JPH05118972A - ガス希釈システム並びにガス希釈方法 - Google Patents
ガス希釈システム並びにガス希釈方法Info
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- JPH05118972A JPH05118972A JP4043793A JP4379392A JPH05118972A JP H05118972 A JPH05118972 A JP H05118972A JP 4043793 A JP4043793 A JP 4043793A JP 4379392 A JP4379392 A JP 4379392A JP H05118972 A JPH05118972 A JP H05118972A
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- G05D11/02—Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material
- G05D11/03—Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material without auxiliary power
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
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- G01N33/0011—Sample conditioning
- G01N33/0018—Sample conditioning by diluting a gas
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Abstract
(57)【要約】
【目的】低濃度ガス相校正標準をつくることのできる小
形の装置を提供することで有る。 【構成】低濃度ガス相の校正標準を準備するためのシス
テムであり、不純物を含む標準ガスと希釈ガスとの流れ
は、夫々の校正オリフイス４０，４２の上流側の圧力を
調整することにより制御される。ガス流の圧力は、臨界
流れ状態がオリフイスを介して維持されるように調整さ
れる。これら２つの流れはガス中の不純物の既知の希釈
度を得るように混合される。
形の装置を提供することで有る。 【構成】低濃度ガス相の校正標準を準備するためのシス
テムであり、不純物を含む標準ガスと希釈ガスとの流れ
は、夫々の校正オリフイス４０，４２の上流側の圧力を
調整することにより制御される。ガス流の圧力は、臨界
流れ状態がオリフイスを介して維持されるように調整さ
れる。これら２つの流れはガス中の不純物の既知の希釈
度を得るように混合される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は分析装置の校正のために
ガス相での校正標準に関し、特に低濃度のガス相校正標
準を準備する分野に関する。
ガス相での校正標準に関し、特に低濃度のガス相校正標
準を準備する分野に関する。
【０００２】
【従来の技術】低濃度の標準を準備するこが実験もしく
は商業的に知られている。例えば、２つのガスの正確な
混合を果たすために分子流れ制御器（マスフローコント
ローラ）を使用した希釈システムが図１に示されてい
る。このシステムは、純ガス源と、ガスのコンテナー
（図示せず）と、流れが第１の熱的分子流れ制御装置
（ＭＦＣ）１０２により制御される濾過器１００とを具
備している。さらに、このシステムは、第２のＭＦＣ１
０６により流れが制御される標準混合ガス（純ガスと既
知の量の不純物との混合ガス）源１０４を備えている。
これらＭＦＣ１０２，１０６からの２つの流れは、これ
ら流れの希釈度を、ＭＦＣ１０２，１０６により調節さ
れて、決定されるように混合部１０８で混合される。余
分の流れを排出するための装置１１０（例えば、図１に
示すような圧力レギュレータ）は混合されたガスの流れ
〃最終的用途に合うように制御する手段となる。
は商業的に知られている。例えば、２つのガスの正確な
混合を果たすために分子流れ制御器（マスフローコント
ローラ）を使用した希釈システムが図１に示されてい
る。このシステムは、純ガス源と、ガスのコンテナー
（図示せず）と、流れが第１の熱的分子流れ制御装置
（ＭＦＣ）１０２により制御される濾過器１００とを具
備している。さらに、このシステムは、第２のＭＦＣ１
０６により流れが制御される標準混合ガス（純ガスと既
知の量の不純物との混合ガス）源１０４を備えている。
これらＭＦＣ１０２，１０６からの２つの流れは、これ
ら流れの希釈度を、ＭＦＣ１０２，１０６により調節さ
れて、決定されるように混合部１０８で混合される。余
分の流れを排出するための装置１１０（例えば、図１に
示すような圧力レギュレータ）は混合されたガスの流れ
〃最終的用途に合うように制御する手段となる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このようなシステム
は、動作のために電力を必要とし、また熱的均衡に達す
るのに時間を要する。そして、大型かつ高価でこの分野
での仕事には適さない。一方、複雑な校正アレイを介し
て流れを混合することにより差動する他の商業的システ
ムは製造が面倒で有り、また非常に高価である。
は、動作のために電力を必要とし、また熱的均衡に達す
るのに時間を要する。そして、大型かつ高価でこの分野
での仕事には適さない。一方、複雑な校正アレイを介し
て流れを混合することにより差動する他の商業的システ
ムは製造が面倒で有り、また非常に高価である。
【０００４】実用上、低濃度の標準は、度々、これらの
使用前に予め準備され、ガスシリンダーに蓄えられてい
る。所定の濃度の希釈ガスを作るための事前の混合は所
望の低濃度の不純物（代表的には有機化合物）が蓄積容
器の内面と有害な相互作用をするときには問題となる。
ガス相の校正標準（純ガスのバランスで、正確に知られ
た濃度の一種もしくは複数種の不純物を含む）が要求さ
れている種々の適用において、標準を高濃度に、純ガス
を使用して希釈することにより所望の濃度を得ることが
望まれている。このような追求は予め混合された標準に
係わる問題の多くを避け、複合濃度レベルを提供する。
使用前に予め準備され、ガスシリンダーに蓄えられてい
る。所定の濃度の希釈ガスを作るための事前の混合は所
望の低濃度の不純物（代表的には有機化合物）が蓄積容
器の内面と有害な相互作用をするときには問題となる。
ガス相の校正標準（純ガスのバランスで、正確に知られ
た濃度の一種もしくは複数種の不純物を含む）が要求さ
れている種々の適用において、標準を高濃度に、純ガス
を使用して希釈することにより所望の濃度を得ることが
望まれている。このような追求は予め混合された標準に
係わる問題の多くを避け、複合濃度レベルを提供する。
【０００５】“臨界”状態でのオリフイスを通るガスの
流れは、流体力学の通常の出版物にて説明されている理
解された現象として、比較的良く知られている。幾つか
の態様が別の幾つかの出願で使用されている。
流れは、流体力学の通常の出版物にて説明されている理
解された現象として、比較的良く知られている。幾つか
の態様が別の幾つかの出願で使用されている。
【０００６】例えば、米国特許Ｎｏ．４，８７８，５１
０号公報には、臨界オリフイスを通る高圧縮ガスの膨脹
の間、凝縮した蒸気による液滴の発生を防止する方法が
開示されている。先願のＮｏ．１０７，１７７号には、
臨界オリフイスの両側での最小圧力低下を使用すること
により、キヤリアガスでの凝縮可能な蒸気の濃度を定
め、この後、臨界オリフイスを通ったガスの体積と比較
して液滴の数を検出するための方法が記されている。
０号公報には、臨界オリフイスを通る高圧縮ガスの膨脹
の間、凝縮した蒸気による液滴の発生を防止する方法が
開示されている。先願のＮｏ．１０７，１７７号には、
臨界オリフイスの両側での最小圧力低下を使用すること
により、キヤリアガスでの凝縮可能な蒸気の濃度を定
め、この後、臨界オリフイスを通ったガスの体積と比較
して液滴の数を検出するための方法が記されている。
【０００７】幾つかの出願には流量制御装置として臨界
オリフイスを使用することが記されている。ソビエット
特許Ｎｏ．１，３３４，１０９号は、最初に液体を蒸発
させ、蒸気を臨海オリフイスに通し、そして液体を再凝
縮することにより、液体流れを制御する方法に関する。
米国特許Ｎｏ．４，８４２，８２７号には、真空システ
ムへのガスの流れを制御するために臨界オリフイスを使
用することが開示されている。高純度の“固定”ガス
が、反応もしくは有毒ガスのオリフイスでの流れを計算
するために使用されるオリフイスのサイズを測定するた
めに使用されている。
オリフイスを使用することが記されている。ソビエット
特許Ｎｏ．１，３３４，１０９号は、最初に液体を蒸発
させ、蒸気を臨海オリフイスに通し、そして液体を再凝
縮することにより、液体流れを制御する方法に関する。
米国特許Ｎｏ．４，８４２，８２７号には、真空システ
ムへのガスの流れを制御するために臨界オリフイスを使
用することが開示されている。高純度の“固定”ガス
が、反応もしくは有毒ガスのオリフイスでの流れを計算
するために使用されるオリフイスのサイズを測定するた
めに使用されている。
【０００８】先願のＮｏ．４３７，６１５号並びにＮ
ｏ．４３７，６２３号には、大気圧イオン化質量分析計
のような分析装置のテスト並びに／もしくは校正のため
に低濃度の校正混合物を発生させる方法並びに装置が記
されている。この発明では、複合ガスの流れを同時に制
御して既知の希釈度を得るためにオリフイスを使用して
いる。しかし、これら発明は大型でかつ複雑であり、実
験でのしようのために設計されたシステムに関する。さ
らに、このシステムでは、２つ以上のガス源と湿気発生
装置とを使用した複合混合工程が必要である。
ｏ．４３７，６２３号には、大気圧イオン化質量分析計
のような分析装置のテスト並びに／もしくは校正のため
に低濃度の校正混合物を発生させる方法並びに装置が記
されている。この発明では、複合ガスの流れを同時に制
御して既知の希釈度を得るためにオリフイスを使用して
いる。しかし、これら発明は大型でかつ複雑であり、実
験でのしようのために設計されたシステムに関する。さ
らに、このシステムでは、２つ以上のガス源と湿気発生
装置とを使用した複合混合工程が必要である。
【０００９】従って、本発明の目的は上記従来技術の欠
点を克服することである。
点を克服することである。
【００１０】本発明の他の目的は、低濃度ガス相校正標
準をつくることのできる小形の装置を提供することで有
る。
準をつくることのできる小形の装置を提供することで有
る。
【００１１】本発明のさらに他の目的は、低濃度のガス
相校正標準の濃度変化を生じさせる装置並びに方法を提
供することである。
相校正標準の濃度変化を生じさせる装置並びに方法を提
供することである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明は、上流側圧力、
ガスの密度並びにオリフイスのサイズにより決定される
割合で、２つのガス（標準ガスと希釈ガス）の流れを制
御するために２つの校正オリフイスを使用している。本
発明の一実施例においては、システムは、各オリフイス
を通って予想され得る流量となる所定の圧力に調節され
る充分な圧力の２つのガス供給手段を具備する。代表的
には、これらガス供給手段の一方は所定の濃度のガス
（標準ガス）のコンテナーであり、他方は希釈ガスのコ
ンテナーで有る。これらガスは、夫々の圧力レギュレー
タを流れて下流側の圧力センサー（ゲージ）に応答して
調節され、オリフイスから混合チヤンバに入り、ここで
所望の希釈度となり、そして校正される装置へと供給さ
れる。
ガスの密度並びにオリフイスのサイズにより決定される
割合で、２つのガス（標準ガスと希釈ガス）の流れを制
御するために２つの校正オリフイスを使用している。本
発明の一実施例においては、システムは、各オリフイス
を通って予想され得る流量となる所定の圧力に調節され
る充分な圧力の２つのガス供給手段を具備する。代表的
には、これらガス供給手段の一方は所定の濃度のガス
（標準ガス）のコンテナーであり、他方は希釈ガスのコ
ンテナーで有る。これらガスは、夫々の圧力レギュレー
タを流れて下流側の圧力センサー（ゲージ）に応答して
調節され、オリフイスから混合チヤンバに入り、ここで
所望の希釈度となり、そして校正される装置へと供給さ
れる。
【００１３】本発明の第２の実施例では、２つの圧力セ
ンサー（ゲージ）は単一の標準差動圧力ゲージに代えら
れている。この結果、２つの独立したゲージにより生じ
るエラーを防止することができる。
ンサー（ゲージ）は単一の標準差動圧力ゲージに代えら
れている。この結果、２つの独立したゲージにより生じ
るエラーを防止することができる。
【００１４】本発明の第３の実施例では、第２の実施例
の差動圧力ゲージに代えて、等圧レギュレーテング装置
が使用されている。この実施例では、レギュレーテング
装置はオリフイスの上流側の圧力を変える性能を有さな
いので、単一の希釈が生じる。
の差動圧力ゲージに代えて、等圧レギュレーテング装置
が使用されている。この実施例では、レギュレーテング
装置はオリフイスの上流側の圧力を変える性能を有さな
いので、単一の希釈が生じる。
【００１５】
【実施例】図２は本発明の第１の実施例を示す。この実
施例において、システム１０は、標準混合物の第１のシ
リンダー１２と希釈ガスの第２のシリンダー１４とから
なる２つのガスシリンダーを備えている。各シリンダー
は内部からガスを放出するための標準バルブ１６を有す
る。導管１８，２０は、これらシリンダーから夫々の圧
力レギュレータ２２，２４にガスを搬送するように設け
られている。好ましくは、これら圧力レギュレータ２
２，２４は、有機種に作用したり、ガス流に不純物を混
ぜたりしない金属で形成されたダイヤフラムを有する。
施例において、システム１０は、標準混合物の第１のシ
リンダー１２と希釈ガスの第２のシリンダー１４とから
なる２つのガスシリンダーを備えている。各シリンダー
は内部からガスを放出するための標準バルブ１６を有す
る。導管１８，２０は、これらシリンダーから夫々の圧
力レギュレータ２２，２４にガスを搬送するように設け
られている。好ましくは、これら圧力レギュレータ２
２，２４は、有機種に作用したり、ガス流に不純物を混
ぜたりしない金属で形成されたダイヤフラムを有する。
【００１６】導管２６，２８は、圧力レギュレータ２
２，２４から高精度の圧力センサー（もしくはゲージ）
３０，３２へと下流側にガスを搬送する。これら圧力セ
ンサー３０，３２は導管２６，２８を流れるガスの圧力
を夫々検知し、これらをオペレータ／ユザーに知らせ
る。また、これら圧力は、検知結果にもとずいて、必要
に応じて所望の流量となるように調節される。かくし
て、導管２６，２８は圧力調整されたガスを音波配合機
（ｓｏｎｉｃ ｂｌｅｎｄｅｒ）、即ち混合装置３８へ
と搬送する。この混合装置３８は、図３に示すように、
本発明の概念に従って構成されている。
２，２４から高精度の圧力センサー（もしくはゲージ）
３０，３２へと下流側にガスを搬送する。これら圧力セ
ンサー３０，３２は導管２６，２８を流れるガスの圧力
を夫々検知し、これらをオペレータ／ユザーに知らせ
る。また、これら圧力は、検知結果にもとずいて、必要
に応じて所望の流量となるように調節される。かくし
て、導管２６，２８は圧力調整されたガスを音波配合機
（ｓｏｎｉｃ ｂｌｅｎｄｅｒ）、即ち混合装置３８へ
と搬送する。この混合装置３８は、図３に示すように、
本発明の概念に従って構成されている。
【００１７】混合装置３８は、２つの校正オリフイス４
０，４２と、希釈された最終のガスを校正される装置
（もしくは貯蔵容器）に導くＴ字形状の混合室４４とを
有する。希釈ガスの正確な混合比は、ガスの圧力並びに
密度と同様にオリフイスのサイズによっても決定され
る。
０，４２と、希釈された最終のガスを校正される装置
（もしくは貯蔵容器）に導くＴ字形状の混合室４４とを
有する。希釈ガスの正確な混合比は、ガスの圧力並びに
密度と同様にオリフイスのサイズによっても決定され
る。
【００１８】本発明の方法並びに装置は、２つの校正オ
リフイス（例えば、図３中、４０，４２）を流れる臨界
（ｃｒｉｔｉｃａｌ）流れの使用に依存している。充分
に小径のオリフイスを通るガスの流速は、オリフイス間
の差圧が大きくなるのに従って、最大値に近ずく。この
最大値で、オリフイスを流れるガスの流速が局所音速と
等しくなったときに生じる、いわゆる臨界流れ状態とな
る。窒素の場合、この臨界流れ状態は、上流側の圧力が
下流側の圧力のほぼ２倍になったときに生じる。
リフイス（例えば、図３中、４０，４２）を流れる臨界
（ｃｒｉｔｉｃａｌ）流れの使用に依存している。充分
に小径のオリフイスを通るガスの流速は、オリフイス間
の差圧が大きくなるのに従って、最大値に近ずく。この
最大値で、オリフイスを流れるガスの流速が局所音速と
等しくなったときに生じる、いわゆる臨界流れ状態とな
る。窒素の場合、この臨界流れ状態は、上流側の圧力が
下流側の圧力のほぼ２倍になったときに生じる。
【００１９】本発明においては、ガスは、流れの制御を
正確にするために、（上流側の圧力を調整することによ
り）音速で２つの校正オリフイスを流れるように設定さ
れている。このシステムは、２種のガスの混合比を精度
よくするために使用される。この混合比は、基本的には
オリフイスのサイズと、ガスの上流側の圧力並びに密度
とによって決定される。
正確にするために、（上流側の圧力を調整することによ
り）音速で２つの校正オリフイスを流れるように設定さ
れている。このシステムは、２種のガスの混合比を精度
よくするために使用される。この混合比は、基本的には
オリフイスのサイズと、ガスの上流側の圧力並びに密度
とによって決定される。
【００２０】図４は代表的な校正オリフイス（この場合
０．００２インチの径）に対する流量と圧力との間の線
形的な関係を示す。この線形的な関係は以下の式により
説明される。
０．００２インチの径）に対する流量と圧力との間の線
形的な関係を示す。この線形的な関係は以下の式により
説明される。
【００２１】 流量＝１．４７５５（Ｐ）＋１４．９４２ （１） ここで、Ｐ＝ゲージ単位での上流側圧力。
【００２２】もしくは、 流量＝１．４７５５（Ｐ）−６．７５ （２） ここで、Ｐ＝ゲージ単位での上流側圧力。
【００２３】この圧力／流量関係を他の測定をしないで
近付けるために、既知の式が使用できる（例えば、“Ｆ
ｌｕｉｄ Ｄｙｎａｍｉｃｓ，”Ｊ．Ｗ．Ｄａｉｌｙ
ａｎｄ Ｒ．Ｆ．Ｈａｒｌｅｍａｎ，Ａｄｄｉｓｏｎ，
Ｗｅｓｌｅｙ，Ｒｅａｄｙ，１９６６）。
近付けるために、既知の式が使用できる（例えば、“Ｆ
ｌｕｉｄ Ｄｙｎａｍｉｃｓ，”Ｊ．Ｗ．Ｄａｉｌｙ
ａｎｄ Ｒ．Ｆ．Ｈａｒｌｅｍａｎ，Ａｄｄｉｓｏｎ，
Ｗｅｓｌｅｙ，Ｒｅａｄｙ，１９６６）。
【００２４】 もし、Ｆ＝ｓｃｃｍ単位での流量 （３） Ｆ＝７．６×１０８（Ａ）（Ｐ） ここで、Ａ＝ｍ２単位でのオリフイスの断面積。
【００２５】 Ｐ＝ｐｓｉａ単位での上流側圧力 Ａ＝π（．００１インチ）２＝２．０３×１０−９ｍ２ Ｆ＝１．５５（Ｐ） （４） 前記理論式（４式）と流量の直接の測定から得られた式
（２式）とを比較することにより、理解できるように、
精度における実質的増加はオリフイスの径に基ずく理論
的計算値対直接測定によりなされる。測定勾配（測定し
た流量値）と計算した（理論的）流量値との相違は、実
効サイズと現実のサイズとの間の相違が生じる、理想的
でないオリフイスの形状に原因しているであろう。ま
た、オリフイスのサイズの測定誤差によるかもしれな
い。同様に、測定結果に対する信頼性はゼロで無い断点
（ｎｏｎ−ｚｅｒｏ ｉｎｔｅｒｃｅｐｔ；Ｐ＝０ ｐ
ｓｉａで、Ｆ＝−６．７５ ｓｃｃｍ）を生じる。これ
は、臨界流量が低圧で生じない（即ち、オリフイスの両
側の圧力比が２：１に達するまで）ためである。
（２式）とを比較することにより、理解できるように、
精度における実質的増加はオリフイスの径に基ずく理論
的計算値対直接測定によりなされる。測定勾配（測定し
た流量値）と計算した（理論的）流量値との相違は、実
効サイズと現実のサイズとの間の相違が生じる、理想的
でないオリフイスの形状に原因しているであろう。ま
た、オリフイスのサイズの測定誤差によるかもしれな
い。同様に、測定結果に対する信頼性はゼロで無い断点
（ｎｏｎ−ｚｅｒｏ ｉｎｔｅｒｃｅｐｔ；Ｐ＝０ ｐ
ｓｉａで、Ｆ＝−６．７５ ｓｃｃｍ）を生じる。これ
は、臨界流量が低圧で生じない（即ち、オリフイスの両
側の圧力比が２：１に達するまで）ためである。
【００２６】本発明のシステム並びに方法に従って準備
された最終混合体（ＣＲ）の濃度は、以下のように算出
され得る。
された最終混合体（ＣＲ）の濃度は、以下のように算出
され得る。
【００２７】 ＣＲ＝ （ＦＳＣＳ＋ＦＤＣＤ）／（ＦＳ＋ＦＤ） （５） ここで、Ｆはガス流量を、Ｃは不純物（有機化合物）
を、下つきＳは標準ガスを、そして下つきＤは希釈ガス
を夫々示す。
を、下つきＳは標準ガスを、そして下つきＤは希釈ガス
を夫々示す。
【００２８】もし、ＣＤ＝０、即ち、希釈ガスに不純物
が存在していないと、が ＣＲ＝ ＦＳＣＳ／（ＦＳ＋ＦＤ） （６） 上述したような、圧力ー流量関係は、希釈をするために
使用され得る。もし、第１の圧力が選定されかつ１つの
ガス源に対して達成されると、要求される流量並びに圧
力は、特に所望の濃度を得るために第２のガス源に対し
て選定され得る。図２に示すように、本発明の第１の実
施例の使用において、必要な濃度を得るために計算され
た要求値と一致するように、混合装置３８を流れるガス
の流量を調節できるように夫々のガス源と関連付けられ
た圧力センサー３０，３２にオペレータは依存する。
が存在していないと、が ＣＲ＝ ＦＳＣＳ／（ＦＳ＋ＦＤ） （６） 上述したような、圧力ー流量関係は、希釈をするために
使用され得る。もし、第１の圧力が選定されかつ１つの
ガス源に対して達成されると、要求される流量並びに圧
力は、特に所望の濃度を得るために第２のガス源に対し
て選定され得る。図２に示すように、本発明の第１の実
施例の使用において、必要な濃度を得るために計算され
た要求値と一致するように、混合装置３８を流れるガス
の流量を調節できるように夫々のガス源と関連付けられ
た圧力センサー３０，３２にオペレータは依存する。
【００２９】テストを、本発明の図２に示す実施例と図
１に示すような高精度流量制御基礎システム（ＭＦＣ）
とを比較しながら続けた。そして、解析装置として、水
素炎イオン化検出器並びに予備濃縮機（プレ・コンセン
トレータ）を備えたガスクロマトグラフを使用した。こ
れらの結果は、両システムにより生じたようにビリオン
当たりの成分における領域と濃度との関係として図５に
示す。図５の傾斜線はＭＦＣのデジタル読みだしから流
量を読み出すことにより計算し、これは測定された希釈
度と対応する。次に、本発明は計算された線に沿って流
量が生じるように設定され、測定された希釈度がプロッ
トされた。本発明のシステムを使用して得られた結果と
ＭＦＣを使用して得られた結果とがほとんど等しいとい
うことは、本発明が比較的高精度であることを示してい
る。前記式（６）により算出された結果に対する、得ら
れた結果のチェックは、圧力／流量関係に基礎をなす標
準の最終濃度を予測できるということを確認している。
１に示すような高精度流量制御基礎システム（ＭＦＣ）
とを比較しながら続けた。そして、解析装置として、水
素炎イオン化検出器並びに予備濃縮機（プレ・コンセン
トレータ）を備えたガスクロマトグラフを使用した。こ
れらの結果は、両システムにより生じたようにビリオン
当たりの成分における領域と濃度との関係として図５に
示す。図５の傾斜線はＭＦＣのデジタル読みだしから流
量を読み出すことにより計算し、これは測定された希釈
度と対応する。次に、本発明は計算された線に沿って流
量が生じるように設定され、測定された希釈度がプロッ
トされた。本発明のシステムを使用して得られた結果と
ＭＦＣを使用して得られた結果とがほとんど等しいとい
うことは、本発明が比較的高精度であることを示してい
る。前記式（６）により算出された結果に対する、得ら
れた結果のチェックは、圧力／流量関係に基礎をなす標
準の最終濃度を予測できるということを確認している。
【００３０】図２に示す実施例において、全部とは限ら
ないが多くの場合圧力センサー３０，３２はこれらの読
取りにエラーが生じるので、これらセンサーに読み取ら
れた圧力にエラーが生じるかもしれない。即ち、２つの
圧力測定装置の使用は２倍の読取りエラーが生じるかも
しれない。このようなエラーは希釈の精度に最終的には
影響をる与える。
ないが多くの場合圧力センサー３０，３２はこれらの読
取りにエラーが生じるので、これらセンサーに読み取ら
れた圧力にエラーが生じるかもしれない。即ち、２つの
圧力測定装置の使用は２倍の読取りエラーが生じるかも
しれない。このようなエラーは希釈の精度に最終的には
影響をる与える。
【００３１】このようなエラの問題を処理する１つの方
法は高精度の圧力感応装置を使用することである。この
ようなエラーを最小にする他の方法は単一の差動圧力ゲ
ージに頼ることである。
法は高精度の圧力感応装置を使用することである。この
ようなエラーを最小にする他の方法は単一の差動圧力ゲ
ージに頼ることである。
【００３２】図６に示す本発明の第２の実施例（この実
施例で図２に示す実施例と同一もしくは類似部材には符
号にサフイックスを付して説明を省略する）は、この第
２の方法を採用している。複数の圧力センサーの代わり
に、この実施例では差動圧力ゲージ４６と絶対圧力ゲー
ジ５２を使用している。この差動圧力ゲージ４６は、音
波混合器３８´の両側の導管４８，５０に接続され、ま
た絶対圧力ゲージ５２は希釈側、もしくは標準ガス側に
設けられている（このゲージはこの実施例の動作に影響
を与えないでどちらのガス側に接続しても良い）。
施例で図２に示す実施例と同一もしくは類似部材には符
号にサフイックスを付して説明を省略する）は、この第
２の方法を採用している。複数の圧力センサーの代わり
に、この実施例では差動圧力ゲージ４６と絶対圧力ゲー
ジ５２を使用している。この差動圧力ゲージ４６は、音
波混合器３８´の両側の導管４８，５０に接続され、ま
た絶対圧力ゲージ５２は希釈側、もしくは標準ガス側に
設けられている（このゲージはこの実施例の動作に影響
を与えないでどちらのガス側に接続しても良い）。
【００３３】特に低濃度の標準を準備することが望まれ
る場合、希釈ガスの圧力は、（希釈ガス側に接続された
絶対圧力ゲージ５２に示されるような）標準側に対して
選定された値に最初に設定される。そして、標準側の圧
力は、差動ゲージ４６がゼロを読み取るまで調節され
る。これは、標準側に適当な圧力を設定するためであ
る。最後に、希釈ガス側の所望の圧力が、絶対圧力ゲー
ジ５２に従って設定される。この差動ゲージはオフスケ
ールを読み取るものでよいが、この評価された圧力が過
度にならない限りは、これは損傷しない。この方法で、
図２に示す２つの圧力ゲージを使用した実施例で問題と
なるエラーはほとんどキヤンセルすることができる。
る場合、希釈ガスの圧力は、（希釈ガス側に接続された
絶対圧力ゲージ５２に示されるような）標準側に対して
選定された値に最初に設定される。そして、標準側の圧
力は、差動ゲージ４６がゼロを読み取るまで調節され
る。これは、標準側に適当な圧力を設定するためであ
る。最後に、希釈ガス側の所望の圧力が、絶対圧力ゲー
ジ５２に従って設定される。この差動ゲージはオフスケ
ールを読み取るものでよいが、この評価された圧力が過
度にならない限りは、これは損傷しない。この方法で、
図２に示す２つの圧力ゲージを使用した実施例で問題と
なるエラーはほとんどキヤンセルすることができる。
【００３４】このエラーのキヤンセルは、絶対圧力ゲー
ジでのエラーがこれの読みだしのコンスタントフラクシ
ョン“Ｘ”であると推定することにより表示され得る。
かくして、ＣＲでのエラーは、Ｐをガス圧力そしてＡを
オリフイスの断面を表す場合に以下の式により得られ
る。
ジでのエラーがこれの読みだしのコンスタントフラクシ
ョン“Ｘ”であると推定することにより表示され得る。
かくして、ＣＲでのエラーは、Ｐをガス圧力そしてＡを
オリフイスの断面を表す場合に以下の式により得られ
る。
【００３５】 ΔＣＲ＝（１＋ｘ）ＰＳＡＳＣＳ／（１＋ｘ）（ＰＳＡＳ＋ＰＤＡＤ） −ＰＳＡＳＣＳ／ＰＳＡＳ＋ＰＤＡＤ （７） この場合、ゲージエラーは正確にキヤンセルする。実際
には、一定のパーセントエラーの想定は多分ほとんど正
確であろう。実際には大抵生じる（図４参照）圧力／流
量関係におけるｎｏｎ−ｚｅｒｏ ｉｎｔｅｒｃｅｐｔ
の影響は無視される。このエラーは小さく、そして流速
に従って減じる。このような考えに関係なく、２つのゲ
ージシステムでのエラーの考えられる減少は理解され得
る。
には、一定のパーセントエラーの想定は多分ほとんど正
確であろう。実際には大抵生じる（図４参照）圧力／流
量関係におけるｎｏｎ−ｚｅｒｏ ｉｎｔｅｒｃｅｐｔ
の影響は無視される。このエラーは小さく、そして流速
に従って減じる。このような考えに関係なく、２つのゲ
ージシステムでのエラーの考えられる減少は理解され得
る。
【００３６】一例として、絶対圧力ゲージ５２が標準側
に接続され、８０ポンドの圧力が希釈ガス側に、そして
５０ポンドの圧力が標準ガス側に望まれていると、絶対
圧力ゲージが８０を読取るまで、標準ガスの圧力が最初
に調節される。次に、差動圧力ゲージが０を読取るま
で、希釈ガスの圧力が調節される。これは希釈ガスの圧
力を正確に８０ポンドに設定する。最後に、標準ガス圧
力が、絶対アツリョクゲージが５０ポンドを読取るま
で、調節される。
に接続され、８０ポンドの圧力が希釈ガス側に、そして
５０ポンドの圧力が標準ガス側に望まれていると、絶対
圧力ゲージが８０を読取るまで、標準ガスの圧力が最初
に調節される。次に、差動圧力ゲージが０を読取るま
で、希釈ガスの圧力が調節される。これは希釈ガスの圧
力を正確に８０ポンドに設定する。最後に、標準ガス圧
力が、絶対アツリョクゲージが５０ポンドを読取るま
で、調節される。
【００３７】もし、絶対圧力ゲージが省略されると、両
オリフイスの上流側の圧力が等しいときに、システムが
単一の濃度をくる。上記流量／濃度関係の形態を使用
し、かつ圧力／流量関係（即ち、ＦはＰＡと比例する）
のｎｏｎ−ｚｅｒｏｉｎｔｅｒｃｅｐｔを無視すると、 ＣＲ＝ＰＳＡＳＣＳ／ＰＳＡＳ＋ＰＤＡＤ （８） もし、ＰＳ＝ＰＤ´ とすると、 ＣＲ＝ＡＳ／ＡＳ＋ＡＤ × ＣＳ （９） となり、圧力に無関係である。
オリフイスの上流側の圧力が等しいときに、システムが
単一の濃度をくる。上記流量／濃度関係の形態を使用
し、かつ圧力／流量関係（即ち、ＦはＰＡと比例する）
のｎｏｎ−ｚｅｒｏｉｎｔｅｒｃｅｐｔを無視すると、 ＣＲ＝ＰＳＡＳＣＳ／ＰＳＡＳ＋ＰＤＡＤ （８） もし、ＰＳ＝ＰＤ´ とすると、 ＣＲ＝ＡＳ／ＡＳ＋ＡＤ × ＣＳ （９） となり、圧力に無関係である。
【００３８】実用上では、圧力／流量関係のｎｏｎ−ｚ
ｅｒｏ ｉｎｔｅｒｃｅｐｔは、両オリフイスの上流側
圧力が等しいときでも、得られた濃度に依存した圧力を
生じる。この圧力依存の程度は、使用されるオリフイス
に依存する。本発明に係わるシステムの１つの特別のテ
ストにおいて、希釈度は、等しい上流側圧力のもとで、
２０ ｐｓｉａで０．０２２から１００ ｐｓｉａで
０．０２５へと変化する。かくして、絶対圧力ゲージの
省略はシステムの精度を低下させる。
ｅｒｏ ｉｎｔｅｒｃｅｐｔは、両オリフイスの上流側
圧力が等しいときでも、得られた濃度に依存した圧力を
生じる。この圧力依存の程度は、使用されるオリフイス
に依存する。本発明に係わるシステムの１つの特別のテ
ストにおいて、希釈度は、等しい上流側圧力のもとで、
２０ ｐｓｉａで０．０２２から１００ ｐｓｉａで
０．０２５へと変化する。かくして、絶対圧力ゲージの
省略はシステムの精度を低下させる。
【００３９】実際は、、絶対圧力ゲージを有するリギュ
レータは臨界オリフイスの上流側で通常使用されるの
で、上記概念はまれな場合である。
レータは臨界オリフイスの上流側で通常使用されるの
で、上記概念はまれな場合である。
【００４０】同様の単一濃度思想が図７並びに図８に示
す第３の実施例として説明されている。２つのガス間の
等しい圧力を調整するように設計された特別の圧力レギ
ュレーテング装置５４が使用されている。図８に示すよ
うに、この装置は、好ましくは２つのガスが最初に流れ
る１対の高圧入口５６，５８を有する。中にバルブ６
４，６６を夫々有する１対のチヤンバ６０，６２はこれ
ら入口５６，５８からガスを受ける。前記バルブ６４，
６６の作動は、調整された等しい圧力を得るように適当
なバランスを与える座ばね７２により果たされる。両ガ
スが適当に等しい圧力であるとき（これらは座ばね７２
により手動で設定される）、バルブ６４，６６はダイア
フラムへのガスの圧力に応答して閉成され、第２のチヤ
ンバ６８，７０中へのガスの流れを阻止する。最後に、
調整された圧力のガスは出口７４，７６を介して、装置
５４から音波混合機３８方向に流れでる。かくして、こ
の実施例は、レギュレータが音波混合機に対する相対上
流圧力を変える容量を有していないので、単一の希釈の
みを与える。
す第３の実施例として説明されている。２つのガス間の
等しい圧力を調整するように設計された特別の圧力レギ
ュレーテング装置５４が使用されている。図８に示すよ
うに、この装置は、好ましくは２つのガスが最初に流れ
る１対の高圧入口５６，５８を有する。中にバルブ６
４，６６を夫々有する１対のチヤンバ６０，６２はこれ
ら入口５６，５８からガスを受ける。前記バルブ６４，
６６の作動は、調整された等しい圧力を得るように適当
なバランスを与える座ばね７２により果たされる。両ガ
スが適当に等しい圧力であるとき（これらは座ばね７２
により手動で設定される）、バルブ６４，６６はダイア
フラムへのガスの圧力に応答して閉成され、第２のチヤ
ンバ６８，７０中へのガスの流れを阻止する。最後に、
調整された圧力のガスは出口７４，７６を介して、装置
５４から音波混合機３８方向に流れでる。かくして、こ
の実施例は、レギュレータが音波混合機に対する相対上
流圧力を変える容量を有していないので、単一の希釈の
みを与える。
【００４１】図９を参照して、ガスの激しい流れ（これ
ら流れは層流として維持される）を防止しながら、希釈
ガスと標準ガスとの優れた混合を果たすのに特に適し
た、本発明に係わる装置並びに方法を説明する。この改
良された混合機は、中を少くとも一方のガス、好ましく
は両方のガス（もしくは混合ガス）が螺旋形路、例えば
コイル状のチューブに沿って流れる付加混合チヤンバ１
４６を有する。このような流れにより、両ガスの混合点
の後の平均ガス分子の搬送距離を（このような螺旋形路
が無い平均ガス分子の搬送距離に比較して）増すことが
できる。好ましくは、コイル状のチューブのような螺旋
形路は、図９に示すような曲がった折曲部を有する金属
片により例えば形成され、少なくとも標準ガスの流れを
経路の壁側から中心線側へとそらす手段を有する。これ
ら、もしくは他の手段は、また標準ガス並びに／もしく
は希釈ガスの流れを多重補助流れ中へと、好ましくは分
散する。
ら流れは層流として維持される）を防止しながら、希釈
ガスと標準ガスとの優れた混合を果たすのに特に適し
た、本発明に係わる装置並びに方法を説明する。この改
良された混合機は、中を少くとも一方のガス、好ましく
は両方のガス（もしくは混合ガス）が螺旋形路、例えば
コイル状のチューブに沿って流れる付加混合チヤンバ１
４６を有する。このような流れにより、両ガスの混合点
の後の平均ガス分子の搬送距離を（このような螺旋形路
が無い平均ガス分子の搬送距離に比較して）増すことが
できる。好ましくは、コイル状のチューブのような螺旋
形路は、図９に示すような曲がった折曲部を有する金属
片により例えば形成され、少なくとも標準ガスの流れを
経路の壁側から中心線側へとそらす手段を有する。これ
ら、もしくは他の手段は、また標準ガス並びに／もしく
は希釈ガスの流れを多重補助流れ中へと、好ましくは分
散する。
【００４２】良好な状態で混合を果たすために、本発明
においては、充分に開いた螺旋形路を設けて、この経路
の両側間での圧力降下を低くすることが好ましい。この
ために、金属片を設けて、チューブの壁に沿って平行に
ガスが流れないようにガスの流れの経路を妨害してい
る。好ましくは、この金属片は、層流が攪拌されるよう
に複数の箇所でチューブの壁と、好ましくは接触してい
る。充分に効果を得るために、流れが三次元的に分断さ
れ並びに／もしくは標準ガス流が複数の小流れに分けら
れてガスの拡散速度を増すように螺旋形路は充分な長さ
を有する。
においては、充分に開いた螺旋形路を設けて、この経路
の両側間での圧力降下を低くすることが好ましい。この
ために、金属片を設けて、チューブの壁に沿って平行に
ガスが流れないようにガスの流れの経路を妨害してい
る。好ましくは、この金属片は、層流が攪拌されるよう
に複数の箇所でチューブの壁と、好ましくは接触してい
る。充分に効果を得るために、流れが三次元的に分断さ
れ並びに／もしくは標準ガス流が複数の小流れに分けら
れてガスの拡散速度を増すように螺旋形路は充分な長さ
を有する。
【００４３】図９（Ａ）に（例えば銅、電気研磨された
ステンレス等で形成され、不純物並びに／もしく粒子の
発生を防止するように既知の方法で処理された表面を有
する）金属片１５４を示す。この１５４は付加混合チヤ
ンバ１４６として使用されるチューブの内径に一致する
ように裁断されている。この金属片には、これの中心線
方向に延びるように切れ目が形成され、この切れ目のエ
ッジは上方（符号１５６，１６０，…で示すように）に
折曲されているか、下方に（符号１５８，１６２…で示
すように）下方に折曲されている。
ステンレス等で形成され、不純物並びに／もしく粒子の
発生を防止するように既知の方法で処理された表面を有
する）金属片１５４を示す。この１５４は付加混合チヤ
ンバ１４６として使用されるチューブの内径に一致する
ように裁断されている。この金属片には、これの中心線
方向に延びるように切れ目が形成され、この切れ目のエ
ッジは上方（符号１５６，１６０，…で示すように）に
折曲されているか、下方に（符号１５８，１６２…で示
すように）下方に折曲されている。
【００４４】上記切れ目を有する１５４は、（例えば、
これと同様の材料で形成されたチューブ１４８，１５
０，１５２中に径に沿って挿入されて、上述したよう
に、チューブ内に螺旋形路を形成している。この金属片
が（例えば、図９（Ｂ）に示すように）挿入されたチュ
ーブ１４８，１５０，１５２は、次にコイル状に曲げら
れ、１５４はチューブ１４８，１５０，１５２のコイル
状の部分１４６の全長の少なくとも一部に位置する。こ
の部分１４６は図９（Ｃ）に示す付加混合チヤンバを構
成する。チューブ１４８の端部は、次にＴ字状の混合チ
ヤンバの出力端に溶接される。また、チューブ１５０の
端部はアナライザーに接続される。好ましくは、金属片
は、これが挿入されたチューブの径に沿ってのみではな
く、折曲された切れ目がチューブの内壁に沿って接触し
ている。
これと同様の材料で形成されたチューブ１４８，１５
０，１５２中に径に沿って挿入されて、上述したよう
に、チューブ内に螺旋形路を形成している。この金属片
が（例えば、図９（Ｂ）に示すように）挿入されたチュ
ーブ１４８，１５０，１５２は、次にコイル状に曲げら
れ、１５４はチューブ１４８，１５０，１５２のコイル
状の部分１４６の全長の少なくとも一部に位置する。こ
の部分１４６は図９（Ｃ）に示す付加混合チヤンバを構
成する。チューブ１４８の端部は、次にＴ字状の混合チ
ヤンバの出力端に溶接される。また、チューブ１５０の
端部はアナライザーに接続される。好ましくは、金属片
は、これが挿入されたチューブの径に沿ってのみではな
く、折曲された切れ目がチューブの内壁に沿って接触し
ている。
【００４５】
【発明の効果】本発明によれば、正確で、小形の、低濃
度のガス相校正標準を用意するためのシステムを提供で
きる。このシステムは、他の大形かつ高価なシステムと
同等の結果が得られる簡単な方法と組合わせて使用され
る。
度のガス相校正標準を用意するためのシステムを提供で
きる。このシステムは、他の大形かつ高価なシステムと
同等の結果が得られる簡単な方法と組合わせて使用され
る。
【００４６】上記説明は特定のハードウエア並びに機能
部材について行ったが、これらは単に説明のためであ
り、当業者が本発明の精神並びに意図から逸脱しない範
囲で、これらハードウエア並びに機能部材を変更できる
ことは当然である。
部材について行ったが、これらは単に説明のためであ
り、当業者が本発明の精神並びに意図から逸脱しない範
囲で、これらハードウエア並びに機能部材を変更できる
ことは当然である。
【図１】従来のマスフローコントローラを使用した希釈
システムの概略図である。
システムの概略図である。
【図２】本発明の第１の実施例の概略図である。
【図３】本発明の音波混合機の断面図である。
【図４】本発明に従って使用される代表的な校正オリフ
イスでの圧力と流量との関係を示す線図である。
イスでの圧力と流量との関係を示す線図である。
【図５】マスフローコントローラと本発明の実施例とに
よる標準の比較希釈を示す線図である。
よる標準の比較希釈を示す線図である。
【図６】本発明の第２の実施例の概略図である。
【図７】本発明の第３の実施例の概略図である。
【図８】本発明の第３の実施例の差動圧力レギュレータ
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図９】本発明の第４の実施例を示し、（Ａ）は金属
片、（Ｂ）は金属片が挿入されたチューブを、そして
（Ｃ）は装置全体を示す図である。
片、（Ｂ）は金属片が挿入されたチューブを、そして
（Ｃ）は装置全体を示す図である。
１０…システム、１２，１４…ガスシリンダー、１８，
２０，２６，２８…導管、２２，２４…圧力レギュレー
タ、３８…混合装置、４０、４２…校正オリフイス。
２０，２６，２８…導管、２２，２４…圧力レギュレー
タ、３８…混合装置、４０、４２…校正オリフイス。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成４年５月１９日
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図７】
【図６】
【図８】
【図９】
フロントページの続き (72)発明者 マイケル・デイー・ブラント アメリカ合衆国、イリノイ州 60618、シ カゴ、ノース・セントラル・パーク 4244
Claims (12)
- 【請求項１】 圧力標準ガスを収容する第１のガス収容
手段並びに圧力希釈ガスを収容する第２のガス収容手段
と、 これら第１並びに第２のガス収容手段からガスを夫々導
く第１並びに第２の導通手段と、 前記第１並びに第２の導通手段の少なくとも一方で導か
れているガスの圧力を測定するセンサー手段と、 前記第１並びに第２の導通手段と、夫々連通し、各々が
圧力ガスを一定の流速で導く第１並びに第２のオリフイ
スと、 これら第１並びに第２のオリフイスを流れたガスを混合
する混合チヤンバ手段とを具備するガス希釈システム。 - 【請求項２】 前記第１並びに第２のガス収容手段から
導かれたガスの圧力を調整し、金属ダイアフラムを有す
る第１並びに第２の圧力調整手段を具備する請求項１に
記載のガス希釈システム。 - 【請求項３】 圧力標準混合ガスを収容する第１のガス
収容手段並びに圧力希釈ガスを収容する第２のガス収容
手段と、 これら第１並びに第２のガス収容手段からガスを夫々導
く第１並びに第２の導通手段と、 前記第１並びに第２の導通手段のと導通し、第１の導通
手段で導かれているガスの圧力と、第２の導通手段で導
かれているガスの圧力とを比較する圧力差動ゲージと、 前記第１並びに第２の導通手段と、夫々連通し、各々が
圧力ガスを一定の流速で導く第１並びに第２のオリフイ
スと、 これら第１並びに第２のオリフイスで導かれたガスを混
合する混合チヤンバ手段とを具備するガス希釈システ
ム。 - 【請求項４】 前記導通手段の一方でガスの圧力を測定
する絶対圧力ゲージを具備する請求項３に記載のガス希
釈システム。 - 【請求項５】 前記絶対圧力ゲージは前記第１の導通手
段と連通している請求項４に記載のガス希釈システム。 - 【請求項６】 前記絶対圧力ゲージは前記第２の導通手
段と連通している請求項４に記載のガス希釈システム。 - 【請求項７】 圧力標準ガス並びに圧力希釈ガスを夫々
収容する第１並びに第２のガス収容手段と、 これら第１並びに第２のガス収容手段からガスを夫々導
く第１並びに第２の導通手段と、 前記第１並びに第２の導通手段に接続され、これら導通
手段で導かれているガス間の等しい圧力を調節する圧力
調整手段と、 前記圧力調整手段の第１並びに第２の出口導通手段と、
夫々連通し、各々が圧力ガスを一定の流速で導く第１並
びに第２のオリフイスと、 これら第１並びに第２のオリフイスを流れたガスを混合
する混合チヤンバ手段とを具備するガス希釈システム。 - 【請求項８】 前記圧力調整手段は、前記第１並びに第
２の導通手段を流れるガスの圧力に応答して動作可能な
第１並びに第２のバルブ手段と、前記第１並びに第２の
導通手段から流れたガスの圧力に対向する圧力を付与す
るばね手段とを具備する請求項７に記載のガス希釈シス
テム。 - 【請求項９】 圧力標準ガスを供給する工程と、 圧力希釈ガスを供給する工程と、 前記標準ガス並びに希釈ガスの供給からガス流を生じさ
せる工程と、 前記ガスの供給の各々からガス流の圧力を夫々独立して
調整して、所定の希釈を果たす工程と、 前記ガス流の夫々を音速でオリフイスを通過させる工程
と、 前記ガス流を所定の希釈度となるように混合する工程と
を具備するガス希釈方法。 - 【請求項１０】 圧力標準ガスを供給する工程と、 圧力希釈ガスを供給する工程と、 前記標準ガス並びに希釈ガスの供給からガス流を生じさ
せる工程と、 前記ガスの供給の各々からガス流の圧力を夫々独立して
調整して、所定の希釈を果たす工程と、 前記ガスの供給からガス流の圧力を差動圧力ゲージを使
用して等しくする工程と、 前記ガス流の夫々を等しい圧力で、オリフイスを音速で
通過させる工程と、 オリフイスからの前記ガス流を所定の希釈度となるよう
に混合する工程とを具備するガス希釈方法。 - 【請求項１１】 標準ガスを第１の側で供給する工程
と、 希釈ガスを第２の側で供給する工程と、 前記標準ガス並びに希釈ガスの供給からガス流を生じさ
せる工程と、 前記標準ガス並びに希釈ガスのガス流の差動圧力感知す
る工程と、 前記他方のガス流の圧力を、感知した差動圧力がほぼゼ
ロになるまで、調整する工程と、 前記一方のガス流の圧力を所定値に調節する工程と、 前記ガス流の夫々を調整された圧力で、オリフイスを音
速で通過させる工程と、 オリフイスからの前記ガス流を所定の希釈度となるよう
に混合する工程とを具備するガス希釈方法。 - 【請求項１２】 圧力標準ガスを供給する工程と、 圧力希釈ガスを供給する工程と、 前記標準ガス並びに希釈ガスの供給からガス流を生じさ
せる工程と、 前記ガスの供給の各々からガス流の圧力を等しくする工
程と、 前記ガス流の夫々を等しい圧力で、オリフイスを音速で
通過させる工程と、 オリフイスからの前記ガス流を所定の希釈度となるよう
に混合する工程とを具備するガス希釈方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US66284791A | 1991-03-01 | 1991-03-01 | |
| US662847 | 1991-03-01 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05118972A true JPH05118972A (ja) | 1993-05-14 |
| JP3260800B2 JP3260800B2 (ja) | 2002-02-25 |
Family
ID=24659472
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04379392A Expired - Fee Related JP3260800B2 (ja) | 1991-03-01 | 1992-02-28 | ガス希釈システム並びにガス希釈方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0503996B1 (ja) |
| JP (1) | JP3260800B2 (ja) |
| CA (1) | CA2062059A1 (ja) |
| DE (1) | DE69213517T2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09170970A (ja) * | 1995-12-19 | 1997-06-30 | Nippon A P I:Kk | 標準ガス希釈装置、標準ガス発生装置及び標準ガス発生用液体試料容器 |
| JP2010517744A (ja) * | 2007-02-06 | 2010-05-27 | ザ セクレタリー オブ ステート フォー トレード アンド インダストリー | 流体混合物 |
| JP2011043435A (ja) * | 2009-08-21 | 2011-03-03 | National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology | 微量水分発生装置および標準ガス生成装置 |
| JP2013525780A (ja) * | 2010-04-19 | 2013-06-20 | エルエヌアイ シュミドリン ソシエテ アノニム | ガス流希釈装置を較正するための方法及び装置 |
| JP2016166847A (ja) * | 2015-03-10 | 2016-09-15 | 中国電力株式会社 | ガス採取装置 |
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