JP2011031978A

JP2011031978A - 大型精密基板収納容器

Info

Publication number: JP2011031978A
Application number: JP2009182493A
Authority: JP
Inventors: Toshitsugu Yajima; 敏嗣矢嶋
Original assignee: Shin Etsu Polymer Co Ltd; Shin Etsu Chemical Co Ltd
Current assignee: Shin Etsu Polymer Co Ltd; Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date: 2009-08-05
Filing date: 2009-08-05
Publication date: 2011-02-17

Abstract

【課題】大型精密基板収納容器内の大型精密基板に与える応力を低減し、大型精密基板の変形や破損を防止する。
【解決手段】大型精密基板を収納し、その全体を覆って嵌合するトレイ２０とカバー１０とを備える大型精密基板収納容器であって、その内部に、大型精密基板の各辺において、大型精密基板の両面の周縁と接して固定する固定具４０，６０と、トレイ２０およびカバー１０の少なくともいずれか一方と固定具４０，６０との間に配置され、固定具４０，６０より弾力性に富む緩衝板５０，７０とを備える大型精密基板収納容器である。
【選択図】図２

Description

本発明は、大型精密基板、特に、フラットパネルディスプレイの製造におけるフォトリソグラフ工程で使用されるフォトマスク基板を収納するための容器に関するものである。

従来から、フォトマスク用のガラス基板は、半導体およびフラットパネルディスプレイの製造工程の一つであるフォトリソグラフ工程にて使用されている。フォトマスク用のガラス基板は、半導体用ウェーハ上およびフラットパネルディスプレイ用ガラス基板上に１若しくは２以上のパターンを転写するための基板であり、欠陥や汚れが無く、かつ高い平滑度を要求されている。半導体用途のマスクガラス基板は、より微細なパターンを形成する傾向にあるが、フラットパネルディスプレイ用途のマスクガラス基板は、ディスプレイの大型化に伴い、益々大型化する傾向にある。

フラットパネルディスプレイ用途の最新（第８世代）のフォトマスク基板は、短辺１２２０ｍｍ、長辺１４００ｍｍ、厚さ１３ｍｍの大きさであり、重量も５０ｋｇを超える。これが、次世代（第１０世代）のフォトマスク基板になると、短辺１６００〜１８００ｍｍ、長辺２０００ｍｍ、厚さ１７ｍｍを超える大きさに達し、重量も１２０ｋｇを超えると予想される。このような大型かつ大重量のフォトマスク基板を搬送するため、その容器の剛性を高めるのみならず、フォトマスク基板に撓みやひねりの外力をなるべく加えないように容器内に固定でき、しかもフォトマスク基板の両面と非接触状態で固定する固定支持具が開発されてきている（例えば、特許文献１参照）。

特開２００５−１７０５０７（特に、段落００３５、図１１）

しかし、上記の従来技術には、次のような問題がある。特許文献１に開示されている固定支持具は、トレイ側に複数個固定されており、それによってフォトマスク基板の各辺を複数箇所で固定するものである。フォトマスク基板を収納する容器が大型化してくると、トレイやカバーの僅かな撓みも無視できなくなる。当該撓みは、各固定支持具におけるフォトマスク基板を固定する高さ位置のバラツキに直結する。この結果、フォトマスク基板に対して応力を加える危険性が高くなる。特に、静置時のトレイやカバーに撓みが無くても、搬送時にトレイやカバーが変形して撓み、あるいはひねりが加わる可能性があるため、容器内のフォトマスク基板に応力が加わりやすくなる。

本発明は、上記のような問題に鑑みなされたものであり、容器内の基板に与える応力を低減し、当該基板の変形や破損を防止することを目的とする。

上記目的を解決するため、本発明の一形態は、大型精密基板を収納し、その全体を覆って嵌合するトレイとカバーとを備える大型精密基板収納容器であって、その内部に、大型精密基板の各辺において、大型精密基板の両面の周縁と接して固定する固定具と、トレイおよびカバーの少なくともいずれか一方と固定具との間に配置され、固定具より弾力性に富む緩衝板と、を備える大型精密基板収納容器である。

本発明の別の一形態は、固定具がトレイおよびカバーの両方に固定され、緩衝板が、トレイと固定具との間、およびカバーと固定具との間にそれぞれ配置されている大型精密基板収納容器である。

本発明の別の一形態は、緩衝板がシリコーンゴム、フッ素ゴム、ウレタンゴム若しくはイソプレンゴムから構成される大型精密基板収納容器である。

本発明の別の一形態は、固定具が大型精密基板の両面の周縁を挟むように、大型精密基板の厚さ方向に分離する第一固定具および第二固定具をそれぞれ有し、第一固定具と第二固定具は、互いに対向する面に凹凸を有し、大型精密基板を固定した状態において大型精密基板の厚さ方向に噛み合う大型精密基板収納容器である。

本発明によれば、大型精密基板収納容器内の大型精密基板に与える応力を低減し、大型精密基板の変形や破損を防止することができる。

図１は、本発明の実施の形態にかかる大型精密基板収納容器の斜視図である。図２は、図１に示す大型精密基板収納容器の分解斜視図である。図３は、図１に示す大型精密基板収納容器内にフォトマスク基板を入れる状態を示す斜視図である。図４は、図３に示すトレイ側にフォトマスク基板をセットした状態を示す斜視図である。図５は、図１に示す大型精密基板収納容器をＡ−Ａ線で切断し、カバーとトレイを分離した時の各周端部近傍を拡大して示す斜視図であり、（５Ａ）はカバー側を、（５Ｂ）はトレイ側を、それぞれ示す。図６は、図１に示す大型精密基板収納容器をＡ−Ａ線で切断したときの周端部近傍を拡大して示す斜視図である。図７は、図６に示す周端部近傍を矢印Ｂの方向から見たときの図である。図８は、本発明の変形的な実施の形態であって、第一固定具を第二固定具に固定することにより、フォトマスク基板をトレイ上にて固定した状態を示す一部拡大図である。

次に、本発明の大型精密基板収納容器の好適な実施の形態について、図面を参照しながら説明する。

図１は、本発明の実施の形態にかかる大型精密基板収納容器の斜視図である。

図１に示すように、この実施の形態にかかる大型精密基板収納容器1は、略箱型の容器であり、通常の使用状態において上側のカバー１０と下側のトレイ２０を備える。カバー１０とトレイ２０は開閉可能であり、それらを嵌合して閉めた状態では大型精密基板収納容器１の内部に空間が存在する。大型精密基板の一例であるフォトマスク基板はその空間内に収納可能である。カバー１０およびトレイ２０は、この実施の形態において、アルミニウム合金の鋳造物から構成されているが、カバー１０およびトレイ２０の少なくともいずれか一方を、ＡＢＳ樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ＰＥＴ樹脂などのポリエステル系樹脂、ＰＥ、ＰＰなどのポリオレフィン樹脂、あるいはポリスチレン樹脂等から構成することもできる。また、カバー１０およびトレイ２０の少なくともいずれか一方を、カーボンファイバー強化型の樹脂（ＣＦＲＰ）を成形したもの、あるいはアルミニウム等の金属板を金型にて成形したものとしても良い。

カバー１０およびトレイ２０は、互いに対向する側に凹部をそれぞれ有し、それらを嵌合して閉めたときに各外周側面が略平面になるように、ほぼ同一の開口面積を有する。カバー１０とトレイ２０は、バックル３０にて、容易に開かないように締結することができる。ただし、バックル３０以外に、テープやクリップ等の他の締結手段を用いても良い。

図２は、図１に示す大型精密基板収納容器の分解斜視図である。

カバー１０は、その最外周において上方に向かって延出するフランジ部１１と、そのフランジ部１１の内側においてトレイ２０側に向かって窪む溝部１２と、その溝部１２よりも内側にあって溝部１２から上方に向かって立ち上がりその立ち上がった箇所からさらに内側に所定幅だけ水平に延出する水平部１３と、その水平部１３によって囲まれた領域であってカバー１０のほぼ中央の領域にて水平部１３より上方に突出する天面部１４とを備えている。

トレイ２０は、カバー１０より深さ方向により厚い形状となっている点で異なるものの、ほぼ同じような凹凸を有する構造を持つ。トレイ２０を、その開口側から見た構造で説明すると、その最外周には、カバー１０と接合する接合面２１が形成されている。接合面２１は、カバー１０の溝部１２と接する位置にある。また、当該接合面２１には、後述のガスケットを嵌め込むための溝２２が形成されている。接合面２１から下方であって接合面２１より内側には、所定幅の水平な部分を構成する段部２３が形成されている。段部２３は、カバー１０の水平部１３と対向する位置にある。さらに、段部２３より内側であってトレイ２０のほぼ中央の領域には、段部２３より下方に窪む凹部２４が形成されている。凹部２４は、カバー１０の天面部１４の裏側に形成される凹部と対向する位置にある。トレイ２０の長辺側にある段部２３は、２本の分離溝２５によって分離されている。段部２３の上面にあるフォトマスク基板をトレイ２０から取り出す際に、分離溝２５の部分にロボットアームを差し込む必要があるからである。ただし、分離溝２５は、トレイ２０の短辺側にも設けても良く、その数も２本に限定されない。

カバー１０およびトレイ２０を鋳造、特に砂型鋳造にて製造する場合、鋳造したままの表面は、その表面粗さが大きい鋳肌となる。鋳肌のままでは、その表面に異物が溜りやすいため、清浄度の高い製品を収納するのに適していない。また、凝固時にガスの抜けた跡であるピンホール等が多数存在するため、清浄に洗浄することが難しい。このため、鋳造後のカバー１０およびトレイ２０の表面を、研磨あるいはサンドブラストによる平滑化処理などを施すのが好ましく、さらには、その平滑化後に塗装を行い、その表面粗さがＲａ１０μｍ以下となるようにするのが特に好ましい。この場合、必然的に塗膜を厚くすることになるため、鋳肌の下地処理は不要となり、生産性をより向上できる。さらに、その塗膜に、導電性物質を含めるのが好ましい。塗膜に導電性を付与すると、帯電した異物がフォトマスク基板に付着するのを効果的に防止することができると共に、収納されるフォトマスク基板を取り出す際の帯電や静電破壊を効果的に防止することができる。

カバー１０の水平部１３の裏面には、短辺側および長辺側にそれぞれ３個ずつの合計１２個の第一固定具（固定具の一例）４０が備えられている。第一固定具４０は、フォトマスク基板の外縁部分に接して、フォトマスク基板を固定するための部材であり、容易に変形しない樹脂で構成されるのが好ましい。第一固定具４０の構成材料としては、ポリテトラフオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）、ポリアセタール樹脂（ＰＯＭ）などを好適に用いることができる。

各第一固定具４０と水平部１３の裏面との間には、緩衝板５０が配置されている。緩衝板５０は、第一固定具４０と水平部１３との接触面積とほぼ同じ面積を有する薄い板状の材料である。緩衝板５０は、カバー１０あるいはトレイ２０に元々存在する撓み若しくは搬送中に生じる撓みによって各第一固定具４０の位置が高さ方向にずれるような場合に、フォトマスク基板に外部応力を加えないように、その厚さ方向に変形可能な材料から構成される。緩衝板５０は、例えば、厚さ３〜１０ｍｍで、ＪＩＳＫ６２５３にて測定される硬度が３０〜７０の範囲にあるのが望ましい。当該厚さと硬度は、カバー１０、トレイ２０、フォトマスク基板の大きさによって変更するのが好ましい。また、比較的厚さの大きな緩衝板５０を用いる場合には、低い硬度の材料で構成し、逆に、比較的厚さの小さな緩衝板５０を用いる場合には、高い硬度の材料で構成するのが好ましい。緩衝板５０は、第一固定具４０よりも弾力性に富む材料から構成される限り、どのような材料でも良いが、特に、シリコーンゴム、フッ素ゴム、ウレタンゴム若しくはイソプレンゴムで構成されるのが好ましい。

緩衝板５０には、第一固定具４０に設けられた２個の貫通孔４１と同じ位置に２個の貫通孔５１が設けられており、第一固定具４０をカバー１０の水平部１３の裏面にねじ留めする際に、緩衝板５０も同時にねじ留めにて固定できるようにしている。緩衝板５０と第一固定具４０とは、接着してもあるいは接着しなくても良い。なお、貫通孔５１は必須の構成ではなく、ねじ留め以外の手法（例えば、接着）で緩衝板５０を水平部１３の裏面に固定する場合には、不要である。なお、ねじ以外にボルトを用いても良い。以後説明する他のねじ留めについても同様である。

トレイ２０の段部２３には、短辺側および長辺側にそれぞれ３個ずつの合計１２個の第二固定具（固定具の一例）６０が備えられている。各第二固定具６０の段部２３における固定位置は、先に説明した各第一固定具４０と対向する位置である。第二固定具６０も、第一固定具４０と同様、フォトマスク基板の外縁部分に接して、これを固定するための部材であり、容易に変形しない樹脂で構成されるのが好ましく、第一固定具４０と同様の樹脂を好適に用いることができる。第二固定具６０には、第一固定具４０と同様、段部２３にねじ留めするための２個の貫通孔６１が設けられている。

各第二固定具６０と段部２３との間には、緩衝板７０が配置されている。緩衝板７０は、第二固定具６０における段部２３との接触面積とほぼ同じ面積を有する薄い板状の材料である。緩衝板７０は、先に説明したカバー１０側の緩衝板５０と同様、フォトマスク基板に外部応力を加えないように、その厚さ方向に変形可能な材料から構成される。緩衝板７０も、緩衝板５０と同様、例えば、厚さ３〜１０ｍｍで、ＪＩＳＫ６２５３にて測定される硬度が３０〜７０の範囲にあるのが望ましい。当該厚さと硬度は、カバー１０、トレイ２０、フォトマスク基板の大きさによって変更するのが好ましい。また、比較的厚さの大きな緩衝板７０を用いる場合には、低い硬度の材料で構成し、逆に、比較的厚さの小さな緩衝板７０を用いる場合には、高い硬度の材料で構成するのが好ましい。緩衝板７０は、特に、シリコーンゴム、フッ素ゴム、ウレタンゴム若しくはイソプレンゴムで構成されるのが好ましい。

緩衝板７０には、第二固定具６０に設けられた２個の貫通孔６１と同じ位置に２個の貫通孔７１が設けられている。第二固定具６０をトレイ２０の段部２３にねじ留めする際に、緩衝板７０も同時にねじ留めにて固定できるようにするためである。緩衝板７０と第二固定具６０とは、接着してもあるいは接着しなくても良い。なお、緩衝板７０に設けられる貫通孔７１は必須の構成ではなく、ねじ留め以外の手法（例えば、接着）で緩衝板７０を段部２３に固定する場合には、不要である。

トレイ２０の接合面２１に形成される溝２２には、溝２２とほぼ同じ大きさの矩形環状のガスケット８０が嵌め込まれている。ガスケット８０は、カバー１０とトレイ２０の密着性を高め、微細な塵や埃が大型精密基板収納容器１内に入らないようにするためのものである。ガスケット８０の材料としては、例えば、シリコーンゴム、フッ素ゴム等を好適に用いることができる。

図３は、図１に示す大型精密基板収納容器内にフォトマスク基板を入れる状態を示す斜視図である。図４は、図３に示すトレイ側にフォトマスク基板をセットした状態を示す斜視図である。

図３に示すように、トレイ２０の段部２３には各辺３個ずつの第二固定具６０が固定されており、トレイ２０の最外周にある溝２２にはガスケット８０が嵌め込まれている。この状態のトレイ２０に、フォトマスク基板Ｇを入れて、その上からカバー１０をかぶせて、カバー１０とトレイ２０とを締結する。図４に示すように、カバー１０をかぶせる前には、フォトマスク基板Ｇは、第二固定具６０の内側の斜面上に載置された状態となっており、第二固定具６０がフォトマスク基板Ｇに面接触しないようにしている。フォトマスク基板Ｇと第一固定具４０および第二固定具６０との各接触箇所については、後述する。

図５は、図１に示す大型精密基板収納容器をＡ−Ａ線で切断し、カバーとトレイを分離した時の各周端部近傍を拡大して示す斜視図であり、（５Ａ）はカバー側を、（５Ｂ）はトレイ側を、それぞれ示す。

カバー１０の水平部１３の裏面には、緩衝板５０を挟んで第一固定具４０が固定されている。第一固定具４０における緩衝板５０との接触面は平面である。一方、第一固定具４０における第二固定具６０との対向面は凹凸形状を有する面である。同様に、第二固定具６０における緩衝板７０との接触面は平面である一方で、第二固定具６０における第一固定具４０との対向面は凹凸形状を有する面である。

第一固定具４０における第二固定具６０との対向面は、カバー１０の内部から外に向かって順に、緩やかに下方傾斜する緩斜面４２、その緩斜面４２から連続してより急角度で下方傾斜する第一急斜面４３、その第一急斜面４３から連続して略水平に延びる第一水平面４４、その第一水平面４４から連続して急角度で上方傾斜する第二急斜面４５、その第二急斜面４５から連続して略水平に延びる第二水平面４６、その第二水平面４６から連続して急角度で下方傾斜する第三急斜面４７、およびその第三急斜面４７から連続して略水平に延びる第三水平面４８を有する。緩斜面４２は、第一急斜面４３よりも緩やかな斜面であれば、水平に対して１〜８９度の範囲内で設定可能であり、特に１〜２０度、さらには３〜１０度の範囲で設定するのが好ましい。第一急斜面４３は、緩斜面４２よりも急な斜面であれば、水平に対して２〜９０度の範囲内で設定可能であり、特に３０〜８０度、さらには４５〜７０度の範囲で設定するのが好ましい。第一水平面４４、第二水平面４６および第三水平面４８は、厳密に水平である必要は無く、隣接する面との境界が明確である限り、カバー１０の内部から外に向かって上方あるいは下方に傾斜していても良い。また、第二急斜面４５および第三急斜面４７は、隣接する面との境界が明確である限り、１〜９０度の範囲内で設定可能である。

第二固定具６０における第一固定具４０との対向面は、トレイ２０の内部から外に向かって順に、緩やかに上方傾斜する緩斜面６２、その緩斜面６２から連続してより急角度で上方傾斜する第一急斜面６３、その第一急斜面６３から連続して略水平に延びる第一水平面６４、その第一水平面６４から連続して急角度で上方傾斜する第二急斜面６５、その第二急斜面６５から連続して略水平に延びる第二水平面６６、その第二水平面６６から連続して急角度で下方傾斜する第三急斜面６７、およびその第三急斜面６７から連続して略水平に延びる第三水平面６８を有する。緩斜面６２は、第一急斜面６３よりも緩やかな斜面であれば、水平に対して１〜８９度の範囲内で設定可能であり、特に１〜２０度、さらには３〜１０度の範囲で設定するのが好ましい。第一急斜面６３は、緩斜面６２よりも急な斜面であれば、水平に対して２〜９０度の範囲内で設定可能であり、特に３０〜８０度、さらには４５〜７０度の範囲で設定するのが好ましい。第一水平面６４、第二水平面６６および第三水平面６８は、厳密に水平である必要は無く、隣接する面との境界が明確である限り、トレイ２０の内部から外に向かって上方あるいは下方に傾斜していても良い。また、第二急斜面６５および第三急斜面６７は、隣接する面との境界が明確である限り、１〜９０度の範囲内で設定可能である。

図５（５Ｂ）に示すように、フォトマスク基板Ｇは、第二固定具６０の緩斜面６２の上で支持される。この状態で、カバー１０をトレイ２０と締結すると、カバー１０側の第一固定具４０の緩斜面４２は、フォトマスク基板Ｇを、その外縁部の上から支持する。この結果、フォトマスク基板Ｇは、上下方向から第一固定具４０の緩斜面４２と第二固定具の６０の緩斜面６０によって挟まれた状態で、大型精密基板収納容器１内にて固定される。

図６は、図１に示す大型精密基板収納容器をＡ−Ａ線で切断したときの周端部近傍を拡大して示す斜視図であり、図５（５Ａ）に示すカバーと図５（５Ｂ）に示すトレイとを締結した状態を示す図である。また、図７は、図６に示す周端部近傍を矢印Ｂの方向から見たときの図である。

図６および図７に示すように、フォトマスク基板Ｇは、その端面の上下両外縁部が、第一固定具４０の緩斜面４２と第一急斜面４３との角部と、第二固定具６０の緩斜面６２と第一急斜面６３との角部によって支持された状態にて固定される。このため、フォトマスク基板Ｇは、大型精密基板収納容器１内において、トレイ２０の面内で動くことなく固定される。さらに、カバー１０とトレイ２０とを締結した状態では、第一固定具４０側の第一水平面４４、第二急斜面４５、第二水平面４６、第三急斜面４７および第三水平面４８は、第二固定具６０側の第一水平面６４、第二急斜面６５、第二水平面６６、第三急斜面６７および第三水平面６８とそれぞれ対向して近接した状態となる。この状態では、第二固定具６０の第二急斜面６５、第二水平面６６および第三急斜面６７で形成される凸部が、第一固定具４０の第二急斜面４５、第二水平面４６および第三急斜面４７で形成される凹部に嵌まり込んでいる。このため、第一固定具４０と第二固定具６０とはフォトマスク基板Ｇの面内方向においてずれにくい。したがって、フォトマスク基板Ｇを確実に固定でき、搬送中にフォトマスク基板Ｇが動く危険性を低減できる。

また、フォトマスク基板Ｇは、カバー１０側に固定される第一固定具４０と、トレイ２０側に固定される第二固定具６０によって挟持された状態で、大型精密基板収納容器１内に固定されるため、カバー１０とトレイ２０とを開くと、自動的に、フォトマスク基板Ｇの固定を解除することができる。したがって、フォトマスク基板Ｇの固定およびその解除を、カバー１０とトレイ２０の締結およびその解除によって容易に実現できる。

以上、本発明の大型精密基板収納装置の好適な実施の形態について説明したが、本発明は、上述の実施の形態に限定されることなく、種々の変形を施して実施することができる。

例えば、上述の実施の形態にて説明した緩衝板５０，７０の両面は平滑な面であるが、少なくとも片面に多数の凹凸を形成した緩衝板５０，７０を用いることもできる。特に、緩衝板５０，７０が比較的硬度の大きな材料で構成される場合には、その凹凸を有する部分で緩衝板５０，７０の厚さを小さくする方向に容易に圧縮可能であるからである。また、緩衝板５０，７０は、平板以外に、その中央に穴を有する環状や、第一固定具４０および第二固定具６０の裏面の両側にのみ配置する２本のライン形状にすることもできる。さらに、緩衝板５０をカバー１０の水平部１３の裏側全面に取り付ける大きさにし、あるいは緩衝板７０をトレイ２０の段部２３の上側全面に取り付ける大きさにしても良い。さらに、緩衝板５０，７０のいずれか一方のみを用いて、カバー１０あるいはトレイ２０のいずれかの側にのみ緩衝板を取り付けるようにしても良い。

第一固定具４０は、カバー１０側に固定せずに、トレイ２０側にて第二固定具６０に対して固定できる構造の固定具としても良い。図８は、第一固定具４０と第二固定具６０により、フォトマスク基板Ｇをトレイ２０上にて固定した状態を示す一部拡大図である。図８に示すように、第一固定具４０の上面には緩衝板５０が配置されている。緩衝板５０から第一固定具４０を貫通して第二固定具６０に達するねじ穴５５を設け、そのねじ穴５５にねじを入れて緩衝板５０および第一固定具４０を第二固定具６０に固定することができる。トレイ２０の上からカバー１０をかぶせると、カバー１０側の水平部１３の裏面が緩衝板５０に接することが可能となっている。図８に示す変形例の場合には、第一固定具４０をカバー１０に固定していないので、カバー１０とトレイ２０との締結を解除しただけでは、フォトマスク基板Ｇの固定を解除できず、トレイ２０上にて第一固定具４０と第二固定具６０との固定を解除しなければ、フォトマスク基板Ｇを取り外すことができない。しかし、フォトマスク基板Ｇの取り出しの容易性よりも、より安全にフォトマスク基板Ｇを取り出すことを重要視する場合には、図８に示すようなトレイ２０側にてフォトマスク基板Ｇを固定する構造を選択することもできる。

また、フォトマスク基板Ｇの固定具は、第一固定具４０と第二固定具６０とに分離していなくても良い。第一固定具４０の緩斜面４２および第一急斜面４３と第二固定具６０の緩斜面６２および第一急斜面６３とを備えるのみの一体型の固定具を用いることもできる。この場合、フォトマスク基板Ｇをトレイ２０から取り出す際に、当該一体型の固定具を２つに分割することができないため、外方向に固定具をスライドする等の方法を採用するのが好ましい。

また、上述の実施の形態では、第一固定具４０をカバー１０側に固定し、第二固定具６０をトレイ２０側に固定しているが、これを逆にして、第一固定具４０をトレイ２０側に固定し、第二固定具６０をカバー１０側に固定しても良い。また、第一固定具４０および第二固定具６０の互いに対向する側の面に形成される凹凸は、必須の構成ではなく、緩斜面４２，６２より外方向あるいは第一急斜面４３，６３より外方向の領域を平滑な面にしても良い。

本発明は、大型の精密基板、例えばガラス製フォトマスク基板等を収納し、あるいはこれを運搬するのに利用することができる。

１大型精密基板収納容器
１０カバー
２０トレイ
４０第一固定具（固定具）
５０緩衝板
６０第二固定具（固定具）
７０緩衝板

Claims

大型精密基板を収納し、その全体を覆って嵌合するトレイとカバーとを備える大型精密基板収納容器であって、
その内部に、
上記大型精密基板の各辺において、上記大型精密基板の両面の周縁と接して固定する固定具と、
上記トレイおよび上記カバーの少なくともいずれか一方と上記固定具との間に配置され、上記固定具より弾力性に富む緩衝板と、
を備えることを特徴とする大型精密基板収納容器。
前記固定具は、前記トレイおよび前記カバーの両方に固定され、
前記緩衝板は、前記トレイと前記固定具との間、および前記カバーと前記固定具との間にそれぞれ配置されていることを特徴とする請求項１に記載の大型精密基板収納容器。
前記緩衝板は、シリコーンゴム、フッ素ゴム、ウレタンゴム若しくはイソプレンゴムから構成されることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の大型精密基板収納容器。
前記固定具は、前記大型精密基板の両面の周縁を挟むように、前記大型精密基板の厚さ方向に分離する第一固定具および第二固定具をそれぞれ有し、
上記第一固定具と上記第二固定具は、互いに対向する面に凹凸を有し、前記大型精密基板を固定した状態において上記厚さ方向に噛み合うことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の大型精密基板収納容器。