TW201323754A - 流體控制裝置 - Google Patents

流體控制裝置 Download PDF

Info

Publication number
TW201323754A
TW201323754A TW101128697A TW101128697A TW201323754A TW 201323754 A TW201323754 A TW 201323754A TW 101128697 A TW101128697 A TW 101128697A TW 101128697 A TW101128697 A TW 101128697A TW 201323754 A TW201323754 A TW 201323754A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
passage
fluid
block
control device
opening
Prior art date
Application number
TW101128697A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI484110B (zh
Inventor
Haruhiko Kuriki
Takahiro Matsuda
Mutsunori Koyomogi
Megumu Makino
Original Assignee
Fujikin Kk
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujikin Kk filed Critical Fujikin Kk
Publication of TW201323754A publication Critical patent/TW201323754A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI484110B publication Critical patent/TWI484110B/zh

Links

Classifications

    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K27/00—Construction of housing; Use of materials therefor
    • F16K27/003—Housing formed from a plurality of the same valve elements
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T137/00—Fluid handling
    • Y10T137/8593—Systems
    • Y10T137/87249—Multiple inlet with multiple outlet

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Valve Housings (AREA)

Abstract

流體控制裝置具有配置成對稱之同一形狀的2個開閉閥2、3。在各開閉閥2、3的出口，以彼此平行的方式設置長度相同的流體排出通路6、7、11、12。在2條流體排出通路6、7、11、12的出口，安裝連接構件10，該連接構件10具有與各流體排出通路6、7、11、12連通之長度相同的流體通路25、26，並可安裝於腔室。

Description

流體控制裝置
本發明係有關於在半導體製造裝置等所使用之流體控制裝置，尤其是有關於作成可將2種流體選擇性導入及排出的流體控制裝置。
關於在半導體製造裝置所使用之流體控制裝置，需要將2種流體供給至處理腔室內，在專利文獻1(特開2004-214622號公報)，關於可將2種流體選擇性導入及排出的流體控制裝置，揭示一種具有圓筒形本體(頭部總成)、與安裝於本體的2個開閉閥，並作成可將本體安裝於設在處理腔室之蓋上的開口部者。
在本流體控制裝置，2個開閉閥係以彼此平行且相對向的方式安裝於本體，導入各開閉閥的流體係在本體內成漩渦狀地流動並混合後，被送至腔室。
依據上述以往的流體控制裝置，流體(氣體)在本體內成漩渦狀地流動時，有時流體會滯留，根據流體的種類，所混合的2種流體會產生反應，而在流體控制裝置的排出口附近產生生成物，具有雜質被導入腔室內的問題。
本發明之目的在於提供一種可防止起因於反應生成物的雜質進入腔室內之情形的流體控制裝置。
本發明之流體控制裝置係作成可將2種流體選擇性導入及排出的流體控制裝置，其特徵為：具有配置成對 稱之同一形狀的2個開閉閥，在各開閉閥的出口，以彼此平行的方式設置長度相同的流體排出通路，在2條流體排出通路的出口，安裝連接構件，該連接構件係具有與各流體排出通路連通之長度相同的流體通路，並可安裝於腔室。
藉由將同一形狀的2個開閉閥配置成對稱，因為在各開閉閥內從流體入口至流體出口為止的流體通路容積、流體通路長度變相同，又，之後亦以長度相同的流體通路作輸送，所以2種流體的控制變得容易。而且，因為2種流體分別在個別的的流體排出通路流通，所以沒有流體彼此滯留、混合而產生生成物的情形，可防止起因於反應生成物雜質流入的情形，能將將所要之流體導入腔室內。
各開閉閥係作成具有2條流體入口通路及一條流體出口通路的三通閥，並藉設有與第1流體入口通路連通之通路的第1通路方塊、設有與第2流體入口通路連通之通路的第2通路方塊、及設有與流體出口通路連通之通路的第3通路方塊所支撐，各通路方塊以配置成相對於2個開閉閥之中心線呈對稱較佳。
依此方式，組立、分解變得容易，在維修性方面亦優異。
例如，第1通路方塊係作成帶有接頭的通路方塊，其所設置的接頭用以連接朝第1流體入口通路導入流體之導入管，第2通路方塊係作成具有大致V字形(包含U字形)通路的V字形通路方塊，第3通路方塊係作成具有I字形 通路的I字形通路方塊。而且，藉由在作成I字形通路方塊的各第3通路方塊上結合了彼此平行地在上下方向延伸的流體排出管，而形成由I字形通路方塊之I字形通路及流體排出管內通路所構成的流體排出通路。流體排出管係形成為來自各個開閉閥的通路成為平行，亦可是直線狀通路，亦可以是在途中有彎曲的通路。
較佳為，以包挾2個開閉閥的方式設置作成可將沖洗用流體對各開閉閥選擇性導入及排出的沖洗用開閉閥，而沖洗用開閉閥的出口通路與第2通路方塊的通路連通。
依此方式，可得到易組立、分解的構造之流體控制裝置，亦即藉由在2種流體(例如處理氣體)導入及排出後使沖洗用流體流動，可簡單地進行處理氣體的沖洗之流體控制裝置。
依據本發明的流體控制裝置，因為具有配置成對稱之同一形狀的2個開閉閥，在各開閉閥的出口，以彼此平行的方式設置長度相同的流體排出通路，並在2條流體排出通路的出口，安裝具有與各流體排出通路連通之長度相同的流體通路並可安裝於腔室的連接構件，所以2種流體的控制變得容易，而且流體彼此不會滯留、混合而產生生成物，防止起因於反應生成物之雜質流入的情形，可將所要之流體導入腔室內。
以下，參照圖面，說明本發明之實施形態。在以下的說明，上下、左右係意指第1圖之上下、左右。
本發明之流體控制裝置(1)的第1實施形態係可將2 種流體選擇性對腔室(省略圖示)引入及排出。如第1圖所示，具有：2個同一形狀之左右的開閉閥(2)(3)，配置於上段；6個長方體狀通路方塊(4)(5)(6)(7)(8)(9)，以在左右排列的方式配置於下段，並支撐開閉閥(2)(3)；連接構件(10)，配置於6個通路方塊(4)(5)(6)(7)(8)(9)的下方並安裝於腔室；及流體排出管(11)(12)，其等係上端固定於中央之2個通路方塊(6)(7)，並延長至下方。流體控制裝置(1)係相對於左右相鄰之2個開閉閥(2)(3)的中心線，作成左右對稱形狀。
各開閉閥(2)(3)都是三通閥，並由形成有流體通路(21a)(23a)(21b)(23b)(21c)(23c)的本體(21)(23)、及遮斷、開放流體通路(21a)(23a)(21b)(23b)(21c)(23c)的致動器(22)(24)所構成。在各本體(21)(23)，關於流體通路(21a)(23a)(21b)(23b)(21c)(23c)，設置用作處理氣體入口通路的第1流體入口通路(21a)(23a)、用作沖洗氣體入口通路的第2流體入口通路(21b)(23b)、及用作處理氣體、沖洗氣體出口通路的出口通路(21c)(23c)。
各開閉閥(2)(3)係藉來自上方之具有六角孔的螺栓(13)以可拆裝地安裝於對應之通路方塊(4)(5)(6)(7)(8)(9)。
通路方塊(4)(5)(6)(7)(8)(9)由以下之通路方塊所構成：左右之V字形通路方塊(第2通路方塊)(4)(9)，係具有V字形通路(4a)(9a)，並配置於左右兩端；左右之帶有接頭的通路方塊(第1通路方塊)(5)(8)，係設有將流體導入至第1流體入口通路(21a)(23a)之導入管連接用的接頭 (5a)(8a)，並配置於左右之V字形通路方塊(4)(9)的內側；及左右之I字形通路方塊(第3通路方塊)(6)(7)，係具有I字形通路(6a)(7a)，並配置於左右之帶有接頭的通路方塊(5)(8)的更內側。圖示中倒是省略了從左右方向觀察時在帶有接頭的通路方塊(5)(8)所形成之L字形的通路。
各開閉閥(2)(3)的第1流體入口通路(21a)(23a)與帶有接頭的通路方塊(5)(8)的通路連通，各開閉閥(2)(3)的第2流體入口通路(21b)(23b)與V字形通路方塊(4)(9)的V字形通路(4a)(9a)連通，各開閉閥(2)(3)的出口通路(21c)(23c)與I字形通路方塊(6)(7)的I字形通路(6a)(7a)連通。
左側之V字形通路方塊(4)係藉右半部(靠內的半部)支撐左側的開閉閥(2)，右側之V字形通路方塊(9)係藉左半部(靠內的半部)支撐右側的開閉閥(3)。在V字形通路方塊(4)(9)之靠外的半部，V字形通路(4a)(9a)朝上方開口，可將別的流體(處理氣體或沖洗氣體)導入至V字形通路方塊(4)(9)。
左右之I字形通路方塊(6)(7)的I字形通路(6a)(7a)彼此平行地在上下方向延伸，各流體排出管(11)(12)與I字形通路方塊(6)(7)的I字形通路(6a)(7a)連接，並彼此平行地在上下方向延伸。藉由流體排出管(11)(12)與各I字形通路方塊(6)(7)結合，而形成由I字形通路方塊(6)(7)之I字形通路(6a)(7a)及流體排出管(11)(12)之內通路所構成的流體排出通路。配置於左側的通路方塊(4)(5)(6)與配置於右側的通路方塊(7)(8)(9)之對應部分彼此作成同一形狀，又，左側的流體排出管(11)與右側的流體排出管 (12)亦作成同一形狀，藉此，由I字形通路(6a)(7a)及流體排出管(11)(12)之內通路所構成的流體排出通路亦在左右成為相同的長度。
此外，流體排出管(11)(12)未限定為直線狀，亦可以是在中途有彎曲的通路。總之，只要來自各個開閉閥(2)(3)的通路(I字形通路(6a)(7a)及流體排出管(11)(12)的內通路)形成平行即可。
連接構件(10)如第2圖亦顯示，作成底面為正方形的長方體狀，在連接構件(10)，形成與各流體排出管(11)(12)連通且在上下方向延伸之長度相同之左右的流體通路(25)(26)。連接構件(10)作成可藉具有六角孔的螺栓(14)而安裝於腔室。各流體排出管(11)(12)對連接構件(10)的固定如第2圖所示，係藉由具有六角孔的螺栓(15)將設置於各流體排出管(11)(12)的凸緣部(11a)(12a)安裝於連接構件(10)來進行。此外，連接構件(10)的底面形狀未限定為正方形，只要是可將各流體排出管(11)(12)與腔室連接的形狀即可，不管是長方形或是多角形，任何形狀皆可。
依據該實施形態的流體控制裝置(1)，因為相對於左右相鄰之2個開閉閥(2)(3)的中心線，作成左右對稱形狀，所以從開閉閥(2)(3)的入口至出口為止的流體通路容積、流體通路長度都相同，因此，左右之流體通路的導率相同，在將2種流體(例如2種氣體)送至腔室時，預先配合壓力等的條件後，若同時打開開閉閥(2)(3)，則在2種氣體之導入及排出的時序上不會發生偏差，2種流體的控 制變得容易。
第4圖表示作為比較例的流體控制裝置。以該流體控制裝置而言，關於中央的通路方塊(41)，是替代左右2個I字形通路方塊(6)(7)，改為使用具有Y字形通路(41a)的一個Y字形通路方塊(41)，並使2種流體在Y字形通路方塊(41)的Y字形通路(41a)內混合。而，關於排出管(42)，是使用具有將在Y字形通路(41a)混合後的流體朝下方運送的一條通路者，在連接構件(43)，形成與排出管(42)連通的一條流體通路(43a)。除了中央之通路方塊(41)、排出管(42)及連接構件(43)以外的構成係作成與第1圖所示的第1實施形態相同，關於作成左右對稱形狀這點亦相同。
在本比較例的流體控制裝置，亦因為相對於左右相鄰之2個開閉閥(2)(3)的中心線，作成左右對稱形狀，所以從開閉閥(2)(3)的入口至出口為止之流體通路容積、流體通路長度都相同，因此，左右之流體通路的導率相同，與第1實施形態一樣，可得到2種流體之控制變容易的效果。可是，在比較例的流體控制裝置，流體滯留於Y字形通路方塊(41)的Y字形通路(41a)內之以虛線表示的部分，在2種流體為例如具有反應性之氣體種類的情況，具有因混合而產生生成物的問題。
相對地，依據第1實施形態的流體控制裝置(1)，因為2種流體分別通過個別的流體排出管(11)(12)及個別的連接構件內流體通路(25)(26)，所以流體彼此不會滯留、混合而產生生成物，防止起因於反應生成物之雜質流入的情況，而可將所要之流體導入腔室內。
第1圖所示的流體控制裝置(1)係表示本發明的主要部分，在較佳的實施形態方面，如第3圖所示，係作成包挾2個處理氣體用開閉閥(2)(3)的方式設置可對各處理氣體用開閉閥(2)(3)選擇性導入及排出沖洗用流體之左右的沖洗用開閉閥(16)(17)。此外，在以下的說明，對與第1實施形態相同的構成附加相同的符號，並省略其說明。
沖洗用開閉閥(16)(17)由形成有流體通路的本體(27)(29)、與遮斷、開放流體通路的致動器(28)(30)所構成。沖洗用開閉閥(16)(17)之本體(27)(29)之靠內的半部係被支撐著處理氣體用開閉閥(2)(3)之V字形通路方塊(4)(9)之靠外的半部所支撐，藉此，沖洗用開閉閥(16)(17)的出口通路(27b)(29b)與V字形通路方塊(4)(9)的V字形通路(4a)(9a)連通。
沖洗用開閉閥(16)(17)之本體(27)(29)之靠外的半部係被設有接頭(18a)(19a)之左右的帶有接頭的通路方塊(18)(19)所支撐。圖示中倒是省略了從左右方向觀察時在帶有接頭的通路方塊(18)(19)所形成之L字形的通路，該通路與沖洗用開閉閥(16)(17)的入口通路(27a)(29a)連通。
沖洗用開閉閥(16)(17)係藉來自上方之具有六角孔的螺栓(13)以可拆裝地安裝於對應之通路方塊(4)(9)(18)(19)。
依據本第2實施形態的流體控制裝置(1)，在2種流體(例如處理氣體)導入及排出後，使沖洗用流體流動，藉此，可簡單地沖洗處理氣體。
又，依據第1及第2實施形態的流體控制裝置(1)，因為各開閉閥(2)(3)(16)(17)藉來自上方之具有六角孔的螺栓(13)以可拆裝地安裝於對應之通路方塊(4)(5)(6)(7)(8)(9)(18)(19)，所以容易組立、分解，又，因為各開閉閥(2)(3)(16)(17)整個容易拆下，所以在維修性方面亦優異。
1‧‧‧流體控制裝置
2、3‧‧‧開閉閥
4、5、6、7、8、9‧‧‧通路方塊
4a、9a‧‧‧V字形通路
5a、8a‧‧‧接頭
6a、7a‧‧‧I字形通路
10‧‧‧連接構件
11、12‧‧‧流體排出管
13‧‧‧螺栓
14‧‧‧螺栓
21、23‧‧‧本體
21a、23a、21b、23b、21c、23c‧‧‧流體通路
22、24‧‧‧致動器
25、26‧‧‧流體通路
第1圖係表示本發明之流體控制裝置之第1實施形態的正面剖面視圖。
第2圖係沿著第1圖之II-II線的剖面圖。
第3圖係表示本發明之流體控制裝置之第2實施形態的正視圖。
第4圖係表示本發明之流體控制裝置之比較例的正視圖。
1‧‧‧流體控制裝置
2、3‧‧‧開閉閥
4、5、6、7、8、9‧‧‧通路方塊
4a、9a‧‧‧V字形通路
5a、8a‧‧‧接頭
6a、7a‧‧‧I字形通路
10‧‧‧連接構件
11、12‧‧‧流體排出管
13‧‧‧螺栓
14‧‧‧螺栓
21、23‧‧‧本體
21a、23a、21b、23b、21c、23c‧‧‧流體通路
22、24‧‧‧致動器
25、26‧‧‧流體通路

Claims (4)

  1. 一種流體控制裝置，係可將2種流體選擇性導入及排出的流體控制裝置，其特徵為：具有配置成對稱之同一形狀的2個開閉閥，在各開閉閥的出口，以彼此平行的方式設置長度相同的流體排出通路，在2條流體排出通路的出口，安裝連接構件，該連接構件係具有與各流體排出通路連通之長度相同的流體通路，並可安裝於腔室。
  2. 如申請專利範圍第1項之流體控制裝置，其中各開閉閥係作成具有2條流體入口通路及一條流體出口通路的三通閥，並藉設有與第1流體入口通路連通之通路的第1通路方塊、設有與第2流體入口通路連通之通路的第2通路方塊、及設有與流體出口通路連通之通路的第3通路方塊所支撐，各通路方塊係配置成相對於2個開閉閥之中心線呈對稱。
  3. 如申請專利範圍第2項之流體控制裝置，其中第1通路方塊係作成帶有接頭的通路方塊，其所設置的接頭用以和朝第1流體入口通路導入流體之導入管連接，第2通路方塊係作成具有大致V字形通路的V字形通路方塊，第3通路方塊係作成具有I字形通路的I字形通路方塊，藉由在各第3通路方塊結合彼此平行的流體排出管，而形成由第3通路方塊之I字形通路及流體排出管內通路所構成的流體排出通路。
  4. 如申請專利範圍第2項之流體控制裝置，其中以包挾2個開閉閥的方式於各開閉閥設置作成可將沖洗用流體 選擇性導入及排出的沖洗用開閉閥，而沖洗用開閉閥的出口通路與第2通路方塊的通路連通。
TW101128697A 2011-08-10 2012-08-09 流體控制裝置 TWI484110B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011175042A JP5785813B2 (ja) 2011-08-10 2011-08-10 流体制御装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201323754A true TW201323754A (zh) 2013-06-16
TWI484110B TWI484110B (zh) 2015-05-11

Family

ID=47676765

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW101128697A TWI484110B (zh) 2011-08-10 2012-08-09 流體控制裝置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US9212755B2 (zh)
JP (1) JP5785813B2 (zh)
KR (1) KR101422916B1 (zh)
TW (1) TWI484110B (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106167758A (zh) * 2016-08-26 2016-11-30 江苏领坤生物科技有限公司 一种用于dna合成仪的分注装置

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9454158B2 (en) 2013-03-15 2016-09-27 Bhushan Somani Real time diagnostics for flow controller systems and methods
JP1528532S (zh) * 2014-09-30 2015-07-13
JP6671299B2 (ja) * 2015-01-16 2020-03-25 株式会社キッツエスシーティー ブロック弁と原料容器用ブロック弁
JP1539278S (zh) * 2015-03-31 2015-11-30
USD854656S1 (en) * 2016-05-19 2019-07-23 Nagano Keiki Co., Ltd. Fluid controller
US10983538B2 (en) 2017-02-27 2021-04-20 Flow Devices And Systems Inc. Systems and methods for flow sensor back pressure adjustment for mass flow controller
KR102543187B1 (ko) 2018-11-09 2023-06-15 삼성전자주식회사 밸브 장치
JP7389461B2 (ja) * 2019-10-31 2023-11-30 株式会社フジキン バルブ装置および流体制御装置

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4703913A (en) * 1982-09-22 1987-11-03 California Institute Of Technology Diaphragm valve
JP3360098B2 (ja) * 1995-04-20 2002-12-24 東京エレクトロン株式会社 処理装置のシャワーヘッド構造
US6394138B1 (en) * 1996-10-30 2002-05-28 Unit Instruments, Inc. Manifold system of removable components for distribution of fluids
JP4022696B2 (ja) * 1996-11-20 2007-12-19 忠弘 大見 遮断開放器
JP3997338B2 (ja) * 1997-02-14 2007-10-24 忠弘 大見 流体制御装置
JP4110304B2 (ja) * 1998-06-30 2008-07-02 株式会社フジキン 流体制御装置および流体制御装置組立て方法
JP2002349797A (ja) * 2001-05-23 2002-12-04 Fujikin Inc 流体制御装置
JP3472282B2 (ja) * 2001-08-30 2003-12-02 東京エレクトロン株式会社 流体制御装置及び熱処理装置と流体制御方法
US7204886B2 (en) * 2002-11-14 2007-04-17 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for hybrid chemical processing
CN100339629C (zh) * 2002-10-21 2007-09-26 喜开理株式会社 集成气阀
JP4314425B2 (ja) * 2002-12-02 2009-08-19 株式会社フジキン 流体制御装置
JP2004183771A (ja) * 2002-12-03 2004-07-02 Fujikin Inc 流体制御装置
JP2006083959A (ja) * 2004-09-16 2006-03-30 Fujikin Inc センサ付き継手部材
JP4742762B2 (ja) 2005-09-12 2011-08-10 株式会社フジキン 流体制御装置
JP4780558B2 (ja) 2005-12-09 2011-09-28 株式会社フジキン 流体制御装置用継手およびそれを用いた流体制御装置
JP2010084157A (ja) * 2008-09-29 2010-04-15 Tokyo Electron Ltd ガス導入機構及び成膜装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106167758A (zh) * 2016-08-26 2016-11-30 江苏领坤生物科技有限公司 一种用于dna合成仪的分注装置
CN106167758B (zh) * 2016-08-26 2018-12-11 江苏领坤生物科技有限公司 一种用于dna合成仪的分注装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR20130018147A (ko) 2013-02-20
JP2013036584A (ja) 2013-02-21
US20130037145A1 (en) 2013-02-14
US9212755B2 (en) 2015-12-15
KR101422916B1 (ko) 2014-07-23
JP5785813B2 (ja) 2015-09-30
TWI484110B (zh) 2015-05-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI484110B (zh) 流體控制裝置
US9556966B2 (en) Gas supplying apparatus
TWI564502B (zh) Integrated gas supply device
JP4283884B2 (ja) ガス集積弁
TWI610039B (zh) 沖洗線路變更用塊接頭及流體控制裝置
KR101710769B1 (ko) 유체 제어 장치
JP6147113B2 (ja) 流体制御装置用継手および流体制御装置
KR101660349B1 (ko) 열교환기 구조
JP2007078006A (ja) 流体制御装置
JP7061808B2 (ja) 継手および流体制御装置
JP4314425B2 (ja) 流体制御装置
KR20110001938A (ko) 가스 공급 유닛 및 가스 공급 장치
JP2006242222A (ja) 集積化ガス制御装置と集積化ガス制御方法
GB0914631D0 (en) Heat exchanger
US9327252B2 (en) Compact device for enhancing the mixing of gaseous species
KR101564739B1 (ko) 장축 관입형 다중 볼텍스 노즐 시스템
CN203737222U (zh) 反应釜
JP3858155B2 (ja) 流体制御装置
KR102546137B1 (ko) 유체 공급 시스템
JP2016515925A5 (zh)
US8783286B2 (en) Piping internals to control gas-liquid flow split
UA27845U (uk) Спосіб розвантаження затвора двосідельного клапана
TW200607964A (en) Solenoid valve control device

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees