JP2011054819A - 基板処理装置および基板処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板処理装置1は、微細粒子の液滴を吐出するノズル10と、ノズル10から吐出した液滴をさらに微細化して基板Wに供給する液滴微細化手段とを備え、例えば液滴微細化手段は保持部材23であり、保持部材23は、複数のノズル部21,22から吐出した液滴が互いに交差するように複数のノズル部21,22を配置して、複数のノズル部21,22から吐出する液滴を互いに交差することで液滴の粒子の衝突により発生させる液滴交差領域Hを形成させる。
【選択図】図3
Description
前記液滴を吐出するノズルと、
前記ノズルから吐出した前記液滴をさらに微細化して前記基板に供給する液滴微細化手段と、
を備えることを特徴とする。
前記液滴微細化手段は、複数の前記ノズル部から吐出した前記液滴が互いに交差するように複数の前記ノズル部を配置して、複数の前記ノズル部から吐出する前記液滴を互いに交差することで前記液滴の粒子の衝突により発生させる液滴交差領域を形成させることを特徴とする。上記構成によれば、ノズルから吐出する液滴は、液滴交差領域により更なる微細な液滴を生成して基板に供給して基板のパターンの汚染物質を除去できる。
ノズルから微細粒子の前記液滴を吐出して、
前記ノズルから吐出した前記液滴を、液滴微細化手段によりさらに微細化して前記基板に供給することを特徴とする。
図1は、本発明の基板処理装置の実施形態1を示している。
次に、図4と図5を参照して、本発明の別の実施形態2を説明する。
4,4A 処理ユニット
10,10A スプレーノズル(ノズルの例)
11 基板保持部
12 ノズル操作部
15 処理室
16 チャックピン
17 ベース部材
18 回転軸
19 モータ
21 第1ノズル部
22 第2ノズル部
23 保持部材(液滴微細化手段の一例)
23A 保持部材(液滴微細化手段の一例)
31 第1通路
32 第2通路
41 液体供給部
42,45 配管
43,46 バルブ
44 気体供給部
70 ノズル部
73 気体供給ノズル(液滴微細化手段の一例)
150 液滴微細化手段
L ノズル軸
W 基板(処理対象物)
H 液滴交差領域
Claims (7)
- 基板に対して液滴を供給して前記基板を洗浄処理する基板処理装置であって、
前記液滴を吐出するノズルと、
前記ノズルから吐出した前記液滴をさらに微細化して前記基板に供給する液滴微細化手段と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 前記ノズルは、複数のノズル部を有しており、
前記液滴微細化手段は、複数の前記ノズル部から吐出した前記液滴が互いに交差するように複数の前記ノズル部を配置して、複数の前記ノズル部から吐出する前記液滴を互いに交差することで前記液滴の粒子の衝突により発生させる液滴交差領域を形成させることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記液滴微細化手段は、前記ノズルから吐出した前記液滴に対して気体を供給する気体供給ノズルであることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記気体供給ノズルからの前記気体の流れを前記ノズルから吐出した前記液滴に対して供給することにより、前記液滴に乱流を発生させることを特徴とする請求項3に記載の基板処理装置。
- 前記ノズルは、複数の前記ノズル部と、複数の前記ノズル部を一体構造に保持する保持部材と、を有することを特徴とする請求項2に記載の基板処理装置。
- 前記ノズルと前記気体供給ノズルは、保持部材により一体構造になっていることを特徴とする請求項3または請求項4に記載の基板処理装置。
- 基板に対して液滴を供給して前記基板を洗浄処理する基板処理方法であって、
ノズルから微細粒子の前記液滴を吐出して、
前記ノズルから吐出した前記液滴を、液滴微細化手段によりさらに微細化して前記基板に供給することを特徴とする基板処理方法。
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