JP2011012724A - ガス供給ユニット及びガス供給装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】キャリングガス(パージガス)を円滑に流通させるとともに、複数の開閉弁が設けられたブロックの幅を縮小することのできるガス供給ユニットを提供する。
【解決手段】ガス供給ユニットにおいて、弁室24は、流路ブロック20の長手方向に沿って所定間隔で流路ブロック20の上面20aに設けられ、接続流路26は、弁室24の略中央に接続されるとともに上面20aから離間する方向へ延びている。キャリングガス流路21は、接続流路26よりも太く形成されて流路ブロック20の長手方向に沿って直線状に延びるとともに、流路ブロック20を幅方向で二等分する仮想平面Fから偏った部分に配置されている。プロセスガス流路22は、上面20aとは反対側の下面20bに開口するとともに、流路ブロック20において仮想平面Fからキャリングガス流路21とは反対側に偏った部分を通過して弁室24に接続されている。
【選択図】 図3
【解決手段】ガス供給ユニットにおいて、弁室24は、流路ブロック20の長手方向に沿って所定間隔で流路ブロック20の上面20aに設けられ、接続流路26は、弁室24の略中央に接続されるとともに上面20aから離間する方向へ延びている。キャリングガス流路21は、接続流路26よりも太く形成されて流路ブロック20の長手方向に沿って直線状に延びるとともに、流路ブロック20を幅方向で二等分する仮想平面Fから偏った部分に配置されている。プロセスガス流路22は、上面20aとは反対側の下面20bに開口するとともに、流路ブロック20において仮想平面Fからキャリングガス流路21とは反対側に偏った部分を通過して弁室24に接続されている。
【選択図】 図3
Description
本発明は、複数種類のガスを切り換えて流通させるガス供給ユニット及びガス供給装置に関する。
従来、半導体製造工程等に用いられるガス供給ユニットにおいて、キャリングガス流路の断面積が変化することによるガス圧の急激な変化を抑制するために、キャリングガス流路の断面形状や断面積を流路全体でほぼ一定になるようにしたものがある(例えば、特許文献1参照)。
特許文献1に記載のものについて、図6〜8を参照して説明する。図6はガス供給ユニットの平面図であり、図7は図6の7−7線断面図であり、図8は図6の8−8線断面図である。
このガス供給ユニット311では、キャリングガス入力ポート321sからキャリングガス出力ポート321eまで、1本のキャリングガス流路321が形成され、各弁ブロック320A〜320Dには、プロセスガス入力ポート322sからキャリングガス流路321へと連通するプロセスガス流路322が形成されている。
各弁ブロック320A〜320Dでは、開閉弁350によってボディ335内でプロセスガス流路322とキャリングガス流路321との連通・遮断が操作される。ボディ335の内部には逆「V」字型のブロック流路331が形成され、弁室324に連通したプロセスガス流路322が弁孔325を介して流路331に連通している。ベースブロック340には「V」字型のブロック流路332が間隔をおいて形成され、弁ブロック320A〜320Dの各ブロック流路331とベースブロック340のブロック流路332とが直列に接続されて1本のキャリングガス流路321を構成している。
したがって、特許文献1に記載のガス供給ユニット311によれば、キャリングガス流路321は、断面形状や断面積がほぼ一定に形成されているため、キャリングガス流路321を流通するキャリングガスの圧力の急激な変化や、乱流の発生を抑制することができる。
しかしながら、特許文献1に記載のものは、各弁ブロック320A〜320Dのブロック流路331とベースブロック340のブロック流路332とがそれぞれ「V」字型に形成され、それらのブロック流路331,332が接続される構成であるため、キャリングガス流路321が複数個所で折れ曲がる複雑な形状となる。このため、キャリングガスを円滑に流通させることに支障をきたすおそれがある。
また、開閉弁350が配置される側面部335aに対して垂直な側面部335cに、プロセスガス入力ポート322sが設けられているため、弁ブロック320A〜320Dの側方にプロセスガス入力ポート322sを配置する空間を確保する必要がある。ここで、プロセスガス流路322を上記側面部335aに平行な側面部335bまで延ばして開口させることも考えられるが、その場合にはキャリングガス流路321とプロセスガス流路322A(二点鎖線で表示)との干渉が問題となる。したがって、弁ブロック320A〜320Dの幅(図8における左右方向の長さ)を縮小したり、ガス供給ユニット311を並列に配列して高集積化したりすることが困難である。
本発明は、こうした実情に鑑みてなされたものであり、キャリングガス(パージガス)を円滑に流通させるとともに、複数の開閉弁が設けられたブロックの幅を縮小することのできるガス供給ユニットを提供することを主たる目的とするものである。
上記課題を解決するために以下の手段を採用した。
第1の発明は、内部に流路の設けられた流路ブロックを備え、前記流路は主流路と前記主流路にそれぞれ連通する複数の副流路とを含み、前記副流路毎に開閉弁を備え、前記開閉弁が対応する前記副流路と前記主流路とを遮断および連通するガス供給ユニットであって、前記流路ブロックは、長尺状に延びる直方体状に形成され、前記開閉弁が搭載された弁搭載面と前記副流路が開口した副流路開口面とを有し、前記弁搭載面および前記副流路開口面は互いに反対側に位置する面であり、前記開閉弁は、前記弁搭載面の長手方向に沿って直列に配置され、前記開閉弁の各弁室が前記弁搭載面に設けられ、前記副流路が前記弁室に連通され、前記流路ブロックの内部には前記主流路と前記弁室とを接続する接続流路が設けられ、前記接続流路は前記弁室の略中央に連通されるとともに前記弁搭載面から離間する方向へ延び、前記主流路は、前記接続流路よりも太く形成されて前記弁搭載面の長手方向に沿って直線状に延びるとともに、前記流路ブロックにおいて前記弁搭載面の幅方向に関して前記弁室の中央から一方側に偏った部分に配置され、前記副流路は、前記流路ブロックにおいて前記弁搭載面の幅方向に関して前記弁室の中央から前記主流路とは反対側に偏った部分を通過していることを特徴とする。
上記構成によれば、主流路は、前記接続流路よりも太く形成されて前記弁搭載面の長手方向に沿って直線状に延びているため、キャリングガス(パージガス)が主流路を流通する際の抵抗を小さくすることができるとともに、キャリングガスの流れが乱れることを抑制することができる。このため、主流路にキャリングガスを円滑に流通させることができる。その結果、主流路にキャリングガスを流通させる場合には、プロセスガスを速やかに運ぶことができる。また、主流路にパージガスを流通させる場合には、プロセスガスを速やかにパージガスへ置換することができる。
主流路は、前記流路ブロックにおいて開閉弁が搭載された弁搭載面の幅方向に関して、前記弁室の中央から一方側に偏った部分に配置されているため、主流路を配置した部分と反対側の部分に他の流路を配置するための体積(空間)を確保することができる。ここで、主流路は接続流路よりも太く形成されているため、弁搭載面の幅方向に関して前記弁室の中央から一方側に偏った部分に主流路を配置したとしても、主流路と接続流路との接続を確保することが容易となる。
そして、副流路は、前記弁搭載面とは反対側の副流路開口面に開口しているため、弁搭載面を幅方向から挟む両側面にプロセスガスの入力ポートを設ける必要がない。ここで、副流路は、前記流路ブロックにおいて前記弁搭載面の幅方向に関して前記弁室の中央から前記主流路とは反対側に偏った部分、すなわち主流路を配置した部分と反対側に流路を配置するために確保された部分を通過しているため、流路ブロックにおいて弁搭載面の幅の範囲内に副流路を配置することが容易となる。したがって、流路ブロックの幅を縮小することができ、ひいては複数のガス供給ユニットを備えるガス供給装置を高集積化することができる。
ガス供給ユニットの幅をできるだけ狭くするために、こうした流路ブロックでは弁搭載面および副流路開口面の幅が必要最低限の幅に制限されることが多い。これに対して、以下の第2〜第4のいずれかの発明の構成を採用することが有効である。
第2の発明では、第1の発明において、前記副流路において前記主流路の横を通過する部分が他の部分よりも細く形成されているため、流路ブロックにおいて主流路に干渉しないように副流路を配置することが容易となる。したがって、流路ブロックの幅を縮小することができる。
第3の発明では、第1又は第2の発明において、前記接続流路は前記弁搭載面に対して垂直に延びているため、流路ブロックの幅を縮小することを可能としつつ、弁室と接続流路との接続部(例えば弁室に設けられる弁座)の加工を容易に行うことができる。
さらに、前記流路ブロックにおいて前記弁搭載面の幅方向に関して、前記弁室の中央から前記主流路とは反対側に偏った部分を副流路が通過することに伴って、副流路開口面において幅方向の一端寄りの位置に副流路が開口すると、副流路を設けるために必要な幅を十分に確保できなくなるおそれがある。
この点、第4の発明は、第1〜第3のいずれかの発明において、前記副流路は、前記副流路開口面において幅方向の中央に開口しているため、流路ブロックの幅が制限される場合であっても、副流路を設けるために必要な幅を十分に確保することができる。
第5の発明では、第1〜第4のいずれかの発明において、前記流路ブロックにおいて前記弁搭載面を幅方向から挟む両側面にヒータが設けられているため、弁搭載面の幅方向に関して弁室の中央から一方側に偏った部分に配置された主流路からヒータまでの距離が短くなるとともに、弁搭載面の幅方向に関して弁室の中央から主流路とは反対側に偏った部分を通過する副流路からヒータまでの距離が短くなる。したがって、主流路および副流路を流通するガスを効率的に加熱することができる。
上述したように、本発明に係るガス供給ユニットでは、弁搭載面を幅方向から挟む両側面にプロセスガスの入力ポートを設ける必要がない。このため、第6の発明のように、第1〜第5のいずれかの発明におけるガス供給ユニットを複数備え、前記弁搭載面を幅方向から挟む両側面同士が互いに当接するように前記ガス供給ユニットを並列に配列することにより、1つ1つのガス供給ユニットの幅が縮小されるとともに、ガス供給ユニット同士の隙間を省略することができる。その結果、ガス供給装置を大幅に高集積化することができる。
以下、本発明を具現化した一実施形態について、図面を参照しつつ説明する。
図1に示すように、ガス供給装置10は、同じ構成のガス供給ユニット11を複数備えている。これらのガス供給ユニット11は互いに固定されており、全体として一体化されている。
ガス供給ユニット11は、長尺状に延びる直方体状に形成された流路ブロック20と、複数の開閉弁50(50A)とを備えている。流路ブロック20の上面20a(弁搭載面)には、開閉弁50が搭載されている。開閉弁50は、上面20aの長手方向に沿って直列に配置されている。開閉弁50は、略円柱状に形成されている。流路ブロック20の上面20aの幅は、開閉弁50の円形をなす上面の直径と略等しくされている。なお、開閉弁50は、流路ブロック20の上面20aの幅内に収まっていればよく、略円柱状の形状に限らず、四角柱状の形状等、任意の形状のものを採用することができる。
複数のガス供給ユニット11は、流路ブロック20の上面20aの幅方向(長手方向に直交する方向)において、互いの側面同士が当接している。すなわち、複数のガス供給ユニット11は、流路ブロック20において上面20aを幅方向から挟む両側面同士が互いに当接するように並列に配列されている。このため、ガス供給ユニット11が集積される方向、すなわち流路ブロック20の上面20aの幅方向において、流路ブロック20同士の間には隙間が形成されていない。
流路ブロック20の上面20aの長手方向の一端部には、キャリングガス(パージガス)の出力ポート29が設けられている。この出力ポート29と反対側の端部に設けられた開閉弁50Aはキャリングガスの流通状態を変更し、他の開閉弁50は各プロセスガスの流通状態を変更する。
次に、図2,3を参照して、1つのガス供給ユニット11の構成について代表して説明する。なお、図2は図1の2−2線断面図であり、図3は図1の3−3線断面図について開閉弁50を省略して示している。
流路ブロック20の内部には、その長手方向(上面20aの長手方向)に沿って直線状に延びるキャリングガス流路21(主流路)が設けられている。キャリングガス流路21は、略円形の流路断面を有しており、その太さ(径)が一定となるように形成されている。詳しくは、キャリングガス流路21は、流路ブロック20の長手方向の端面20dからドリル等で加工を行うことにより形成されている。そして、その加工孔が栓31によって閉じられている。キャリングガス流路21において栓31と反対側の端部には、キャリングガスの出力ポート29が接続されている。
流路ブロック20の内部には、キャリングガス流路21にそれぞれ連通する複数のプロセスガス流路22(副流路)が設けられている。プロセスガス流路22(22A)は、流路ブロック20の下面20b(副流路開口面)に開口している。プロセスガス流路22は、下面20bにおいて幅方向(図3の左右方向)の中央に開口している。すなわち、プロセスガス流路22の開口部は、流路ブロック20を幅方向で二等分する仮想平面Fを中心として均等に配置されている。
流路ブロック20の上面20aには、流路ブロック20の長手方向(上面20aの長手方向)に沿って所定間隔で上記開閉弁50の弁室24が設けられている。そして、上記各プロセスガス流路22は各弁室24に連通されている。すなわち、開閉弁50は、プロセスガス流路22毎に設けられている。
弁室24は、キャリングガス流路21の延びる方向に沿って所定間隔で設けられているとともに、流路ブロック20の幅方向(流路ブロック20の上面20aの幅方向)において中央に設けられている。弁室24は、略円形の凹部として形成されている。そして、弁室24は、流路ブロック20の幅を縮小するために、流路ブロック20の幅方向の略全長にわたって設けられている。換言すれば、流路ブロック20の幅は、弁室24の径と略等しく又はそれよりも若干広く設定されている。
弁室24の中央には、開閉弁50の弁体51が当接および離間する弁座24aが設けられている。弁座24aは、略円環状の突部として形成されている。弁室24の中央、すなわち弁座24aで囲まれる部分には、接続流路26が連通されている。接続流路26は、流路ブロック20内において、流路ブロック20の上面20aから離間する方向へ延びて上記キャリングガス流路21に接続されている。すなわち、接続流路26は、弁室24とキャリングガス流路21とを接続している。したがって、上記プロセスガス流路22は、弁室24及び接続流路26を介してキャリングガス流路21に接続されている。
プロセスガス遮断後のデッドスペースとなる接続流路26をできるだけ短くするために、キャリングガス流路21は弁室24の近傍に配置されている。接続流路26は、流路ブロック20の上面20aから垂直に延びてキャリングガス流路21に接続されている。詳しくは、上面20aの幅方向に関して、接続流路26はキャリングガス流路21の端部付近に接続されている。また、接続流路26は、流路ブロック20の幅方向の中央に配置されている。このため、流路ブロック20において複数の接続流路26の中心軸線は、流路ブロック20を幅方向で二等分する仮想平面F上に位置している。
キャリングガス流路21は、接続流路26やプロセスガス流路22よりも太く形成されている。このため、キャリングガス流路21が流路ブロック20の長手方向に直線状に延びる構成であったとしても、比較的容易に加工を行うことができる。
開閉弁50は、電磁駆動式の弁であり、コイル52への通電制御を通じて弁体51を往復駆動する。そして、弁室24に設けられた弁座24aに弁体51が当接および離間することにより、弁室24と接続流路26とが遮断および連通される。なお、開閉弁50は、電磁駆動式の弁に限らず、エアオペレイト式の弁や圧電素子駆動式の弁等、任意の型式のものを採用することもできる。
ここで、キャリングガス流路21は、流路ブロック20の幅方向に関して弁室24の中央から一方側に偏った部分、すなわち仮想平面Fから偏った部分に配置されている。すなわち、キャリングガス流路21の中心軸線は仮想平面Fからずれており、キャリングガス流路21は流路ブロック20の幅方向の中央から偏っている。換言すれば、キャリングガス流路21は、流路ブロック20において上面20aを幅方向から挟む両側面20cの一方寄りに配置されている。このため、流路ブロック20において、キャリングガス流路21を配置した部分と反対側の部分に他の流路を配置するための体積(空間)を確保することができる。また、キャリングガス流路21は、弁室24の中央から上面20aに対して垂直に延びる接続流路26に接続することのできる範囲で、流路ブロック20の幅方向に関して弁室24の中央から一方側に偏っている。なお、キャリングガス流路21の流路断面積(径)は、ガス供給ユニット11において必要な量のキャリングガスを流通させることができるように設定されている。
そして、キャリングガス流路21を仮想平面Fから偏らせて配置したことにより反対側に確保された部分をプロセスガス流路22が通過している。プロセスガス流路22は、流路ブロック20において仮想平面Fからキャリングガス流路21とは反対側に偏った部分を通過して上記弁室24に接続されている。このため、開閉弁50(弁室24)が設けられる上面20aに対して垂直な側面20cにプロセスガスの入力ポートを設ける必要がない。
プロセスガス流路22は、流路ブロック20の上面20aに対して垂直に延びる垂直部分22bを有している。そして、この垂直部分22bがキャリングガス流路21の横を通過している。このため、流路ブロック20内において、キャリングガス流路21と側面20cとの間隔を一定に保つように垂直部分22bを配置することができる。プロセスガス流路22においてキャリングガス流路21の横を通過する垂直部分22bが、他の部分である傾斜部分22aよりも細く形成されている。これらの構成により、流路ブロック20の幅が制限される場合であっても、流路ブロック20内においてキャリングガス流路21に干渉しないようにプロセスガス流路22(垂直部分22b)を配置することが容易となる。また、プロセスガス流路22は、流路ブロック20の下面20bにおいて幅方向の中央に開口するとともに、キャリングガス流路21を避けるように折れ曲がって弁室24に接続されている。
このように構成されたガス供給ユニット11において、複数のプロセスガス流路22のうち、流路ブロック20の長手方向においてキャリングガス(パージガス)の出力ポート29と反対側の端部に設けられたプロセスガス流路22Aはキャリングガスの流路として用いられる。そして、このプロセスガス流路22Aに対応する開閉弁50Aによって、キャリングガスが遮断および流通される。その他のプロセスガス流路22には各プロセスガスが供給され、それぞれに対応する開閉弁50によって各プロセスガスが遮断および流通される。また、並列に配列されたガス供給ユニット11によってガス供給装置10が構成され、全体としてキャリングガス及びプロセスガスの流通状態が制御される。なお、キャリングガス流路21にキャリングガスを流通させず、プロセスガス及びパージガスの流路として用いてもよい。
以上詳述した本実施形態は以下の利点を有する。
キャリングガス流路21は、接続流路26よりも太く形成されて流路ブロック20の長手方向(上面20aの長手方向)に沿って直線状に延びているため、キャリングガスがキャリングガス流路21を流通する際の抵抗を小さくすることができるとともに、キャリングガスの流れが乱れることを抑制することができる。このため、キャリングガス流路21にキャリングガスを円滑に流通させることができる。その結果、キャリングガス流路21にキャリングガスを流通させる場合には、プロセスガスを速やかに運ぶことができる。また、キャリングガス流路21にパージガスを流通させる場合には、プロセスガスを速やかにパージガスへ置換することができる。
キャリングガス流路21は、流路ブロック20において開閉弁50が搭載された上面20aの幅方向に関して弁室24の中央から一方側に偏った部分、すなわち流路ブロック20を幅方向で二等分する仮想平面Fから偏った部分に配置されている。このため、キャリングガス流路21を配置した部分と反対側の部分に他の流路を配置するための体積(空間)を確保することができる。ここで、キャリングガス流路21は接続流路26よりも太く形成されているため、仮想平面Fから偏った部分にキャリングガス流路21を配置したとしても、キャリングガス流路21と接続流路26との接続を確保することが容易となる。
そして、プロセスガス流路22は、開閉弁50の弁室24が設けられた上面20aとは反対側の下面20bに開口しているため、上面20aを幅方向から挟む両側面20c、すなわち上面20aに対して垂直な側面20cにプロセスガスの入力ポートを設ける必要がない。ここで、プロセスガス流路22は、流路ブロック20において仮想平面Fからキャリングガス流路21とは反対側に偏った部分、すなわちキャリングガス流路21を配置した部分と反対側に他の流路を配置するために確保された部分を通過して弁室24に接続されているため、流路ブロック20の幅の範囲内にプロセスガス流路22を配置することが容易となる。したがって、流路ブロック20の幅を縮小することができ、ひいては複数のガス供給ユニット11を備えるガス供給装置10を高集積化することができる。
ガス供給ユニット11の幅をできるだけ狭くするために、流路ブロック20では上面20aおよび下面20bの幅が必要最低限の幅に制限されている。これに対して、以下の構成が有効である。
プロセスガス流路22においてキャリングガス流路21の横を通過する垂直部分22bが他の部分である傾斜部分22aよりも細く形成されているため、流路ブロック20においてキャリングガス流路21に干渉しないようにプロセスガス流路22を配置することが容易となる。したがって、流路ブロック20の幅を縮小することができる。
接続流路26は流路ブロック20の上面20aに対して垂直に延びているため、流路ブロック20の幅を縮小することを可能としつつ、弁室24と接続流路26との接続部、すなわち弁座24aの加工を容易に行うことができる。
さらに、流路ブロック20において上面20aの幅方向に関して、弁室24の中央からキャリングガス流路21とは反対側に偏った部分をプロセスガス流路22が通過することに伴って、下面20bにおいて幅方向の一端寄りの位置にプロセスガス流路22が開口すると、プロセスガス流路22を設けるために必要な幅を十分に確保できなくなるおそれがある。
この点、プロセスガス流路22は、流路ブロック20の下面20bにおいて、流路ブロック20の幅方向の中央に開口しているため、流路ブロック20の幅が制限される場合であっても、プロセスガス流路22を設けるために必要な幅を十分に確保することができる。
ガス供給ユニット11では、開閉弁50(弁室24)が設けられる上面20aに対して垂直な側面20cにプロセスガスの入力ポートを設ける必要がない。そして、ガス供給装置10は、複数のガス供給ユニット11を備え、上面20aを幅方向から挟む両側面20c同士が互いに当接するようにガス供給ユニット11を並列に配列している。このため、1つ1つのガス供給ユニット11の幅が縮小されるとともに、ガス供給ユニット11同士の隙間を省略することができる。その結果、ガス供給装置10を大幅に高集積化することができる。
上記実施形態に限定されず、例えば次のように実施することもできる。
プロセスガス流路22は、流路ブロック20の下面20bにおいて幅方向の中央に開口するとともに、キャリングガス流路21を避けるように折れ曲がって弁室24に接続されるようにした。しかしながら、キャリングガス流路21とプロセスガス流路22とが干渉しないのであれば、下面20bから弁室24まで斜め方向に延びる直線状のプロセスガス流路を設けてもよい。また、それに加えて、プロセスガス流路の太さが一定になるようにしてもよい。
図2において、流路ブロック20の長手方向の端部にキャリングガス流路21の上流側の端部を塞ぐ栓31を設けるようにしたが、この栓31を設ける代わりにこの開口からキャリングガスを流入させるようにしてもよい。この場合には、プロセスガス流路22Aからプロセスガスを流入させて、開閉弁50Aはプロセスガスを遮断および連通させることとなる。なお、キャリングガスの流通状態を変更する開閉弁は、ガス供給ユニット11とは別に設けるようにすればよい。また、キャリングガス流路21の下流側の端部に、流路ブロック20の上面20aに開口する出力ポート29を設けるようにしたが、キャリングガス流路21の下流側を流路ブロック20の端面まで延長して開口させるようにしてもよい。
図4に示すように、流路ブロック120の側面120cに設けられた溝122とその溝開口に設けられた蓋123とによってキャリングガス流路121を形成することもできる。こうした構成によれば、図3に示すように流路ブロック20の側面20c近傍にキャリングガス流路21を形成する内壁の厚みを確保する必要がある場合と異なり、流路ブロック120の幅が制限される場合であっても、流路ブロック120の幅方向に関してキャリングガス流路121の幅(溝122の深さ)を確保することが容易となる。
図5に示すように、流路ブロック20を幅方向で二等分する仮想平面Fに対向する側面20cにヒータ70A,70Bを設けてもよい。この場合には、仮想平面Fから偏った部分に配置されたキャリングガス流路21からヒータ70Aまでの距離が短くなるとともに、仮想平面Fからキャリングガス流路21とは反対側に偏った部分を通過するプロセスガス流路22からヒータ70Bまでの距離が短くなる。したがって、キャリングガス流路21およびプロセスガス流路22を流通するガスを効率的に加熱することができる。さらに、図5に示すように、流路ブロック20の長手方向に延びる薄板状又は薄膜状にヒータ70A,70Bを形成することにより、ガス供給ユニット11の幅が拡大することを抑制することができる。また、複数のガス供給ユニット11を並列に配列してガス供給装置10を構成する場合に、隣り合う流路ブロック20の間にヒータ70Aが挟み込まれた状態で、隣り合う流路ブロック20が一体化されている構成を採用することにより、1つのヒータ70Aによって隣り合う2つの流路ブロック20を加熱することができる。なお、この場合にはヒータ70A又はヒータ70Bの一方のみが設けられる。
流路ブロック20は横幅よりも縦幅が広い直方体状に形成されていたが、横幅と縦幅とが等しい四角柱状の流路ブロックを採用することもできる。
図1において、複数のガス供給ユニット11の出力ポート29を接続して、複数のガス供給ユニット11の組み合わせによりガスの種類や流量を制御することもできる。
20…流路ブロック、20a…弁搭載面としての上面、20b…副流路開口面としての下面、21…主流路としてのキャリングガス流路、22…副流路としてのプロセスガス流路、24…弁室、26…接続流路。
Claims (6)
- 内部に流路の設けられた流路ブロックを備え、前記流路は主流路と前記主流路にそれぞれ連通する複数の副流路とを含み、前記副流路毎に開閉弁を備え、前記開閉弁が対応する前記副流路と前記主流路とを遮断および連通するガス供給ユニットであって、
前記流路ブロックは、長尺状に延びる直方体状に形成され、前記開閉弁が搭載された弁搭載面と前記副流路が開口した副流路開口面とを有し、前記弁搭載面および前記副流路開口面は互いに反対側に位置する面であり、
前記開閉弁は、前記弁搭載面の長手方向に沿って直列に配置され、前記開閉弁の各弁室が前記弁搭載面に設けられ、
前記副流路が前記弁室に連通され、
前記流路ブロックの内部には前記主流路と前記弁室とを接続する接続流路が設けられ、前記接続流路は前記弁室の略中央に連通されるとともに前記弁搭載面から離間する方向へ延び、
前記主流路は、前記接続流路よりも太く形成されて前記弁搭載面の長手方向に沿って直線状に延びるとともに、前記流路ブロックにおいて前記弁搭載面の幅方向に関して前記弁室の中央から一方側に偏った部分に配置され、
前記副流路は、前記流路ブロックにおいて前記弁搭載面の幅方向に関して前記弁室の中央から前記主流路とは反対側に偏った部分を通過していることを特徴とするガス供給ユニット。 - 前記副流路において前記主流路の横を通過する部分が他の部分よりも細く形成されていることを特徴とする請求項1に記載のガス供給ユニット。
- 前記接続流路は前記弁搭載面に対して垂直に延びていることを特徴とする請求項1又は2に記載のガス供給ユニット。
- 前記副流路は、前記副流路開口面において幅方向の中央に開口していることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のガス供給ユニット。
- 前記流路ブロックにおいて前記弁搭載面を幅方向から挟む両側面にヒータが設けられていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のガス供給ユニット。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載のガス供給ユニットを複数備え、前記弁搭載面を幅方向から挟む両側面同士が互いに当接するように前記ガス供給ユニットを並列に配列したことを特徴とするガス供給装置。
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KR20160012956A (ko) * | 2014-07-25 | 2016-02-03 | 시케이디 가부시키가이샤 | 유체 공급 장치 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63110775U (ja) * | 1987-01-12 | 1988-07-16 | ||
JP2000035148A (ja) * | 1998-07-22 | 2000-02-02 | Hitachi Metals Ltd | 集積形流体制御装置 |
JP2000314500A (ja) * | 1999-04-30 | 2000-11-14 | Benkan Corp | 集積化ガス制御装置 |
JP2002267100A (ja) * | 2001-03-05 | 2002-09-18 | Tokyo Electron Ltd | 流体制御装置 |
JP2004340199A (ja) * | 2003-05-14 | 2004-12-02 | Fujikin Inc | 加熱装置付き流体制御装置 |
-
2009
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63110775U (ja) * | 1987-01-12 | 1988-07-16 | ||
JP2000035148A (ja) * | 1998-07-22 | 2000-02-02 | Hitachi Metals Ltd | 集積形流体制御装置 |
JP2000314500A (ja) * | 1999-04-30 | 2000-11-14 | Benkan Corp | 集積化ガス制御装置 |
JP2002267100A (ja) * | 2001-03-05 | 2002-09-18 | Tokyo Electron Ltd | 流体制御装置 |
JP2004340199A (ja) * | 2003-05-14 | 2004-12-02 | Fujikin Inc | 加熱装置付き流体制御装置 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20160012956A (ko) * | 2014-07-25 | 2016-02-03 | 시케이디 가부시키가이샤 | 유체 공급 장치 |
JP2016031082A (ja) * | 2014-07-25 | 2016-03-07 | Ckd株式会社 | 流体供給装置 |
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