JP2011022177A - 液晶表示装置の製造方法および液晶表示装置用基板 - Google Patents

Abstract

【課題】一対のベース基板の表面研磨の際に前記一対のベース基板の間に研磨液が浸入するのを信頼性よく防止できる液晶表示装置の製造方法の提供。
【解決手段】第１ベース基板と第２ベース基板を液晶セルの液晶封入領域を囲んで形成されるシール材を介して対向配置させた基板の表面を研磨する製造方法であって、第１ベース基板は検査用マークと当該マークの内側に前記マークよりも高いスペーサを備え、第１ベース基板と第２ベース基板の間の空間を密閉するために前記第１ベース基板と前記第２ベース基板の端側面の少なくとも一部に封止材を塗布する。
【選択図】図１

Description

本発明は液晶表示装置の製造方法および液晶表示装置用基板に係り、いわゆる1つのベース基板から複数の液晶セルを採取する際の液晶表示装置の製造方法および液晶表示装置用基板に関する。

液晶表示装置は、複数の液晶セルを採取できる大きさの一対のベース基板を前記液晶セルの液晶封入領域を囲んで形成されるシール材を介して対向配置させ、前記一対のベース基板のギャップ出しを行った後に、前記一対のベース基板の切断によって各液晶セルに分離する方法によって製造されている。

そして、この工程中、各液晶セルに分離する前に、ギャップ出しを行った一対のベース基板を所定の厚さに薄くするため、エッチング液に浸す（表面研磨）工程を経る場合がある。この場合、一対のベース基板の間の空間を密閉するため、前記一対のベース基板の端側面の少なくとも一部に封止材を塗布する工程を経るようになっている。

図６は、このように封止材が塗布された一対のベース基板（この明細書において、液晶表示装置用基板と称する場合がある）の平面図を示している。なお、図６は、本発明の実施例を示す図１と対応させて描いた図である。このため、図６の以下に示す説明以外の構成は図１における説明を参照されたい。

図６において、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２が対向配置されている。これら第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の互いに対向する面には、たとえばマトリックス状に配置される複数の液晶セルＬＳＬを形成するための処理がなされ、その処理のうちの一つとして液晶セルＬＳＬ毎に液晶封入領域を囲むシール材ＳＬが形成されている。また、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の図中ｙ方向に平行な辺のそれぞれの近傍に図中ｙ方向に延在する外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２が形成されている。この外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２は、たとえば、前記シール材ＳＬと同材料からなり、前記シール材ＳＬの形成の際に同時に形成されるようになっている。

シール材ＳＬ、外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２は、たとえば第１のベース基板ＬＳＢ１側に形成され、これらシール材ＳＬ、外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２を介して第２のベース基板ＬＳＢ２を第１のベース基板ＬＳＢ１に対向配置させ、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２とのギャップ出しが行われる。ギャップ出しは、外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２が形成されていない開口部（後の工程で封止材ＥＣＬ１、ＥＣＬ２によって封止される部分）を通して第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２との間の空間を減圧させるようにして行う。

その後、シール材ＳＬ、外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２を硬化させる。そして、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の図中ｘ方向に平行な辺のそれぞれの端側面に封止材ＥＣＬ１、ＥＣＬ２を塗布し、前記封止材ＥＣＬ１、ＥＣＬ２を第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の間の間隙に浸入させる。これにより、封止材ＥＣＬ１、ＥＣＬ２と、前記外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２によって、液晶セルＬＳＬが形成された第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の間の空間を密閉させる。

そして、このように構成された液晶表示装置用基板は、エッチング液に浸すことによって、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の表面が研磨され、所定の板厚に薄く形成されるようになる。

なお、本願発明に関連する文献としては、たとえば下記特許文献１、２がある。特許文献１には、対向配置される一対のベース基板の周囲に通気口を備えるシール材（外周シール材）が形成され、前記通気口が形成されている近傍のシール材と対向するようにして隔壁材を設けた記載がある。この隔壁材によって、前記通気口を塞ぐ封止材からの放出ガスを液晶セル側に入り込ませてしまうのを回避させるようにしている。特許文献２には、対向配置される一対のベース基板の周囲に間欠的に仮止め材を形成し、前記一対のベース基板の周縁の隙間を封止材によって塞ぐものにあって、前記封止材側から観て前記仮止め材の背部に前記仮止め材を囲うようなパターンからなる堰材を設けた記載がある。この堰材によって、前記封止材が仮止め材に接触する部分において充分に形成されていない場合、研磨液を液晶セル側に入り込ませてしまうのを回避させるようにしている。

特開平５−２４１１７１号公報 特開２００７−８６６７０公報

しかし、図６に示した液晶表示装置用基板は、たとえば第１のベース基板ＬＳＢ１の図中ｘ方向に平行な辺のうち一方の辺にたとえば評価用あるいは検査用のマークＭＫ１、ＭＫ２、ＭＫ３、ＭＫ４が前記辺の一部に隣接して形成されている場合がある。これらマークＭＫ１、ＭＫ２、ＮＫ３、ＮＫ４は、第１ベース基板の各液晶セルの形成領域にパターン化されたたとえば絶縁膜等を形成する際に同時に形成されるようになっている。

この場合、たとえば図６のVI（ａ）−VI（ａ）線における断面図である図７に示すように、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の間の隙間は、第１のベース基板ＬＳＢ１あるいは第２のベース基板ＬＳＢ２の撓みによって、さらに、第１のベース基板ＬＳＢ１の辺に隣接して形成された前記マークＭＫ３によって狭くなっているため、塗布された封止材が第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の間に充分に浸入できないという不都合が生じる。これにより、前記マークＭＫ１、ＭＫ２、ＭＫ３、ＭＫ４が形成された箇所において封止材による封止が信頼性よくなされない場合が生じ、前記表面研磨の際に、エッチング液（研磨液）が第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の間に浸入する可能性を有する。

ちなみに、図８は、図６のVI（ｂ）−VI（ｂ）線における断面図で、マークＭＫ１、ＭＫ２、ＭＫ３、ＭＫ４が形成されていない箇所になっている。この場合、第１のベース基板ＬＳＢ１あるいは第２のベース基板ＬＳＢ２がたとえ撓んでいても、前記マークＭＫが形成されていない分だけ第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の間の隙間が広くなっており、塗布された封止材が第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の間に充分に浸入できるようになる。

本発明の目的は、一対のベース基板の表面研磨の際に前記一対のベース基板の間に研磨液が浸入するのを信頼性よく防止できる液晶表示装置の製造方法および液晶表示装置用基板を提供することにある。

本発明の液晶表示装置の製造方法は、封止材ＥＣＬ１側から観てマークＭＫの背部であって液晶セルＬＳＬよりも手前の部分にスペーサとして機能する材料層を形成するようにしたものである。これにより、マークＭＫが形成された箇所の第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２のギャップを保持し、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の周縁の隙間に封止材を浸入させ易くしている。

本発明の構成は、たとえば、以下のようなものとすることができる。

（１）本発明の液晶表示装置の製造方法は、複数の液晶セルを採取できる大きさの第１ベース基板と第２ベース基板を前記液晶セルの液晶封入領域を囲んで形成されるシール材を介して対向配置させ、前記第１ベース基板と前記第２ベース基板のギャップ出しを行う第１工程と、
前記第１工程の後に、前記第１ベース基板と前記第２ベース基板の間の空間を密閉するために前記第１ベース基板と前記第２ベース基板の端側面の少なくとも一部に封止材を塗布する第２工程と、を行う液晶表示装置の製造方法であって、
前記第１ベース基板の前記第２ベース基板と対向する面の前記封止材が塗布される側の辺の一部に隣接して前記ギャップよりも小さな高さを有する第１材料層が形成されている場合、
前記第２工程を行う前の段階で、前記第１ベース基板の前記端側面側から観て前記材料層の背部であって前記液晶セルが形成される領域より手前の部分に前記第１材料層よりも高さの大きな第２材料層を形成することを特徴とする。

（２）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（１）において、前記第１材料層は、導電膜、無機絶縁膜、有機絶縁膜、半導体膜のうちのいずれかで、あるいは、それらのうちのいくつかの積層で構成されていることを特徴とする。

（３）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（２）において、前記第１材料層は、評価用あるいは検査用のマークを構成することを特徴とする。

（４）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（１）において、前記第２材料層は、前記シール材と同一の材料からなることを特徴とする。

（５）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（１）において、前記液晶セルの液晶封入領域に複数の柱状スペーサが形成され、前記第２材料層は、前記柱状スペーサと同一の材料からなることを特徴とする。

（６）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（１）において、前記第２材料層は、前記第１ベース基板の前記端側面から２ｍｍ以上離間して配置されていることを特徴とする。

（７）本発明の液晶表示装置用基板は、複数の液晶セルを採取できる大きさの第１ベース基板と第２ベース基板が前記液晶セルの液晶封入領域を囲んで形成されるシール材を介して対向配置され、
前記第１ベース基板と前記第２ベース基板の端側面の少なくとも一部に封止材が塗布されて前記第１ベース基板と前記第２ベース基板の間の空間が密閉された液晶表示装置用基板であって、
前記第１ベース基板の前記第２ベース基板と対向する面の前記封止材が塗布される側の辺の一部に隣接して前記ギャップよりも小さな高さを有する第１材料層と、
前記第１ベース基板の前記端側面側から観て前記材料層の背部であって前記液晶セルが形成される領域より手前の部分に前記第１材料層よりも高さの大きな第２材料層と、が形成されていることを特徴とする。

（８）本発明の液晶表示装置用基板は、（７）において、前記第１材料層は、導電膜、無機絶縁膜、有機絶縁膜、半導体膜のうちのいずれかで、あるいは、それらのうちのいくつかの積層で構成されていることを特徴とする。

（９）本発明の液晶表示装置用基板は、（８）において、前記第１材料層は、評価用あるいは検査用のマークを構成することを特徴とする。

（１０）本発明の液晶表示装置用基板は、（７）において、前記第２材料層は、前記シール材と同一の材料からなることを特徴とする。

（１１）本発明の液晶表示装置用基板は、（７）において、前記液晶セルの液晶封入領域に複数の柱状スペーサが形成され、前記第２材料層は、前記柱状スペーサと同一の材料からなることを特徴とする。

（１２）本発明の液晶表示装置用基板は、（７）において、前記第２材料層は、前記第１ベース基板の前記端側面から２ｍｍ以上離間して配置されていることを特徴とする。

なお、上記した構成はあくまで一例であり、本発明は、技術思想を逸脱しない範囲内で適宜変更が可能である。また、上記した構成以外の本発明の構成の例は、本願明細書全体の記載または図面から明らかにされる。

上述した液晶表示装置の製造方法および液晶表示装置用基板によれば、一対のベース基板の表面研磨の際に前記一対のベース基板の間に研磨液が浸入するのを信頼性よく防止できるようになる。

本発明のその他の効果については、明細書全体の記載から明らかにされる。

本発明の液晶表示装置用基板の実施例１を示す平面図である。 図１の構成において、いまだ第２のベース基板を第１のベース基板に貼り合わせていない状態を示した平面図である。 図１のIII（ａ）−III（ａ）線における断面図である。 図１のIII（ｂ）−III（ｂ）線における断面図である。 本発明の液晶表示装置用基板の実施例２を示す説明図である。 従来の液晶表示装置用基板の例を示す平面図である。 図６のVI（ａ）−VI（ａ）線における断面図である。 図６のVI（ｂ）−VI（ｂ）線における断面図である。

本発明の実施例を図面を参照しながら説明する。なお、各図および各実施例において、同一または類似の構成要素には同じ符号を付し、説明を省略する。

図１は、本発明による液晶表示装置用基板の実施例１を示す平面図である。図１に示す液晶表示装置用基板は、第１のベース基板ＬＳＢ１および第２のベース基板ＬＳＢ１の表面研磨を行う直前のベースパネルの状態を示した構成となっている。

図１において、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２が対向配置されている。第１のベース基板ＬＳＢ１は、その第２のベース基板ＬＳＢ２と対向する面において、たとえばマトリックス状に配置された複数の液晶セルＬＳＬの形成領域を有している。それぞれの液晶セルＬＳＬの形成領域には、図示していないが、信号線、薄膜トランジスタ、および電極等が形成されている。これら信号線、薄膜トランジスタ、および電極等は、フォトリソグラフィ技術による選択エッチングによって所定のパターンで形成された導電膜、無機絶縁膜、有機絶縁膜、半導体膜等が所定の順序で積層されて形成されている。

また、前記信号線、薄膜トランジスタ、および電極等が形成された液晶セルＬＳＬの形成領域には、それぞれ、液晶封入領域を囲むシール材ＳＬが形成されている。このシール材ＳＬは、液晶を一構成要素としてマトリックス状に配置された多数の画素からなる画像表示領域を囲むようにして構成されている。なお、各液晶セルＬＳＬにおけるシール材ＳＬには、開口部ＯＰが形成されている。この開口部ＯＰは、液晶セルＬＳＬの分離後において液晶を封入するための封入口として機能する。

なお、第１のベース基板ＬＳＢ１は、後の工程における液晶セルの分離にあって、液晶セルＬＳＬごとに基板ＳＵＢ１（図中点線枠で示す）として切断されるようになっている。

また、第１のベース基板ＬＳＢ１には、たとえば図中ｙ方向に平行な辺のそれぞれの近傍において、図中ｙ方向に延在する外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２が形成されている。この外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２は、たとえば前記シール材ＳＬと同材料からなり、前記シール材ＳＬの形成の際に同時に形成されるようになっている。この外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２は、後述の第２のベース基板ＬＳＢ２を第１のベース基板ＬＳＢ１に貼り合わせる際のシール材としての機能を有するともに、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の周縁における隙間の一部を封止する機能を有するようになっている。

なお、この実施例１では、シール材ＳＬ、および外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２は第１のベース基板ＬＳＢ１に形成するようにしたものであるが、これに限定されることはなく、後述の第２のベース基板ＬＳＢ２に形成するようにしてもよい。

さらに、第１のベース基板ＬＳＢ１の図中ｘ方向に平行な辺のうち一方の辺（図中上側）にたとえば評価用、認識用あるいは検査用のマークＭＫ１、ＭＫ２、ＭＫ３、ＭＫ４が前記辺の一部に隣接して形成されている。図１では、これらマークＭＫ（ＭＫ１、ＭＫ２、ＭＫ３、ＭＫ４）は４個として示しているがこの数に限定されることはない。図２は、第２のベース基板ＬＳＢ２、および後述の封止材ＥＣＬ１、ＥＣＬ２を取り除いた第１のベース基板ＬＳＢ１のみを示した平面図である。この図から明らかなように、前記マークＭＫのそれぞれは、第１のベース基板ＬＳＢ１の図中ｘ方向に平行な辺に隣接し、前記辺に沿って並設されて形成されている。これらマークＭＫ１、ＭＫ２、ＭＫ３、ＭＫ４は、液晶セルＬＳＬの形成領域において、前記信号線、薄膜トランジスタ、および電極等を形成する際に並行して形成されるもので、その材料としては、導電膜、無機絶縁膜、有機絶縁膜、半導体膜のうちのいずれかによって、あるいは、それらのうちのいくつかの積層によって構成されるようになっている。

ここで、第１ベース基板ＬＳＢ１の前記マークＭＫが形成されている辺の端側面側から観て前記マークＭＫの背部であって前記液晶セルＬＳＬが形成される領域より手前の部分にスペーサＳＰとして機能するシール材が形成されている。このスペーサＳＰは、前記シール材ＳＬ、外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２と同材料からなり、前記シール材ＳＬ、外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２の形成の際に同時に形成され、前記マークＭＫの形成領域の近傍において、第１ベース基板ＬＳＢ１と後述の第２ベース基板ＬＳＢ２とのギャップを保持できるようになっている。前記スペーサＳＰは、たとえばマークＭＫのそれぞれに対応して形成され、第１ベース基板ＬＳＢ１の前記マークＭＫが形成されている辺の端側面側から観て、マークＭＫの幅よりも大きな幅を有し、両端がマークＭＫよりもはみ出すようにして形成することが好ましい。また、前記スペーサＳＰは、第１ベース基板ＬＳＢ１の前記マークＭＫが形成されている辺の端側面から２ｍｍ以上離間して配置させることが好ましい。このようにする理由は、封止材ＥＣＬ１、ＥＣＬ２は、それぞれ、前記端側面から０．１ｍｍ〜２ｍｍの範囲内で形成され、前記マークＭＫと重なることなく形成できるからである。

第２のベース基板ＬＳＢ２は、前記第１のベース基板ＬＳＢ１と対向する面液晶セルＬＳＬの形成領域において、図示しないが、ブラックマトリックス、カラーフィルタ、また必要とあれば電極等が形成されている。なお、第２のベース基板ＬＳＢ２は、後の工程における液晶セルの分離にあって、液晶セルＬＳＬごとに基板ＳＵＢ２（図中点線枠で示す）として切断されるようになっている。

ここで、第２のベース基板ＬＳＢ２を第１のベース基板ＬＳＢ１に対して貼り合わせる際、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２との間の隙間を所定の値に設定するいわゆるギャップ出しが行われる。このギャップ出しは、対向配置される第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２において、外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２が形成されていない開口部（後の工程で封止材ＥＣＬ１、ＥＣＬ２によって封止される部分）を通して第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２との間の空間を減圧させるようにして行われる。そして、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２との隙間を所定の値に設定した後、シール材ＳＬ、外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２、およびスペーサＳＰを硬化させる。

そして、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の図中ｘ方向に平行な辺のそれぞれの端側面に封止材ＥＣＬ１、ＥＣＬ２を塗布し、前記封止材ＥＣＬ１、ＥＣＬ２を第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の間隙に浸入させる。これにより、封止材ＥＣＬ１、ＥＣＬ２と、前記外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２によって、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の間の空間を密閉させる。

このように構成された液晶表示装置用基板は、エッチング液に浸すことによって、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の表面が研磨され、所定の板厚に薄く形成できるようになる。

図３は、図１のIII（ａ）−III（ａ）線における断面図を示した図である。ここの部分は、第１のベース基板ＬＳＢ１上にマークＭＫ３が形成されているが、このマークＭＫ３の背後（封止材ＥＣＬ１側から観て）にはスペーサＳＰ３が形成されているため、前記マークＭＫ３と第２のベース基板ＬＳＢ２との間の間隙を充分に確保することができるようになる。このため、封止材ＥＣＬ１を塗布する場合に、前記封止材ＥＣＬ１は第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２（マークＭＫ３）の間に充分に浸入でき、封止の信頼性を充分に確保できる。ちなみに、図４は、図１のIII（ｂ）−III（ｂ）線における断面図で、マークＭＫが形成されていない部分を示しているが、前記マークＭＫが形成されていない分、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２との間の間隙は充分に確保されていることから、前記封止材ＥＣＬ１は第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の間に充分に浸入でき、封止の信頼性を充分に確保できる。したがって、上述した液晶表示装置の製造方法および液晶表示装置用基板によれば、一対のベース基板の表面研磨の際に前記一対のベース基板の間に研磨液が浸入するのを信頼性よく防止できるようになる。

実施例１では、スペーサＳＰ１、ＳＰ２、ＳＰ３、ＳＰ４は、シール材ＳＬおよび外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２と同材料で、これらシール材ＳＬおよび外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２の形成の際に同時に形成するようにしたものである。

しかし、第１のベース基板ＬＳＢ１あるいは第２のベース基板ＬＳＢ２の液晶セルＬＳＬの形成領域に柱状スペーサを形成する場合において、前記スペーサＳＰ１、ＳＰ２、ＳＰ３、ＳＰ４は、前記柱状スペーサＰＳＰと同材料で、前記柱状スペーサＰＳＰの形成の際に同時に形成するようにしてもよい。同様の効果が得られるからである。

図５は、図１に示した液晶セルＬＳＬの形成領域の一つを拡大して示した図である。図５においては、シール材ＳＬで囲まれた領域（画像表示領域）内に柱状スペーサＰＳＰが散在して配置されていることを示している。この柱状スペーサＰＳＰは、液晶セルＬＳＬ毎に第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２との間のギャップを所定の値に確保するために設けられる。そして、前記柱状スペーサＰＳＰは、たとえば第２のベース基板ＬＳＢ２の第１のベース基板ＬＳＢ１と対向する側の面に、たとえば樹脂層を形成し、この樹脂層をフォトリソグラフィ技術による選択エッチングをすることにより形成するようになっている。

このように、前記柱状スペーサＰＳＰは、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２とのギャップを一定に保持する機能を有することから、前記スペーサＳＰ１、ＳＰ２、ＳＰ３、ＳＰ４を、柱状スペーサＳＰの形成の際に同時に前記柱状スペーサＳＰと同材料で形成することができる。

実施例１では、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の表面研磨の際に、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の周縁の隙間を封止する材料として、外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２と封止材ＥＣＬ１、ＥＣＬ２とで行うようにしたものである。しかし、封止材ＥＣＬ１を塗布する部分は、マークＭＫが形成されているベース基板ＬＳＢの一辺とし、他の三辺には外方シール材ＯＳＬを形成するようにしてもよい。また、外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２を用いることなく、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の周縁の全域の隙間を封止材ＥＣＬで封止するようにしてもよい。

以上、本発明を実施例を用いて説明してきたが、これまでの各実施例で説明した構成はあくまで一例であり、本発明は、技術思想を逸脱しない範囲内で適宜変更が可能である。また、それぞれの実施例で説明した構成は、互いに矛盾しない限り、組み合わせて用いてもよい。

ＬＳＢ１……第１のベース基板、ＬＳＢ２……第２のベース基板、ＳＬ……シール材、ＯＳＬ１、ＯＳＬ２……外方シール材、ＭＫ（ＭＫ１、ＭＫ２、ＭＫ３、ＭＫ４）……マーク、ＳＰ（ＳＰ１、ＳＰ２、ＳＰ３、ＳＰ４）……スペーサ、ＳＰＳ……柱状スペーサ、ＥＣＬ（ＥＣＬ１、ＥＣＬ２）……封止材。

Claims (12)

1. 複数の液晶セルを採取できる大きさの第１ベース基板と第２ベース基板を前記液晶セルの液晶封入領域を囲んで形成されるシール材を介して対向配置させ、前記第１ベース基板と前記第２ベース基板のギャップ出しを行う第１工程と、
   前記第１工程の後に、前記第１ベース基板と前記第２ベース基板の間の空間を密閉するために前記第１ベース基板と前記第２ベース基板の端側面の少なくとも一部に封止材を塗布する第２工程と、を行う液晶表示装置の製造方法であって、
   前記第１ベース基板の前記第２ベース基板と対向する面の前記封止材が塗布される側の辺の一部に隣接して前記ギャップよりも小さな高さを有する第１材料層が形成されている場合、
   前記第２工程を行う前の段階で、前記第１ベース基板の前記端側面側から観て前記材料層の背部であって前記液晶セルが形成される領域より手前の部分に前記第１材料層よりも高さの大きな第２材料層を形成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
2. 前記第１材料層は、導電膜、無機絶縁膜、有機絶縁膜、半導体膜のうちのいずれかによって、あるいは、それらのうちのいくつかの積層によって構成されていることを特徴とする請求項１の液晶表示装置の製造方法。
3. 前記第１材料層は、評価用あるいは検査用のマークを構成することを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置の製造方法。
4. 前記第２材料層は、前記シール材と同一の材料からなることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
5. 前記液晶セルの液晶封入領域に複数の柱状スペーサが形成され、前記第２材料層は、前記柱状スペーサと同一の材料からなることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
6. 前記第２材料層は、前記第１ベース基板の前記端側面から２ｍｍ以上離間して配置されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
7. 複数の液晶セルを採取できる大きさの第１ベース基板と第２ベース基板が前記液晶セルの液晶封入領域を囲んで形成されるシール材を介して対向配置され、
   前記第１ベース基板と前記第２ベース基板の端側面の少なくとも一部に封止材が塗布されて前記第１ベース基板と前記第２ベース基板の間の空間が密閉された液晶表示装置用基板であって、
   前記第１ベース基板の前記第２ベース基板と対向する面の前記封止材が塗布される側の辺の一部に隣接して前記ギャップよりも小さな高さを有する第１材料層と、
   前記第１ベース基板の前記端側面側から観て前記材料層の背部であって前記液晶セルが形成される領域より手前の部分に前記第１材料層よりも高さの大きな第２材料層と、が形成されていることを特徴とする液晶表示装置用基板。
8. 前記第１材料層は、導電膜、無機絶縁膜、有機絶縁膜、半導体膜のうちのいずれかによって、あるいは、それらのうちのいくつかの積層によって構成されていることを特徴とする請求項７の液晶表示装置用基板。
9. 前記第１材料層は、評価用あるいは検査用のマークを構成することを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置用基板。
10. 前記第２材料層は、前記シール材と同一の材料からなることを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置用基板。
11. 前記液晶セルの液晶封入領域に複数の柱状スペーサが形成され、前記第２材料層は、前記柱状スペーサと同一の材料からなることを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置用基板。
12. 前記第２材料層は、前記第１ベース基板の前記端側面から２ｍｍ以上離間して配置されていることを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置用基板。

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