JP2011009537A - 液処理装置、液処理方法および記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】液処理装置は、本体部Wiと、本体部Wiに設けられた複数の凸形状部Wmとを有し、無機膜と当該無機膜と性質の異なる異質膜とが積層された被処理体Wを処理する。液処理装置は、被処理体Wの本体部Wiを支持する支持部50と、支持部50によって支持された被処理体Wに、疎水化液を供給する疎水化液供給機構30と、疎水化液供給機構30によって疎水化液が供給された後の被処理体Wに、リンス液を供給するリンス液供給部22と、を備えている。疎水化液供給機構30は、無機膜を疎水化するための第一疎水化液を被処理体Wに供給する第一疎水化液供給部32と、異質膜を疎水化するための第二疎水化液を被処理体Wに供給する第二疎水化液供給部37とを有している。
【選択図】図2
Description
本体部と、該本体部に設けられた複数の凸形状部とを有し、無機膜と当該無機膜と性質の異なる異質膜とが積層された被処理体を処理する液処理装置であって、
前記被処理体の前記本体部を支持する支持部と、
前記支持部によって支持された前記被処理体に、疎水化液を供給する疎水化液供給機構と、
前記疎水化液供給機構によって疎水化液が供給された後の前記被処理体に、リンス液を供給するリンス液供給部と、を備え、
前記疎水化液供給機構が、前記無機膜を疎水化するための第一疎水化液を前記被処理体に供給する第一疎水化液供給部と、前記異質膜を疎水化するための第二疎水化液を前記被処理体に供給する第二疎水化液供給部とを有している。
本体部と、該本体部に設けられた複数の凸形状部とを有し、無機膜と当該無機膜と性質の異なる異質膜とが積層された被処理体を処理する液処理方法であって、
支持部によって、前記被処理体の前記本体部を支持することと、
前記支持部によって支持された前記被処理体に前記無機膜を疎水化するための第一疎水化液を前記被処理体に供給することと、
前記支持部によって支持された前記被処理体に前記異質膜を疎水化するための第二疎水化液を前記被処理体に供給することと、
第一疎水化液と第二疎水化液が供給された後の前記被処理体にリンス液を供給することと、
を備えている。
液処理装置に液処理方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体であって、
前記液処理方法が、本体部と、該本体部に設けられた複数の凸形状部とを有し、無機膜と当該無機膜と性質の異なる異質膜とが積層された被処理体を処理する方法であって、
支持部によって、前記被処理体の前記本体部を支持することと、
前記支持部によって支持された前記被処理体に前記無機膜を疎水化するための第一疎水化液を前記被処理体に供給することと、
前記支持部によって支持された前記被処理体に前記異質膜を疎水化するための第二疎水化液を前記被処理体に供給することと、
第一疎水化液と第二疎水化液が供給された後の前記被処理体にリンス液を供給することと、
を有する方法からなっている。
以下、本発明に係る液処理装置および液処理方法の実施の形態について、図面を参照して説明する。ここで、図1乃至図8は本発明の実施の形態を示す図である。
Claims (11)
- 本体部と、該本体部に設けられた複数の凸形状部とを有し、無機膜と当該無機膜と性質の異なる異質膜とが積層された被処理体を処理する液処理装置において、
前記被処理体の前記本体部を支持する支持部と、
前記支持部によって支持された前記被処理体に、疎水化液を供給する疎水化液供給機構と、
前記疎水化液供給機構によって疎水化液が供給された後の前記被処理体に、リンス液を供給するリンス液供給部と、を備え、
前記疎水化液供給機構は、前記無機膜を疎水化するための第一疎水化液を前記被処理体に供給する第一疎水化液供給部と、前記異質膜を疎水化するための第二疎水化液を前記被処理体に供給する第二疎水化液供給部とを有する液処理装置。 - 少なくとも前記疎水化液供給機構を制御する制御部、をさらに備え、
前記制御部は、前記第一疎水化液供給部から第一疎水化液を前記被処理体に供給させた後で、前記第二疎水化液供給部から第二疎水化液を前記被処理体に供給させることを特徴とする請求項1に記載の液処理装置。 - 前記異質膜は金属膜を含み、
前記第二疎水化液供給部から供給される第二疎水化液は界面活性剤を含むことを特徴とする請求項1または2のいずれかに記載の液処理装置。 - 前記異質膜は有機膜を含み、
前記第二疎水化液供給部から供給される第二疎水化液は界面活性剤を含むことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の液処理装置。 - 前記第一疎水化液供給部から供給される第一疎水化液は、シリル化剤またはフッ素ポリマー薬液を含むことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の液処理装置。
- 少なくとも前記疎水化液供給機構を制御する制御部、をさらに備え、
前記制御部は、前記第二疎水化液供給部から第二疎水化液を前記被処理体に供給させる前または供給させた後に、前記リンス液供給部からリンス液を前記被処理体に供給させることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の液処理装置。 - 少なくとも前記疎水化液供給機構を制御する制御部と、
置換液を供給する置換液供給部と、をさらに備え、
前記制御部は、前記第一疎水化液供給部から第一疎水化液を前記被処理体に供給させる前または供給させた後に、前記置換液供給部から置換液を前記被処理体に供給させることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の液処理装置。 - 本体部と、該本体部に設けられた複数の凸形状部とを有し、無機膜と当該無機膜と性質の異なる異質膜とが積層された被処理体を処理する液処理方法において、
支持部によって、前記被処理体の前記本体部を支持することと、
前記支持部によって支持された前記被処理体に前記無機膜を疎水化するための第一疎水化液を前記被処理体に供給することと、
前記支持部によって支持された前記被処理体に前記異質膜を疎水化するための第二疎水化液を前記被処理体に供給することと、
第一疎水化液と第二疎水化液が供給された後の前記被処理体にリンス液を供給することと、
を備えたことを特徴とする液処理方法。 - 前記被処理体に第一疎水化液を供給した後で、該被処理体に第二疎水化液を供給することを特徴とする請求項8に記載の液処理方法。
- 液処理装置に液処理方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体において、
前記液処理方法は、本体部と、該本体部に設けられた複数の凸形状部とを有し、無機膜と当該無機膜と性質の異なる異質膜とが積層された被処理体を処理する方法であって、
支持部によって、前記被処理体の前記本体部を支持することと、
前記支持部によって支持された前記被処理体に前記無機膜を疎水化するための第一疎水化液を前記被処理体に供給することと、
前記支持部によって支持された前記被処理体に前記異質膜を疎水化するための第二疎水化液を前記被処理体に供給することと、
第一疎水化液と第二疎水化液が供給された後の前記被処理体にリンス液を供給することと、
を有する方法からなっていることを特徴とする記憶媒体。 - 前記液処理方法は、前記被処理体に第一疎水化液を供給した後で、該被処理体に第二疎水化液を供給する方法からなっていることを特徴とする請求項10に記載の記憶媒体。
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