、一面が前記保護層の外部に露出された外層回路層、を含むことを特徴とする。
ここで、前記外層回路層は、端子部、ダミーパターン、または端子部及びダミーパターン全てを含むことが好ましい。
本発明の好ましい第1実施例によるバンプを備えた印刷回路基板の製造方法は、(A)一面に形成された保護層を含んで溝が形成されたキャリアを提供する段階、(B)前記溝にバンプを形成し、前記バンプの形成と同時に前記保護層上に前記バンプと連結されるパッド部を含む内層回路層を形成する段階、(C)前記内層回路層が絶縁層に含浸されるように、前記絶縁層を前記内層回路層が形成された前記保護層に積層する段階、及び(D)前記キャリアを取り除く段階を含むことを特徴とする。
この際、前記(A)段階は、(A1)第1離型層が形成されたキャリアを提供する段階、(A2)前記キャリア上に保護層を形成する段階、(A3)前記保護層を含んで前記キャリアに溝を加工する段階、及び(A4)前記溝の内周面に金属層を形成する段階を含むことが好ましい。
このとき、前記(B)段階で、前記バンプは、電気接続用ピンの形状を有することが好ましい。
そして、前記キャリアの内部にストッパー層がさらに含まれることが好ましい。
また、前記ストッパー層は、金属またはセラミックスで構成されたことが好ましい。
更に、前記保護層の前記開口部の面積より、前記溝に形成された前記バンプの表面積を広く形成することが好ましい。
また、前記(B)段階で、前記バンプと前記内層回路層は、メッキ工程によって形成されることが好ましい。
このとき、前記保護層は、半田レジスト層であることが好ましい。
また、前記(A)段階は、(A1)キャリアに保護層を形成する段階、及び(A2)前記保護層を含んで前記キャリアに溝を形成する段階を含むことが好ましい。
更に、前記(A)段階は、(A1)キャリアに溝を形成する段階、(A2)前記キャリアに保護層を形成する段階、及び(A3)前記保護層の前記溝と対応される位置に開口部を形成する段階を含むことが好ましい。
本発明の好ましい第2実施例によるバンプを備えた印刷回路基板の製造方法は、(A)電気接続用ピンが内部に挿入され、前記電気接続用ピンの一面が外部に露出されたキャリアを提供する段階、(B)前記電気接続用ピンの一面が露出された前記キャリア上に保護層を形成し、前記保護層にホールを加工する段階、(C)前記ホールに前記電気接続用ピンと結合されるバンプを形成し、前記バンプの形成と同時に前記保護層上に前記バンプと連結されるパッド部を含む内層回路層を形成する段階、(D)前記内層回路層が絶縁層に含浸されるように、前記絶縁層を前記内層回路層が形成された前記保護層に積層する段階、及び(E)前記キャリアを取り除く段階を含むことを特徴とする。
この際、前記バンプと前記内層回路層は、メッキ工程によって形成され、前記電気接続用ピンと前記バンプは、メッキ結合されることが好ましい。
本発明の好ましい第3実施例によるバンプを備えた印刷回路基板の製造方法は、(A)一面に外層回路層が形成され、前記外層回路層が含浸される保護層を含んで溝が形成されたキャリアを提供する段階、(B)前記溝にバンプを形成し、前記バンプの形成と同時に前記保護層上に前記バンプと連結されるパッド部を含む内層回路層を形成する段階、(C)前記内層回路層が絶縁層に含浸されるように、前記絶縁層を前記内層回路層が形成された前記保護層に積層する段階、及び(D)前記キャリアを取り除く段階を含むことを特徴とする。
この際、前記外層回路層は、端子部、ダミーパターン、または端子部及びダミーパターン全てを含むことが好ましい。
また、前記(A)段階は、(A1)キャリアに外層回路層を形成する段階、(A2)前記外層回路層が含浸されるように、前記キャリアに保護層を形成する段階、及び(A3)前記保護層を含んで前記キャリアに溝を形成する段階を含むことが好ましい。
更に、前記(A)段階は、(A1)キャリアに溝を形成する段階、(A2)前記キャリアに外層回路層を形成する段階、(A3)前記外層回路層が含浸されるように、前記キャリアに保護層を形成する段階、及び(A4)前記保護層の前記溝と対応される位置に開口部を形成する段階を含むことが好ましい。
本発明の特徴及び利点は、添付図面に基づいた以下の詳細な説明によって、さらに明らかになるであろう。
本発明の詳細な説明に先立ち、本明細書及び請求範囲に用いられた用語や単語は、通常的かつ辞書的な意味に解釈されてはいけなく、発明者が自らの発明を最善の方法で説明するために、用語の概念を適切に定義することができるという原則にしたがって、本発明の技術的思想にかなう意味と概念に解釈されなければならない。
本発明によるバンプを備えた印刷回路基板及びその製造方法は、保護層を含んだキャリアに溝を加工し、キャリアの分離と同時にバンプを形成することによって、外部連結端子としての機能を遂行することができるバンプを追加的な工程なしに一回の工程で回路層とともに形成し、製造時間及び製造コストを節減させる長所がある。
本発明によると、バンプがパッド部と一体に形成されるため、バンプと印刷回路基板間の接合強度が大きい長所がある。特に、半田ボールが追加的にバンプに結合される場合、バンプの表面積が広くて半田ボールとバンプ間の接合面積が大きくなるため、結果的に半田ボールと印刷回路基板間の接合強度の大きくなる長所があり、これによって、半田ボールが小さくなっても要求される強度を得ることができる長所がある。
また、本発明によると、キャリアに離型層を形成することによって、キャリアの分離を容易にし、保護層が損傷されずに設計された形状を維持することができる長所がある。
更に、本発明によると、バンプを長く形成して電気接続用ピンの形状を有するようにしたり、バンプを電気接続用ピンとメッキ結合させて、一回の工程で簡便に電気接続用ピンを形成することができる長所がある。
そして、本発明によると、キャリア内部にストッパー層を備えて、高さが一定のバンプを形成することができる長所がある。
また、本発明によると、保護層に一面が外部に露出される外層回路層を含浸させることによって、受動素子などを直ちに外層回路層のうち端子部に連結したり、ダミーパターンを含んで印刷回路基板の歪み現象(warpage)を節減させる長所がある。
更に、本発明によると、バンプは、メッキ工程によって形成されて、バンプと保護層間の間隔が殆どないように密着されているため、バンプの間の間隔をさらに狭くすることができる長所がある。
更にまた、本発明によると、バンプを円錐形態で作り、超音波ボンディング(ultrasonic bonding)技術を組み合わせて外部素子の端子とボンディングさせる場合、振動エネルギーが一点に密集されて面と面が接触する場合より容易に外部素子の端子とボンディングすることができる長所がある。
従来技術による印刷回路基板の断面図である。 本発明の好ましい第1実施例によるバンプを備えた印刷回路基板の断面図である。 本発明の好ましい第2実施例によるバンプを備えた印刷回路基板の断面図である。 本発明の好ましい第3実施例によるバンプを備えた印刷回路基板の断面図である。 図2に図示したバンプを備えた印刷回路基板を製造する方法を説明するための工程断面図(1)である。 図2に図示したバンプを備えた印刷回路基板を製造する方法を説明するための工程断面図(2)である。 図2に図示したバンプを備えた印刷回路基板を製造する方法を説明するための工程断面図(3)である。 図2に図示したバンプを備えた印刷回路基板を製造する方法を説明するための工程断面図(4)である。 図2に図示したバンプを備えた印刷回路基板を製造する方法を説明するための工程断面図(5)である。 図2に図示したバンプを備えた印刷回路基板を製造する方法を説明するための工程断面図(6)である。 図2に図示したバンプを備えた印刷回路基板を製造する方法を説明するための工程断面図(7)である。 図3に図示したバンプを備えた印刷回路基板を製造する方法を説明するための工程断面図(1)である。 図3に図示したバンプを備えた印刷回路基板を製造する方法を説明するための工程断面図(2)である。 図3に図示したバンプを備えた印刷回路基板を製造する方法を説明するための工程断面図(3)である。 図3に図示したバンプを備えた印刷回路基板を製造する方法を説明するための工程断面図(4)である。 図3に図示したバンプを備えた印刷回路基板を製造する方法を説明するための工程断面図(5)である。 図4に図示したバンプを備えた印刷回路基板を製造する方法を説明するための工程断面図(1)である。 図4に図示したバンプを備えた印刷回路基板を製造する方法を説明するための工程断面図(2)である。 図4に図示したバンプを備えた印刷回路基板を製造する方法を説明するための工程断面図(3)である。 図4に図示したバンプを備えた印刷回路基板を製造する方法を説明するための工程断面図(4)である。 図4に図示したバンプを備えた印刷回路基板を製造する方法を説明するための工程断面図(5)である。 図4に図示したバンプを備えた印刷回路基板を製造する方法を説明するための工程断面図(6)である。 図4に図示したバンプを備えた印刷回路基板を製造する方法を説明するための工程断面図(7)である。 図4に図示したバンプを備えた印刷回路基板を製造する方法を説明するための工程断面図(8)である。
本発明の目的、特定の長所及び新規の特徴は、添付図面と以下の詳細な説明および好ましい実施例によってさらに明らかになるであろう。本明細書において、各図面の構成要素に参照番号を付け加えるに際し、同一の構成要素に限っては、たとえ異なる図面に示されても、できるだけ同一の番号を付けるようにしていることに留意しなければならない。また、本発明の説明において、係わる公知技術に対する具体的な説明が本発明の要旨を不必要にぼかす可能性があると判断される場合は、その詳細な説明を省略する。
以下、添付された図面を参照して、本発明の好ましい実施例を詳細に説明する。
(バンプを備えた印刷回路基板の構造)
図2は、本発明の好ましい第1実施例によるバンプを備えた印刷回路基板100aの断面図である。以下、これを参照して本実施例によるバンプを備えた印刷回路基板100aに対して説明する。
図2に図示したように、本実施例によるバンプを備えた印刷回路基板100aは、保護層101、内層回路層102が含浸された絶縁層106、及びバンプ104を含んで、バンプ104が内層回路層102のうちパッド部103と一体に連結されて、保護層101の開口部105を通じて保護層101の外部に突出されたことを特徴とする。
保護層101は、内層回路層102を保護し、バンプ104を支持する部材である。
ここで、保護層101は、内層回路層102を保護することができるように、例えば、半田レジスト層であることができる。また、保護層101には、内層回路層102のうちパッド部103を露出させる開口部105が形成されることができる。
絶縁層106は、保護層101上に形成される部材であり、保護層101上に形成された内層回路層102を含浸させて積層される。
ここで、絶縁層106は、通常的に層間絶縁素材として用いられる複合高分子樹脂であることができる。例えば、絶縁層106としてプリプレグを採用して、バンプを備えた印刷回路基板100aをさらに薄く製作することができる。または、絶縁層106としてABF(Ajinomoto Build up Film)を採用することができる。この他にも、FR−4、BT(Bismaleimide Triazine)などのエポキシ系樹脂を用いることができるが、特にこれに限定されるものではない。
一方、本実施例では、絶縁層106と内層回路層102が単層で形成された場合を説明するが、多数の絶縁層と回路層を含むビルドアップ層を積層して、多層印刷回路基板で構成することも可能である。
内層回路層102は、保護層101上に形成され、絶縁層106に含浸される部材である。
ここで、内層回路層102は、保護層101の開口部105を通じて露出されるパッド部103を含んで、パッド部103は、開口部105を通じてバンプ104と一体に連結されることができる。また、内層回路層102は、例えば、金、銀、銅、ニッケルなどの電気伝導性金属で構成されることができる。
一方、パッド部103は、バンプ104の断面積より必ず広い必要はなく、パッド部103とバンプ104の断面積を同一に形成し、パッドレスタイプのバンプ104を備えた印刷回路基板を形成することも可能である。
バンプ104は、外部素子(未図示)とパッド部103の間、即ち、外部素子(未図示)とバンプを備えた印刷回路基板100aの間を連結する部材である。
ここで、バンプ104は、その自体で外部連結端子としての機能を遂行することができ、または、バンプ104上に半田ボール(未図示)が追加的に形成され、半導体チップ、能動素子、受動素子などが連結されることができる。また、バンプ104は、保護層101の開口部105を通じてパッド部103と一体に連結された状態で、保護層101の外部に突出された形状を有する。この際、バンプ104がパッド部103と、例えば、メッキ工程によって一体に形成されるため、バンプ104と印刷回路基板100a間の接合強度は相対的に大きいことができる。
一方、バンプ104の突出された表面積は、保護層101の開口部105の面積よりもっと広いことが好ましい。より具体的には、バンプ104の表面積が広く形成される場合、バンプ104上に半田ボールを接合する時、半田ボールとバンプ104が接触する面積が広く形成されることができる。これによって、半田ボールが剪断力などの外力を受ける場合、バンプ104の表面積が小さい場合に比べて、半田ボールが破損されたり分離される現象が減少されることができる。
また、バンプ104の断面の直径を小さくし、バンプ104の長さを長くして、電気接続用ピンの形状を有するようにすることが可能である。電気接続用ピンは、例えば、半導体チップ、受動素子、能動素子のような外部素子と連結される部分になり、この場合、半田ボールを必要としないことができる。
更に、バンプ104を円錐形態で構成することができる。このような場合、バンプ104を超音波ボンディング(ultrasonic bonding)技術で、外部素子の端子とボンディングさせることができて、この際、振動エネルギーが一点に密集されて面と面が接触する場合、より容易に外部素子の端子とボンディングすることができる。
一方、図2には、バンプ104の形状が、保護層101の開口部105では円柱の形状であり、外部に突出された部分は半球に近い形状で図示されているが、本発明は、これに限定されず、バンプ104を多様な形状で具現することが可能である。
図3は、本発明の好ましい第2実施例によるバンプを備えた印刷回路基板100bの断面図である。以下、これを参照して本実施例によるバンプを備えた印刷回路基板100bに対して説明する。ここで、同一または対応する構成要素は、同一の図面符号で示されて、第1実施例と重複される説明は省略する。
図3に図示したように、本実施例によるバンプを備えた印刷回路基板100bは、保護層101、内層回路層102が含浸された絶縁層106、バンプ104、及び電気接続用ピン107を含んで、バンプ104と電気接続用ピン107が結合されたことを特徴とする。
本実施例では、第1実施例とは異なって、例えば、バンプ104が保護層101の外部に突出されない状態で保護層101の外側面と同一の高さで形成され、バンプ104に電気接続用ピン107が、例えば、メッキ工程によって結合されることができる。または、バンプ104が保護層101の外部に突出されるように形成され、突出されたバンプ104の上面に電気接続用ピン107が結合されることもできる。
電気接続用ピン107は、外部素子(未図示)と直接連結されたり、半田ボールを通じて外部素子(未図示)と連結される機能をするものであり、バンプ104と連結されるように形成される。
ここで、電気接続用ピン107を結合する場合、第1実施例とは異なって、バンプ104が電気接続用ピンの形状を有するようにするためにバンプ104の形状を長くする必要がないため、製造工程が簡単である長所がある。一方、電気接続用ピン107の形状は、円柱だけでなく、三角柱、四角柱などの多角形柱で形成することが可能である。
図4は、本発明の好ましい第3実施例によるバンプを備えた印刷回路基板100cの断面図である。以下、これを参照して本実施例によるバンプを備えた印刷回路基板100cに対して説明する。ここで、同一または対応する構成要素は、同一の図面符号で示されて、第1実施例及び第2実施例と重複される説明は省略する。
図4に図示したように、本実施例によるバンプを備えた印刷回路基板100cは、保護層101、内層回路層102が含浸された絶縁層106、バンプ104、及び外層回路層114を含んで、外層回路層114が保護層101に含浸されることを特徴とする。
外層回路層114は、一面が保護層101の外部に露出された状態で保護層101に含浸されて形成される。
ここで、外層回路層114は、端子部115とダミーパターン116を含むことができる。端子部115は、受動素子などがバンプを備えた印刷回路基板100cに直ちに連結されることができる部分であり、ビア117を通じて内層回路層102と電気的に連結されることができる。また、ダミーパターン116は、他の回路層と電気的に連結されず、回路的には作動しない部分であり、ダミーパターン116がバンプを備えた印刷回路基板100cの両端を支持することによって、バンプを備えた印刷回路基板100cの歪み現象を減少させることができる。
(バンプを備えた印刷回路基板の製造方法)
図5から図11は、本発明の好ましい第1実施例によるバンプを備えた印刷回路基板100aの製造方法を説明するための工程断面図である。以下、これを参照して本実施例によるバンプを備えた印刷回路基板100aの製造方法を説明すると次の通りである。
まず、図5に図示したように、キャリア(carrier)108に、第1離型層110を形成する。
この際、キャリア108は、印刷回路基板100aの製造過程で支持機能を遂行するためのものであり、例えば、ステンレス鋼(Stainless Steel)や有機樹脂材を含むことができる。特に、ステンレス鋼の場合、印刷回路基板100aとの分離が容易であるという長所がある。
また、第1離型層110は、印刷回路基板100aからキャリア108を取り除く時、印刷回路基板100aのうち、特に、保護層101が損傷されずに設計された形状を維持することができるように、キャリア108を容易に分離する機能を遂行する。ここで、第1離型層110は、例えば、離型コーティングまたはプラズマ(plasma)処理によって形成されることができ、またはSi系の離型剤を塗布したポリエチレンテレフタレートプラスチックシートであることができる。
次に、図6に図示したように、第1離型層110が形成されたキャリア108上に保護層101を形成する。
この際、保護層101がキャリア108から分離されやすいように、保護層101は、第1離型層110より小さい長さ及び面積を有することが好ましい。
次に、図7に図示したように、保護層101及び第1離型層110を含んでキャリア108に、溝109を加工する。
この際、溝109は、保護層101では開口部105の形態で形成され、キャリア108では、キャリア108の一部を取り除いて掘れた形態で形成される。従って、以後にキャリア108を分離すると、保護層101の外部に突出されるバンプ104が形成される。
また、キャリア108内部に形成される溝109の内面積は、保護層101に形成された開口部105の断面積より広いことが好ましい。これは、溝109にメッキを行ってバンプ104が形成され、バンプ104に半田ボールが結合される場合、半田ボールとバンプ104の結合表面が広いことが、半田ボールと印刷回路基板100c間の接合強度の側面から有利であるためである。
更に、溝109は、レーザー方式、インプラント方式または加工ドリルを用いて加工することが可能である。この際、以下に説明するストッパー層に係わって、レーザー方式で溝109を加工することが好ましい。具体的には、キャリア108の内部にストッパー層(未図示)がさらに含まれることができるが、保護層101を含んでキャリア108に溝109を加工する時、レーザーがストッパー層を貫くことはできないため、ストッパー層の上面までのみ加工するようになる。従って、溝109の深さが一定になり、これによって、高さが一定のバンプ104の形成が可能である。ここで、ストッパー層は、レーザー加工することができない物質、例えば、金属、セラミックス、または複合材料で構成することがさらに好ましい。
一方、本実施例では、キャリア108に保護層101を形成した後、保護層101を含んでキャリア108に溝109を形成すると説明したが、本発明はこれに限定されない。例えば、キャリア108に予め溝109を形成した後、保護層101を形成し、溝109と対応される保護層101の位置に開口部105を形成して、保護層101を含んで溝109が形成されたキャリア108を提供することも可能である。
次に、図8に図示したように、溝109の内周面に金属層111を形成する。
この際、金属層111は、後述するキャリア108の分離の後にもバンプ104に結合されていて、これは追加的な半田ボールの形成なしに最終製品に金属層111を予め形成し、工程コスト及び時間を節減することができるようにする。ここで、金属層111は、錫を主成分にする半田層であることが好ましい。
次に、図9に図示したように、溝109の内部を含んで保護層101にメッキ層を形成し、メッキ層をパターニングして溝109に形成されるバンプ104と内層回路層102を形成する。ここで、本メッキ工程は、一回のメッキ工程によって形成される。
この際、保護層101上に、例えば、無電解メッキ、メッキレジスト形成、パターニング、及び電解メッキ工程を通じて、溝109にバンプ104を形成し、バンプ104と連結される部分にパッド部103を形成して、その他必要な内層回路層102を形成する。
一方、バンプ104がメッキ工程によって形成されるため、保護層101とバンプ104の間の間隔は殆どないように密着され、これによって、一般的に露光公差を考慮する従来の方法に比べて、バンプ104間の間隔を狭くすることができる。
次に、図10に図示したように、保護層101に形成された内層回路層102が絶縁層106に含浸されるように、保護層101上に絶縁層106を積層する。
この際、絶縁層106は、例えば、軟化温度以上に加熱しながら表面が平らなステンレス板(stainless plate)のようなプレス板を用いて加圧積層することができる。
次に、図11に図示したように、バンプを備えた印刷回路基板100aの作動に関与しないキャリア108をバンプを備えた印刷回路基板100aから分離する。
このような製造工程によって、図11に図示した、好ましい第1実施例によるバンプを備えた印刷回路基板100aが製造される。
また、印刷回路基板100aに多層の絶縁層及び回路層を含むビルドアップ層を形成して、多層印刷回路基板を製造することも可能である。
図12から図16は、本発明の好ましい第2実施例によるバンプを備えた印刷回路基板100bの製造方法を説明するための工程断面図である。以下、これを参照して本実施例によるバンプを備えた印刷回路基板100bの製造方法を説明すると次の通りである。ここで、同一または対応する構成要素は、同一の図面符号で示されて、第1実施例と重複される説明は省略する。
まず、図12に図示したように、電気接続用ピン107が外側面から挿入されているキャリア108を提供する。
この際、事前作業を通じてキャリア108に、予め電気接続用ピン107を挿入し、電気接続用ピン107の一面は、キャリア108の外側面に露出されるように形成する。また、電気接続用ピン107は、例えば、内層回路層102及びバンプ104と同一の物質で構成されることができる。
一方、キャリア108と電気接続用ピン107の間及び電気接続用ピン107が挿入された部分を除いたキャリア108の上面に、第2離型層113を形成することが好ましい。これは、以後にキャリア108を取り除く時、電気接続用ピン107がキャリア108から容易に分離されることができるためである。
次に、図13に図示したように、電気接続用ピン107が挿入されたキャリア108の外側面に保護層101を形成し、保護層101にホール112を加工する。
この際、ホール112は、第1実施例のように、レーザーを用いて加工することが好ましく、キャリア108の外側面までのみ加工しなければならないことに注意しなければならない。一方、電気接続用ピン107は、金属で構成されるため、電気接続用ピン107がレーザーに対して、ストッパー層の機能を遂行することができる。
ここで、ホール112は、実質的に、保護層101において開口部105の形態で表れることができる。
次に、図14に図示したように、ホール112の内部を含んで保護層101にメッキ層を形成し、メッキ層をパターニングしてホール112に形成されるバンプ104及び内層回路層102を形成し、バンプ104を電気接続用ピン107と結合する。
この際、ホール112にバンプ104を形成する時、熱と圧力を加えて、バンプ104を電気接続用ピン107とメッキ結合させることができる。
次に、図15及び図16に図示したように、内層回路層102が絶縁層106に含浸されるように、絶縁層106を保護層101に積層して、キャリア108を印刷回路基板100bから取り除く。
このような製造工程によって、図16に図示した、好ましい第2実施例によるバンプを備えた印刷回路基板100bが製造される。
図17から図24は、本発明の好ましい第3実施例によるバンプを備えた印刷回路基板100cの製造方法を説明するための工程断面図である。以下、これを参照して本実施例によるバンプを備えた印刷回路基板100cの製造方法を説明すると次の通りである。ここで、同一または対応する構成要素は、同一の図面符号で示されて、第1実施例及び第2実施例と重複される説明は省略する。
まず、図17及び図18に図示したように、キャリア108に第1離型層110を形成し、第1離型層110に外層回路層114を形成する。
この際、外層回路層114は、例えば、セミアディティブ(Semi−additive)工法、サブトラクティブ(Subtractive)工法、またはアディティブ(Additive)工法などの公知された方法で形成されることができ、電気伝導性金属で構成されることができる。
次に、図19から図21に図示したように、外層回路層114が形成された第1離型層110に保護層101を形成し、保護層101に溝109及びビアホール117aを加工し、溝109の内周面に金属層111を形成する。
この際、ビアホール117aと溝109は、例えば、レーザー工法によって一回で形成されることができ、相異なる方法によって形成されることもできる。
一方、本実施例では、キャリア108に外層回路層114及び保護層101を形成した後、保護層101を含んでキャリア108に溝109を形成すると説明したが、例えば、キャリア108に溝109を予め形成し、外層回路層114及び保護層101を形成した後、溝109と対応される保護層101の位置に開口部105を形成して、保護層101を含んで溝109が形成されたキャリア108を提供することも可能である。
次に、図22及び図23に図示したように、溝109に保護層101の外部に突出されるバンプ104を、保護層101上に内層回路層102を、ビアホール117aに内層回路層102及び外層回路層114を連結するビア117を、例えば、メッキ工程によって一回で形成して、内層回路層102が絶縁層106に含浸されるように、保護層101に絶縁層106を積層する。
そして、図24に図示したように、キャリア108を、バンプを備えた印刷回路基板100cから分離する。
このような製造工程によって、図24に図示した、好ましい第3実施例によるバンプを備えた印刷回路基板100cが製造される。
以上、本発明を具体的な実施例に基づいて詳細に説明したが、これは、本発明を具体的に説明するためのものであり、本発明によるバンプを備えた印刷回路基板及びその製造方法は、これに限定されなく、本発明の技術的思想内で該当分野における通常の知識を有する者によって、その変形や改良が可能であることは明白であろう。
本発明の単純な変形乃至変更は、いずれも本発明の領域に属するものであり、本発明の具体的な保護範囲は、添付の特許請求の範囲により、明確になるであろう。
本発明は、外部連結端子としての機能を遂行することができるバンプの形成を、追加的な工程なしに一回の工程で内層回路層とともに形成させたり、バンプに追加的に半田ボールを結合する場合、半田ボールと印刷回路基板間の接合強度が大きいバンプを備えた印刷回路基板及びその製造方法に適用可能である。
101 保護層
102 内層回路層
103 パッド部
104 バンプ
105 開口部
106 絶縁層
107 電気接続用ピン
108 キャリア
109 溝
110 第1離型層
111 金属層
112 ホール
113 第2離型層
114 外層回路層
115 端子部
116 ダミーパターン
117 ビア

Claims (26)

  1. 内層回路層が含浸された絶縁層;
    前記絶縁層に形成され、前記内層回路層のうちパッド部を露出させる開口部を有する保護層;及び
    前記パッド部と一体に形成され、前記開口部を通じて前記保護層の内側方向から前記保護層の外部に突出されるように形成されたバンプ;
    を含むバンプを備えた印刷回路基板。
  2. 前記バンプの突出された表面積が、前記保護層の前記開口部の面積より広いことを特徴とする請求項1に記載のバンプを備えた印刷回路基板。
  3. 前記バンプが、前記保護層の外側方向に長く形成された電気接続用ピンの形状を有することを特徴とする請求項1に記載のバンプを備えた印刷回路基板。
  4. 前記保護層が、半田レジスト層であることを特徴とする請求項1に記載のバンプを備えた印刷回路基板。
  5. 前記内層回路層及び前記バンプが、メッキされて形成されたことを特徴とする請求項1に記載のバンプを備えた印刷回路基板。
  6. 前記バンプの外部に突出された面に形成された金属層;
    をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のバンプを備えた印刷回路基板。
  7. 内層回路層が含浸された絶縁層;
    前記絶縁層に形成され、前記内層回路層のうちパッド部を露出させる開口部を有する保護層;
    前記パッド部と一体に形成され、前記開口部に形成されたバンプ;及び
    前記バンプの上面に結合された電気接続用ピン;
    を含むバンプを備えた印刷回路基板。
  8. 前記バンプと前記電気接続用ピンが、メッキ結合されることを特徴とする請求項7に記載のバンプを備えた印刷回路基板。
  9. 内層回路層が含浸された絶縁層;
    前記絶縁層に形成され、前記内層回路層のうちパッド部を露出させる開口部を有する保護層;
    前記パッド部と一体に形成され、前記開口部を通じて前記保護層の内側方向から前記保護層の外部に突出されるように形成されたバンプ;及び
    前記保護層に含浸され、一面が前記保護層の外部に露出された外層回路層;
    を含むバンプを備えた印刷回路基板。
  10. 前記外層回路層が、端子部、ダミーパターン、または端子部及びダミーパターン全てを含むことを特徴とする請求項9に記載のバンプを備えた印刷回路基板。
  11. (A)一面に形成された保護層を含んで溝が形成されたキャリアを提供する段階;
    (B)前記溝にバンプを形成し、前記バンプの形成と同時に前記保護層上に前記バンプと連結されるパッド部を含む内層回路層を形成する段階;
    (C)前記内層回路層が絶縁層に含浸されるように、前記絶縁層を前記内層回路層が形成された前記保護層に積層する段階;及び
    (D)前記キャリアを取り除く段階;
    を含むバンプを備えた印刷回路基板の製造方法。
  12. 前記(A)段階が、
    (A1)第1離型層が形成されたキャリアを提供する段階;
    (A2)前記キャリア上に保護層を形成する段階;
    (A3)前記保護層を含んで前記キャリアに溝を加工する段階;及び
    (A4)前記溝の内周面に金属層を形成する段階;
    を含むことを特徴とする請求項11に記載のバンプを備えた印刷回路基板の製造方法。
  13. 前記(B)段階で、前記バンプが、電気接続用ピンの形状を有することを特徴とする請求項11に記載のバンプを備えた印刷回路基板の製造方法。
  14. 前記キャリアの内部にストッパー層がさらに含まれることを特徴とする請求項11に記載のバンプを備えた印刷回路基板の製造方法。
  15. 前記ストッパー層が、金属またはセラミックスで構成されたことを特徴とする請求項14に記載のバンプを備えた印刷回路基板の製造方法。
  16. 前記保護層の前記開口部の面積より、前記溝に形成された前記バンプの表面積を広く形成することを特徴とする請求項11に記載のバンプを備えた印刷回路基板の製造方法。
  17. 前記(B)段階で、前記バンプと前記内層回路層が、メッキ工程によって形成されることを特徴とする請求項11に記載のバンプを備えた印刷回路基板の製造方法。
  18. 前記保護層が、半田レジスト層であることを特徴とする請求項11に記載のバンプを備えた印刷回路基板の製造方法。
  19. 前記(A)段階が、
    (A1)キャリアに保護層を形成する段階;及び
    (A2)前記保護層を含んで前記キャリアに溝を形成する段階;
    を含むことを特徴とする請求項11に記載のバンプを備えた印刷回路基板の製造方法。
  20. (A)電気接続用ピンが内部に挿入され、前記電気接続用ピンの一面が外部に露出されたキャリアを提供する段階;
    (B)前記電気接続用ピンの一面が露出された前記キャリア上に保護層を形成し、前記保護層にホールを加工する段階;
    (C)前記ホールに前記電気接続用ピンと結合されるバンプを形成し、前記バンプの形成と同時に前記保護層上に前記バンプと連結されるパッド部を含む内層回路層を形成する段階;
    (D)前記内層回路層が絶縁層に含浸されるように、前記絶縁層を前記内層回路層が形成された前記保護層に積層する段階;及び
    (E)前記キャリアを取り除く段階;
    を含むバンプを備えた印刷回路基板の製造方法。
  21. 前記バンプと前記内層回路層が、メッキ工程によって形成され、前記電気接続用ピンと前記バンプが、メッキ結合されることを特徴とする請求項20に記載のバンプを備えた印刷回路基板の製造方法。
  22. (A)一面に外層回路層が形成され、前記外層回路層が含浸される保護層を含んで溝が形成されたキャリアを提供する段階;
    (B)前記溝にバンプを形成し、前記バンプの形成と同時に前記保護層上に前記バンプと連結されるパッド部を含む内層回路層を形成する段階;
    (C)前記内層回路層が絶縁層に含浸されるように、前記絶縁層を前記内層回路層が形成された前記保護層に積層する段階;及び
    (D)前記キャリアを取り除く段階;
    を含むことを特徴とするバンプを備えた印刷回路基板の製造方法。
  23. 前記外層回路層が、端子部、ダミーパターン、または端子部及びダミーパターン全てを含むことを特徴とする請求項22に記載のバンプを備えた印刷回路基板の製造方法。
  24. 前記(A)段階が、
    (A1)キャリアに外層回路層を形成する段階;
    (A2)前記外層回路層が含浸されるように、前記キャリアに保護層を形成する段階;及び
    (A3)前記保護層を含んで前記キャリアに溝を形成する段階;
    を含むことを特徴とする請求項22に記載のバンプを備えた印刷回路基板の製造方法。
  25. 前記(A)段階が、
    (A1)キャリアに溝を形成する段階;
    (A2)前記キャリアに外層回路層を形成する段階;
    (A3)前記外層回路層が含浸されるように、前記キャリアに保護層を形成する段階;及び
    (A4)前記保護層の前記溝と対応される位置に開口部を形成する段階;
    を含むことを特徴とする請求項22に記載のバンプを備えた印刷回路基板の製造方法。
  26. 前記(A)段階が、
    (A1)キャリアに溝を形成する段階;
    (A2)前記キャリアに保護層を形成する段階;及び
    (A3)前記保護層の前記溝と対応される位置に開口部を形成する段階;
    を含むことを特徴とする請求項11に記載のバンプを備えた印刷回路基板の製造方法。
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