JP2011043435A - 微量水分発生装置および標準ガス生成装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】微量水分発生槽41は、温度制御器(図示せず)により温度制御するチャンバ42内に拡散管セル43を収納している。微量水分発生槽41の入口側の管路に、チャンバ42内の圧力を制御する圧力制御器44を接続し、微量水分発生槽41の出口側の管路に、流れを制限させる狭窄素子47を接続する。狭窄素子47は、その狭窄部48より下流側と上流側すなわちチャンバ42内との圧力比(下流圧/上流圧)を0.53以下に制御する。
【選択図】図1
Description
31 微量水分発生装置
32 希釈装置としての多段式希釈装置
41 微量水分発生槽
42 内部空間としてのチャンバ
43 拡散管セル
44 制御手段としての圧力制御器
47 狭窄素子
Claims (2)
- 水分を除去された乾燥ガスの供給を受ける温度制御された内部空間を有するとともにこの内部空間内に収納されて微量水分を発生させる拡散管セルを有する微量水分発生槽と、
上記微量水分発生槽の入口側に接続されて微量水分発生槽の内部空間の圧力を制御する制御手段と、
上記微量水分発生槽の出口側に接続されて下流圧/上流圧の比を0.53以下にする狭窄素子と
を具備したことを特徴とする微量水分発生装置。 - 請求項1記載の微量水分発生装置と、
この微量水分発生装置で得られた微量水分を所定流量の乾燥ガスで希釈する操作を繰返して標準ガスを生成する希釈装置と
を具備したことを特徴とする標準ガス生成装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2011043435A true JP2011043435A (ja) | 2011-03-03 |
JP5364957B2 JP5364957B2 (ja) | 2013-12-11 |
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Country Status (1)
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