JP2011002483A - 電気光学装置の駆動方法、電気光学装置、並びに、電子機器 - Google Patents
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Abstract
【課題】電気光学装置において、トランジスタの耐圧を大きくすることなく、コントラストを向上させる。
【解決手段】電気光学装置1は、複数の第1のサブフィールド期間の各々において、スイッチング素子をオン状態とする走査信号を複数の走査線112に順次供給して、走査線112ごとに画素110を選択すると共に、選択された画素110の画素電極118に表示すべき階調に応じた2値の信号電圧を書き込み、一又は複数の第2のサブフィールド期間の各々において、スイッチング素子をオン状態とする走査信号を複数の走査線112に順次供給して、走査線112ごとに画素110を選択すると共に、選択された画素110の画素電極118に共通電極108に供給している電圧を書き込む駆動手段を備える。
【選択図】図1
【解決手段】電気光学装置1は、複数の第1のサブフィールド期間の各々において、スイッチング素子をオン状態とする走査信号を複数の走査線112に順次供給して、走査線112ごとに画素110を選択すると共に、選択された画素110の画素電極118に表示すべき階調に応じた2値の信号電圧を書き込み、一又は複数の第2のサブフィールド期間の各々において、スイッチング素子をオン状態とする走査信号を複数の走査線112に順次供給して、走査線112ごとに画素110を選択すると共に、選択された画素110の画素電極118に共通電極108に供給している電圧を書き込む駆動手段を備える。
【選択図】図1
Description
本発明は、液晶など電気光学物質を用いた電気光学装置の駆動方法、電気光学装置、並びに、電子機器の技術分野に関する。
電気エネルギーによって光学特性が変化する電気光学物質として、液晶が知られている。液晶は印加電圧に応じて透過率が変化する。この透過率の変化は、液晶分子の配向状態が印加電圧に応じて変化することによって得られる。また、液晶には、直流電圧を長時間印加すると、配向状態が元に戻りにくくなる性質がある。このため、液晶を表示装置に適用した液晶表示装置では、電気光学素子たる液晶素子に印加する電圧の極性を反転する交流駆動が採用される。
一般的に、この種の液晶表示装置は、複数の走査線と、複数のデータ線と、走査線とデータ線の交差に対応して設けられた複数の画素を備え、これらの複数の画素は、画素電極、対向電極、及びこれら画素電極と対向電極との間に挟持された液晶からなる液晶素子を有する。また、この液晶素子への印加電圧を反転する手法として、対向電極の電位(以下、対向電極電位と称する)を固定し、データ線を介して供給するデータ電位の極性を、対向電極電位を中心して反転させるものが知られている。
特に、特許文献1等では、この種の液晶表示装置において階調表示を行う場合に、電圧変調方式に代わるものとして、1フィールドを複数のサブフィールドに分割するとともに、各サブフィールドにおいて画素(液晶素子)にオンまたはオフ電圧を印加して、1フィールドにおいて画素にオン電圧(またはオフ電圧)が印加される時間の割合を変化させることによって階調表示を行う技術、所謂、デジタル時分割駆動によって階調表示を行う技術が開示されている。
ところで、上述した特許文献1に記載された技術おいて、画素電極に対向する対向電極に供給するコモン電圧を画素電極の電位を基準として反転するコモン反転方式を採用することができる。例えば、コモン反転時に画素電極に印加されるデータ電位がHIGH(5V)であったとする。コモン反転動作によってコモン電圧が0V→5Vに変化すると、液晶容量を挟んでデータ線の電位が上昇し、5V+5V=10Vになる。この時、画素回路を構成するトランジスタの耐圧が10V以上ないと、回路を破壊する恐れがある。耐圧の低いトランジスタを用いる場合には、コモン反転時にデータ電位をLOW(0V)にセットする必要がある。
一方、焼き付き防止のためコモン反転は1フィールド毎に実行する。具体的には、コモン反転はあるフィールドと次のフィールドの間に実施する必要がある。
一方、焼き付き防止のためコモン反転は1フィールド毎に実行する。具体的には、コモン反転はあるフィールドと次のフィールドの間に実施する必要がある。
ここで、1フィールドを構成する最後のサブフィールドでコモン電圧と同じ電圧を書き込むと、コモン電圧を反転した場合にもトランジスタに印加される電圧を5Vにすることができ、耐圧の低いトランジスタを用いることができる。
しかしながら、この場合には、1つサブフィールドをコモン電圧と同じ電圧を書き込むために用いるので、当該サブフィールドは階調表示に寄与しないので、コントラストが低下してしまうといった問題がある。すなわち、トランジスタの耐圧とコントラストとはトレードオフの関係にある。
しかしながら、この場合には、1つサブフィールドをコモン電圧と同じ電圧を書き込むために用いるので、当該サブフィールドは階調表示に寄与しないので、コントラストが低下してしまうといった問題がある。すなわち、トランジスタの耐圧とコントラストとはトレードオフの関係にある。
本発明は、例えば上述した従来の問題点に鑑みなされたものであり、トランジスタのタ耐圧を大きくすることなく、コントラストを向上させる液晶装置などを提供することを解決課題とする。
上述した課題を解決するため、本発明に係る液晶装置は、複数の走査線と、複数のデータ線と、前記走査線と前記データ線との交差に対応して夫々設けられた複数の画素を備え、前記複数の画素の夫々は、画素電極、共通電極、前記画素電極と前記共通電極との間に挟持された液晶からなる液晶素子、並びに、前記画素電極と前記データ線との間に設けられ前記走査線を介して供給される走査信号によってオン状態及びオフ状態のうちいずれか一方の状態となるように制御されるスイッチング素子を夫々有するものであって、フィールド期間を複数のサブフィールド期間で構成したとき、前記複数のサブフィールド期間は、複数の第1のサブフィールド期間と一又は複数の第2のサブフィールド期間からなり、前記複数の第1のサブフィールド期間の各々において、前記スイッチング素子をオン状態とする走査信号を前記複数の走査線に順次供給して、前記走査線ごとに前記画素を選択すると共に、選択された画素の前記画素電極に表示すべき階調に応じた2値の信号電圧を書き込み、前記一又は複数の第2のサブフィールド期間の各々において、前記スイッチング素子をオン状態とする走査信号を前記複数の走査線に順次供給して、前記走査線ごとに前記画素を選択すると共に、選択された画素の前記画素電極に前記共通電極に供給している電圧を書き込む駆動手段と、前記共通電極に、第1電圧と第2電圧とのうちいずれかを供給すると共に、前記第1のサブフィールド期間と前記第2のサブフィールド期間の間に設けられた反転期間において、前記共通電極に供給する電圧を前記第1電圧と前記第2電圧とのうち一方から他方へ切り替える極性反転手段とを備え、前記第1のサブフィールドにおいてオン電圧とした場合に前記液晶の透過率が最大となるように、前記画素電極と前記共通電極との間の距離であるセル厚を設定した、ことを特徴とする。
この発明によれば、フィールド期間は、階調表示に寄与する第1のサブフィールド期間と、階調表示に寄与しない第2のサブフィールド期間から構成される。そして、第2のサブフィールド期間では、共通電極に供給する電圧の極性を反転するために、各画素回路の画素電極に共通電極の電圧と同じ電圧が書き込まれる。これによって、スイッチング素子の耐圧を下げることができる。その一方で、第1のサブフィールド期間の長さをT1、第2のサブフィールド期間の長さをT2とすると、階調表示に寄与する期間はT1/(T1+T2)となる。ここで、液晶には印加電圧と透過率との関係において、印加電圧が高いほど透過率が単調に増加するのではなく、所定の電圧で透過率を最大となり、最大となる透過率がセル厚に応じて変化するものがある。この発明はそのような液晶を用いるものであり、第1のサブフィールドにおいてオン電圧とした場合に液晶にはT1/(T1+T2)倍の電圧が平均値として印加され、このとき、液晶の透過率が最大となるようにセル厚を設定してある。よって、スイッチンク素子の耐圧を下げると共にコントラストの向上を図ることができる。
上述した液晶装置において、前記駆動手段は、前記2値の信号電圧として前記第1電圧と前記第2電圧とのうち一方を前記画素に供給することが好ましい。この場合には、共通電極に供給する電圧と階調表示のための電圧が一致するので、別途、電源を備える必要がない。
また、上述した液晶装置において、前記液晶の配向特性は垂直配向であることが好ましい。配向特性は垂直配向である液晶は、所定の電圧で透過率を最大となり、最大となる透過率がセル厚に応じて変化するのが一般的である。
また、上述した液晶装置において、前記液晶の配向特性は垂直配向であることが好ましい。配向特性は垂直配向である液晶は、所定の電圧で透過率を最大となり、最大となる透過率がセル厚に応じて変化するのが一般的である。
また、上述した液晶装置において、前記複数の画素の各々には、R色の光を透過するカラーフィルタ、B色の光を透過するカラーフィルタ、及びG色の光を透過するカラーフィルタのいずれかが設けられ、前記セル厚は、前記G色の光が前記液晶に入射した場合に、前記液晶の透過率が最大となるように設定されることが好ましい。液晶には、波長に応じて印加電圧−透過率の特性が相違するものがあるが、そのような液晶を採用しても、R色、B、及びG色のうち最も輝度に寄与するのはG色である。この発明によれば、G色に着目してセル厚を設定するので、スイッチンク素子の耐圧を下げると共にコントラストの向上を図ることができる。さらに、R色、G色、及びB色ごとにセル厚を設定する必要もないので、製造工程が複雑化して製造コストが上昇することもない。
次に、本発明に係る電子機器は、上述した液晶装置を備える。そのような電子機器としては、ディスプレイ、コンピュータ、携帯電話、携帯情報端末などが該当する。
次に、本発明に係る液晶装置の駆動方法は、複数の走査線と、複数のデータ線と、前記走査線と前記データ線との交差に対応して夫々設けられた複数の画素を備え、前記複数の画素の夫々は、画素電極、共通電極、前記画素電極と前記共通電極との間に挟持された液晶からなる液晶素子、並びに、前記画素電極と前記データ線との間に設けられ前記走査線を介して供給される走査信号によってオン状態及びオフ状態のうちいずれか一方の状態となるように制御されるスイッチング素子を夫々有する液晶装置を駆動する方法であって、フィールド期間を複数のサブフィールド期間で構成したとき、前記複数のサブフィールド期間は、複数の第1のサブフィールド期間と階調表示に寄与しない第2のサブフィールド期間からなり、前記複数の第1のサブフィールド期間の各々において、前記スイッチング素子をオン状態とする走査信号を前記複数の走査線に順次供給して、前記走査線ごとに前記画素を選択すると共に、選択された画素の前記画素電極に表示すべき階調に応じた2値の信号電圧を書き込み、前記一又は複数の第2のサブフィールド期間の各々において、前記スイッチング素子をオン状態とする走査信号を前記複数の走査線に順次供給して、前記走査線ごとに前記画素を選択すると共に、選択された画素の前記画素電極に前記共通電極に供給している電圧を書き込み、前記共通電極に、第1電圧と第2電圧とのうちいずれかを供給すると共に、前記第1のサブフィールド期間と前記第2のサブフィールド期間の間に設けられた反転期間において、前記共通電極に供給する電圧を前記第1電圧と前記第2電圧とのうち一方から他方へ切り替え、前記画素電極と前記共通電極との間の距離であるセル厚に対して、前記第1のサブフィールド期間においてオン電圧とした場合に前記液晶の透過率が最大となるように、前記フィールド期間に占める前記第1のサブフィールド期間の長さの割合を定めた、ことを特徴とする。この発明によれば、スイッチンク素子の耐圧を下げると共にコントラストの向上を図ることができる。
上述した液晶装置の駆動方法は、 前記複数の画素の各々には、R色の光を透過するカラーフィルタ、B色の光を透過するカラーフィルタ、及びG色の光を透過するカラーフィルタのいずれかが設けられ、前記G色の光が前記液晶に入射した場合に、前記液晶の透過率が最大となるように前記フィールド期間に占める前記第1のフィールド期間の長さの割合を定めたことを特徴とする。液晶には、波長に応じて印加電圧−透過率の特性が相違するものがあるが、そのような液晶を採用しても、R色、B、及びG色のうち最も輝度に寄与するのはG色である。この発明によれば、G色に着目してセル厚を設定するので、スイッチンク素子の耐圧を下げると共にコントラストの向上を図ることができる。さらに、R色、G色、及びB色ごとにセル厚を設定する必要もないので、製造工程が複雑化して製造コストが上昇することもない。
<1.第1実施得形態>
<1−1:全体構成>
以下、図面を参照して本発明を実施するための最良の形態について説明する。図1は、実施形態に係る電気光学装置1の全体構成を示すブロック図である。
この図1に示されるように、電気光学装置1は、制御回路10、メモリ20、変換テーブル30、表示領域100、走査線駆動回路130およびデータ線駆動回路140に大別される。このうち、制御回路10は、後述するように各部を制御するものである。
<1−1:全体構成>
以下、図面を参照して本発明を実施するための最良の形態について説明する。図1は、実施形態に係る電気光学装置1の全体構成を示すブロック図である。
この図1に示されるように、電気光学装置1は、制御回路10、メモリ20、変換テーブル30、表示領域100、走査線駆動回路130およびデータ線駆動回路140に大別される。このうち、制御回路10は、後述するように各部を制御するものである。
表示領域100には、画素がマトリクス状に配列している。詳細には、表示領域100には、2160行の走査線(書込走査線)112が図において水平のX方向に延在し、3840列のデータ線114が走査線112と電気的な絶縁を保ちつつ、図において垂直のY方向に延在している。そして、これらの走査線112とデータ線114との交差に対応するように画素110がそれぞれ設けられている。したがって、本実施形態において、画素110は、縦2160行×横3840列のマトリクス状に配列することになるが、本発明をこの配列に限定する趣旨ではない。
メモリ20は、縦2160行×横3840列で配列する画素に対応した記憶領域を有し、各記憶領域は、それぞれに対応する画素110の表示データDaを記憶する。表示データDaは、画素110の明るさ(階調レベル)を指定するものであり、本実施形態では、「0」から「15」まで、「1」毎の刻みの16段階で指定する。ここで、階調レベル「0」が最低階調の黒色を指定し、階調レベルが上がるにつれて徐々に明るさが増し、階調レベル「15」が最高階調の白色を指定するものとする。
なお、この表示データDaは、図示しない上位装置から供給されて、制御回路10により画素に対応する記憶領域に記憶される一方で、表示領域100で走査される画素に対応したものがメモリ20から読み出される構成となっている。
なお、この表示データDaは、図示しない上位装置から供給されて、制御回路10により画素に対応する記憶領域に記憶される一方で、表示領域100で走査される画素に対応したものがメモリ20から読み出される構成となっている。
変換テーブル30は、メモリ20から読み出された表示データDaを、当該表示データDaで指定される階調レベル、および、サブフィールドにしたがって、画素110(液晶素子)にオンまたはオフ電圧のどちらを印加するのかを示すデータDbに変換するものである。より具体的には。変換テーブル30は表示すべき階調レベルとSFコードとを対応付けて記憶している。SFコードは、後述するサブフィールドsf1〜sf24毎に、液晶素子120にオン電圧またはオフ電圧のいずれかを指定する。これにより、メモリ20から読み出された表示データDaは、サブフィールドsf1〜sf24毎に、液晶素子120にオンまたはオフ電圧のいずれかを指定するデータDbに変換される。
<1−2:画素の構成>
説明の便宜上、画素110の構成について図2を参照して説明する。図2は、第1実施形態に係る画素110の詳細な構成を示す図であり、i行およびこれに隣接する(i+1)行と、j列およびこれに隣接する(j+1)列との交差に対応する2×2の計4画素分の構成を示した模式図である。ここで、i、(i+1)とは、画素110が配列する行を一般的に示す場合の記号であって、本実施形態では、1以上2160以下の整数であり、j、(j+1)とは、画素110が配列する列を一般的に示す場合の記号であって、1以上3840以下の整数である。
説明の便宜上、画素110の構成について図2を参照して説明する。図2は、第1実施形態に係る画素110の詳細な構成を示す図であり、i行およびこれに隣接する(i+1)行と、j列およびこれに隣接する(j+1)列との交差に対応する2×2の計4画素分の構成を示した模式図である。ここで、i、(i+1)とは、画素110が配列する行を一般的に示す場合の記号であって、本実施形態では、1以上2160以下の整数であり、j、(j+1)とは、画素110が配列する列を一般的に示す場合の記号であって、1以上3840以下の整数である。
図2に示されるように、各画素110は、nチャネル型のトランジスタ(MOS型FET)116と液晶素子120とを含む。
ここで、各画素110については互いに同一構成なので、i行j列に位置するものに代表して説明すると、当該i行j列の画素110におけるトランジスタのゲート電極はi行目の走査線112に接続される一方、そのソース電極はj列目のデータ線114に接続され、そのドレイン電極は液晶素子120の一端たる画素電極118に接続されている。また、液晶素子120の他端は、共通電極108である。この共通電極108は、全ての画素110にわたって共通であって、本実施形態ではコモン電圧LCcomに保たれている。
ここで、各画素110については互いに同一構成なので、i行j列に位置するものに代表して説明すると、当該i行j列の画素110におけるトランジスタのゲート電極はi行目の走査線112に接続される一方、そのソース電極はj列目のデータ線114に接続され、そのドレイン電極は液晶素子120の一端たる画素電極118に接続されている。また、液晶素子120の他端は、共通電極108である。この共通電極108は、全ての画素110にわたって共通であって、本実施形態ではコモン電圧LCcomに保たれている。
表示領域100は、走査線112や、データ線114、トランジスタ116、画素電極118などが形成された素子基板と、共通電極108が形成された対向基板とが一定の間隙を保って、電極形成面が互いに対向するように貼り合わせられるとともに、この間隙に液晶105が封止された構成となっている(図示省略)。このため、本実施形態において液晶素子120は、画素電極118と共通電極108とが液晶105を挟持した構成となる。
なお、本実施形態では、素子基板に半導体基板を用い、対向基板にガラス等の透明基板を用いて、液晶素子120を反射型としたLCOS(Liquid Crystal on Silicon)型である。このため、素子基板には、走査線駆動回路130、データ線駆動回路140のほかに、制御回路10や、メモリ20、変換テーブル30をすべて形成した構成としても良い。
なお、本実施形態では、素子基板に半導体基板を用い、対向基板にガラス等の透明基板を用いて、液晶素子120を反射型としたLCOS(Liquid Crystal on Silicon)型である。このため、素子基板には、走査線駆動回路130、データ線駆動回路140のほかに、制御回路10や、メモリ20、変換テーブル30をすべて形成した構成としても良い。
この構成において、走査線112に選択電圧(走査信号)を印加して、トランジスタ116(スイッチング素子)をオン(導通)させるとともに、画素電極118に、データ線114およびオン状態のトランジスタ116を介して、データ信号を供給すると、選択電圧を印加した走査線112とデータ信号を供給したデータ線114との交差に対応する液晶素子120には、当該データ信号の電圧と共通電極108に印加された電圧LCcomとの差電圧が書き込まれる。なお、走査線112が非選択電圧になると、トランジスタ116がオフ(非導通)状態となるが、液晶素子120では、トランジスタ116が導通状態となったときに書き込まれた電圧が、その容量性により保持される。
本実施形態において、液晶素子120はノーマリーブラックモードに設定されている。このため、液晶素子120の反射率(透過型とした場合には透過率)は、画素電極118および共通電極108とによる差電圧の実効値が小さくなるにつれて暗くなり、電圧無印加状態においてほぼ黒色となる。ただし、本実施形態において、画素電極118には、上記差電圧を飽和電圧以上とさせるオン電圧、または、しきい値電圧以下のオフ電圧のいずれか一方の電圧のみが印加される。
ノーマリーブラックモードにおいて、最も暗い状態の反射率を相対反射率0%とし、最も明るい状態の反射率を相対反射率100%としたとき、液晶素子120に印加される電圧のうち、相対反射率が10%となる電圧を光学的しきい値電圧といい、相対反射率が90%となる電圧を光学的飽和電圧という。電圧変調方式(アナログ駆動)において、液晶素子120を中間調(灰色)とさせる場合には、液晶105に光学的飽和電圧以下の電圧が印加されるように設計される。このため、液晶105の反射率は、液晶105の印加電圧にほぼ比例した値となる。
これに対して、本実施形態では、液晶素子120に印加する電圧としては、オン電圧とオフ電圧との2つのみを用いて階調表示が行われる。詳細には、本実施形態における階調表示は、1フィールドを複数のサブフィールドに分割するとともに、液晶素子120にオンまたはオフ電圧を印加する期間を、サブフィールドを単位として配分することによって実行される。
本実施形態において、液晶105としては、垂直配向タイプのものを用いることができる。垂直配向タイプの液晶105には、セル厚(素子基板と対向基板との距離)、又は波長に応じて印加電圧−反射率特性(以下、VR特性と称する)が変化するといった特徴がある。
<1−3:サブフィールド構成>
本実施形態におけるサブフィールドの構成について、図3を参照して説明する。ここで、図3は、第1実施形態に係る電気光学装置におけるサブフィールドの構成を示す模式図である。
この図3において、1フィールドとは、1枚分の画像を形成するのに要する期間をいい、ノンインターレース方式におけるフレームと同義であって、16.7ミリ秒(60Hzの1周波数分)で一定である。
本実施形態におけるサブフィールドの構成について、図3を参照して説明する。ここで、図3は、第1実施形態に係る電気光学装置におけるサブフィールドの構成を示す模式図である。
この図3において、1フィールドとは、1枚分の画像を形成するのに要する期間をいい、ノンインターレース方式におけるフレームと同義であって、16.7ミリ秒(60Hzの1周波数分)で一定である。
この図3に示されるように、本実施形態において1フィールドの期間は、24個のサブフィールドに分割されている。各サブフィールドについて、1フィールドの最初から順番にsf1、sf2、sf3、…、sf24と呼ぶことにする。
<1−4:走査線駆動回路>
次に、走査線駆動回路130は、サブフィールドsf1〜sf24の夫々において、順次排他的に有効となる走査信号G1、G2、…G2160を生成する。これによって、走査線を1、2、3、4、…、2159、2160行目という順番で選択が行われる。走査信号G1、G2、…G2160が順次有効になると、1、2、3、4、…、2159、2160行目の画素110においてトランジスタ116がオン状態となる。このように行単位で複数の画素110が選択され、データ線114を介してデータ信号(信号電位)が画素電極118に書き込まれる。なお、各行の画素においてサブフィールドに相当する期間は、走査線が選択されてオンまたはオフ電圧が書き込まれた後、再び走査線が選択されるまでの期間である。
次に、走査線駆動回路130は、サブフィールドsf1〜sf24の夫々において、順次排他的に有効となる走査信号G1、G2、…G2160を生成する。これによって、走査線を1、2、3、4、…、2159、2160行目という順番で選択が行われる。走査信号G1、G2、…G2160が順次有効になると、1、2、3、4、…、2159、2160行目の画素110においてトランジスタ116がオン状態となる。このように行単位で複数の画素110が選択され、データ線114を介してデータ信号(信号電位)が画素電極118に書き込まれる。なお、各行の画素においてサブフィールドに相当する期間は、走査線が選択されてオンまたはオフ電圧が書き込まれた後、再び走査線が選択されるまでの期間である。
<1−5:データ線駆動回路>
データ線駆動回路140は、変換テーブル30により変換されたデータDbを、制御回路10で指定された極性の電圧に変換して、当該データDbに対応する列のデータ線114にデータ信号として供給するものである。詳細には、データ線駆動回路140は、変換テーブル30により変換されたデータDbが液晶素子120に対してオン電圧の印加を示す「1」である場合であって、制御回路10により正極性書込が指定されていれば電圧VHに、負極性書込が指定されていれば電圧Lに、それぞれ変換する一方、液晶素子120に対してオフ電圧の印加を示す「0」である場合であって、正極性書込が指定されていれば電圧VLに、負極性書込が指定されていれば電圧VHに、それぞれ変換する。
一方、共通電極108に供給されるコモン電圧LCcomは、制御回路10により正極性書込が指定される場合にVLとなり、負極性書込が指定される場合にVHとなる。
データ線駆動回路140は、変換テーブル30により変換されたデータDbを、制御回路10で指定された極性の電圧に変換して、当該データDbに対応する列のデータ線114にデータ信号として供給するものである。詳細には、データ線駆動回路140は、変換テーブル30により変換されたデータDbが液晶素子120に対してオン電圧の印加を示す「1」である場合であって、制御回路10により正極性書込が指定されていれば電圧VHに、負極性書込が指定されていれば電圧Lに、それぞれ変換する一方、液晶素子120に対してオフ電圧の印加を示す「0」である場合であって、正極性書込が指定されていれば電圧VLに、負極性書込が指定されていれば電圧VHに、それぞれ変換する。
一方、共通電極108に供給されるコモン電圧LCcomは、制御回路10により正極性書込が指定される場合にVLとなり、負極性書込が指定される場合にVHとなる。
<1−6:極性反転制御>
次に、液晶素子に印加する電圧の極性反転について説明する。図4に、サブフィールsf1〜sf24における走査線の選択と反転期間Taの関係を示す。
この図において、1フィールドの最後のサブフィールドsf24では、オフ電圧「0」を全ての画素回路110に対して書き込む。これによって、データ線114の電圧をコモン電圧LCcomと一致させることができる。例えば、コモン電圧LCcomが電圧VHであれば、データ線114の寄生容量及び画素電極118には、電圧VHが書き込まれ、コモン電圧LCcomが電圧VLであれば、データ線114の寄生容量及び画素電極118には、電圧VLが書き込まれる。
次に、反転期間Taにおいてコモン電圧LCcomの極性が反転される。具体的には直前のコモン電圧LCcomが電圧VHであれば電圧VLに、電圧VLであれば電圧VHに遷移する。
これにより、フィールド毎に、液晶素子120に印加する電圧の極性を所定周期で反転させることができる。ここで、サブフィールドsf24では、オフ電圧が書き込まれるので、サブフィールドsf24が終了した時点では、全ての画素回路110の画素電極118の電位とデータ線114の電位が一致している。この状態で共通電極108のコモン電圧LCcomの極性が反転すると、画素電極118の電位はVH−VLだけ変化する。一方、データ線114には寄生容量が付随するので、その電位に変化はない。反転期間Taにおいて極性反転を行った場合に、画素回路110のトランジスタ116のドレイン・ソース間に印加される電圧は、VH−VLとなる。よって、トランジスタ116の耐圧を下げることができる。
次に、液晶素子に印加する電圧の極性反転について説明する。図4に、サブフィールsf1〜sf24における走査線の選択と反転期間Taの関係を示す。
この図において、1フィールドの最後のサブフィールドsf24では、オフ電圧「0」を全ての画素回路110に対して書き込む。これによって、データ線114の電圧をコモン電圧LCcomと一致させることができる。例えば、コモン電圧LCcomが電圧VHであれば、データ線114の寄生容量及び画素電極118には、電圧VHが書き込まれ、コモン電圧LCcomが電圧VLであれば、データ線114の寄生容量及び画素電極118には、電圧VLが書き込まれる。
次に、反転期間Taにおいてコモン電圧LCcomの極性が反転される。具体的には直前のコモン電圧LCcomが電圧VHであれば電圧VLに、電圧VLであれば電圧VHに遷移する。
これにより、フィールド毎に、液晶素子120に印加する電圧の極性を所定周期で反転させることができる。ここで、サブフィールドsf24では、オフ電圧が書き込まれるので、サブフィールドsf24が終了した時点では、全ての画素回路110の画素電極118の電位とデータ線114の電位が一致している。この状態で共通電極108のコモン電圧LCcomの極性が反転すると、画素電極118の電位はVH−VLだけ変化する。一方、データ線114には寄生容量が付随するので、その電位に変化はない。反転期間Taにおいて極性反転を行った場合に、画素回路110のトランジスタ116のドレイン・ソース間に印加される電圧は、VH−VLとなる。よって、トランジスタ116の耐圧を下げることができる。
<1−7:セル厚とVR特性の関係>
次に、本実施形態におけるセル厚の設定について説明する。本実施形態で採用する垂直配向方式の液晶105では、セル厚または波長によって、VR特性が変化する。図5にセル厚が異なる場合のVR特性を示す。
本実施形態では、オン電圧「1」を書き込む場合に液晶素子120に5Vが印加されるようになっており、VH=5Vであり、VL=0Vである。液晶への印加電圧が最大となるとき、最大の反射率が得られるようにセル厚を設定するのが、通常の設計である。
この例では、液晶素子120への最大印加電圧が5Vとなるので、図5に示すVR特性では、セル厚が1.4μmが最適となる。一方、セル厚が1.6μmでは、4.5Vが最大反射率になり、セル厚が1.8μmでは、3.9Vが最大反射率になる。
次に、本実施形態におけるセル厚の設定について説明する。本実施形態で採用する垂直配向方式の液晶105では、セル厚または波長によって、VR特性が変化する。図5にセル厚が異なる場合のVR特性を示す。
本実施形態では、オン電圧「1」を書き込む場合に液晶素子120に5Vが印加されるようになっており、VH=5Vであり、VL=0Vである。液晶への印加電圧が最大となるとき、最大の反射率が得られるようにセル厚を設定するのが、通常の設計である。
この例では、液晶素子120への最大印加電圧が5Vとなるので、図5に示すVR特性では、セル厚が1.4μmが最適となる。一方、セル厚が1.6μmでは、4.5Vが最大反射率になり、セル厚が1.8μmでは、3.9Vが最大反射率になる。
図6にパルス幅-反射率特性を示す。印加電圧は、電圧VH=5V、電圧VL=0Vである。セル厚が1.4μmのケースでは、パルス幅が全てのサブフィールドsf1〜sf24で電圧VHのとき反射率が最大になる。一方、セル厚1.6μmのケースでは、パルス幅が23サブフィールドのときに最大になる。これは図5に示すVR特性によれば、セル厚が1.6μmでは、印加電圧が5Vではなく4.5Vで最大反射率になることに起因している。すなわち、電圧VH=5Vの印加状態が続くよりも間欠的に(1sf分)に電位が低下した場合は、4〜4.5V印加されている効果が得られ、全てのサブフィールドsf1〜sf24で電圧VHを印加するときよりも反射率が増加するのである。本実施形態では、階調表示に寄与するサブフィールドsf1〜sf23において電圧VHを印加した場合に反射率が最大となるようにセル厚を設定している。具体的には、セル厚を1.6μmに設定している。
以上説明したように、本実施形態に係る電気光学装置1は、セル厚に応じて反射率が変変化する液晶を採用し、極性反転のために1フィールドを構成する最後のサブフィールドでコモン電圧LCcomと同じ電圧を画素回路110に書き込み、書き込みが終了した後にコモン電圧LCcomの極性を反転させた。この場合には、最後のサブフィールドが階調表示に寄与しない。しかしながら、階調表示に寄与するサブフィールドにおいてオン電圧とした場合に反射率が最大となるようにセル厚を設定したので、最後のサブフィールドを極性反転のために用いても、最大の反射率を得ることができ高いコントラストを維持できるといった効果を奏する。
<2.第2の実施形態>
第2実施形態に係わる電気光学装置は、G色のVR特性に基づいてセル厚を設定する点を除いて、第1実施形態の電気光学装置と同様に構成されている。
垂直配向方式の液晶は、印加電圧のみならず波長によっても反射率が変化する。第2実施形態の電気光学装置においては、対向基板にカラーフィルターが設けられており、各画素はR色、G色、及びB色のいずれかに対応している。
図7にセル厚を一定として波長を変えた場合のVR特性を示す。第1実施形態と同様に最大の効果を得るためには、R色、G色、及びB色の各々のVR特性が、4.5V付近で最大反射率になるようにセル厚を調整する方法もある。この場合には、3種類のセル厚を作成する必要があり、製造工程が複雑化すると共に製造コストが上昇してしまう。
このため、第2実施形態では、最も光量の高い色(この例では、G色)にVR特性を合わせ込む。すなわち、G色の波長で、階調表示に寄与するサブフィールドにおいてオン電圧とした場合に反射率が最大となるようにセル厚を設定する。
G色の輝度に対する寄与率は、B色及びR色に対してかなり大きいため、十分効果がある。
第2実施形態に係わる電気光学装置は、G色のVR特性に基づいてセル厚を設定する点を除いて、第1実施形態の電気光学装置と同様に構成されている。
垂直配向方式の液晶は、印加電圧のみならず波長によっても反射率が変化する。第2実施形態の電気光学装置においては、対向基板にカラーフィルターが設けられており、各画素はR色、G色、及びB色のいずれかに対応している。
図7にセル厚を一定として波長を変えた場合のVR特性を示す。第1実施形態と同様に最大の効果を得るためには、R色、G色、及びB色の各々のVR特性が、4.5V付近で最大反射率になるようにセル厚を調整する方法もある。この場合には、3種類のセル厚を作成する必要があり、製造工程が複雑化すると共に製造コストが上昇してしまう。
このため、第2実施形態では、最も光量の高い色(この例では、G色)にVR特性を合わせ込む。すなわち、G色の波長で、階調表示に寄与するサブフィールドにおいてオン電圧とした場合に反射率が最大となるようにセル厚を設定する。
G色の輝度に対する寄与率は、B色及びR色に対してかなり大きいため、十分効果がある。
<3.変形例>
(1)上述した実施形態においては、1フィールドに1回、コモン電圧LCcomの極性を反転したが、これを1フィールドに複数回行ってもよい。この場合、極性反転の直前のサブフィールドにおいて、コモン電圧LCcomと等しい電圧を全ての画素回路110に書き込む。そして、セル厚は、階調表示に寄与するサブフィールド(コモン電圧LCcomと等しい電圧を書き込むサブフィールドを除く)においてオン電圧とした場合に反射率が最大となるようにセル厚を設定すればよい。この変形例によれば、極性反転の周期を短くできるので、フリッカを防止できる。
(1)上述した実施形態においては、1フィールドに1回、コモン電圧LCcomの極性を反転したが、これを1フィールドに複数回行ってもよい。この場合、極性反転の直前のサブフィールドにおいて、コモン電圧LCcomと等しい電圧を全ての画素回路110に書き込む。そして、セル厚は、階調表示に寄与するサブフィールド(コモン電圧LCcomと等しい電圧を書き込むサブフィールドを除く)においてオン電圧とした場合に反射率が最大となるようにセル厚を設定すればよい。この変形例によれば、極性反転の周期を短くできるので、フリッカを防止できる。
(2)上述した実施形態及び変形例では、反射型の液晶装置を想定したが、透過型の液晶装置であってもよいことは勿論である。そして、実施形態では、液晶の反射率として説明したが、これは液晶の透過率と同義である。すなわち、液晶105は、セル厚に応じて印加電圧−透過率の特性が変化する。
(3)上述した実施形態及び変形例では、コモン電圧LCcomは電圧VH、電圧VLであり、階調表示のために画素に書き込む電圧も電圧VH、電圧VLであり、両者は一致していた。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、階調表示のために画素に書き込む電圧が電圧VHとは異なる電圧Va、電圧VLとは異なる電圧Vbであってもよい。但し、反転期間Taの直前のサブフィールドでは、実施形態と同様にコモン電圧LCcomと同じ電圧(VH又はVL)を書き込むのが好ましい。
(4)上述した実施形態及び変形例では、液晶105に印加される平均電圧、すなわち、サブフィールドsf1〜sf24のうち、階調表示に寄与するサブフィールドsf1〜sf23を第1のサブフィールド、階調表示に寄与しないサブフィールドsf24を第2のサブフィールドとし、第1のサブフィールドの時間をT1、第2のサブフィールドの時間をT2とし、液晶105に印加されるオン電圧(画素電極と共通電極との間の電圧)をVwとしたとき、液晶105にはVw・T1/(T1+T2)が平均電圧として印加される。そして、そのような平均電圧Vw・T1/(T1+T2)が印加された場合に液晶105の反射率(透過率)が最大になるようにセル厚が設定された。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、セル厚が最初に設定され、設定されたセル厚を前提として、液晶の透過率が最大になるようにT1/(T1+T2)を選んでもよい。すなわち、フィールドに占める1のサブフィールドの長さの割合を定めてもよい。
また、G色の光が前記液晶に入射した場合に、液晶105の透過率が最大となるように1フィールド(T1+T2)に占める第1のフィールドの長さの割合T1/(T1+T2)を定めてもよい。
また、G色の光が前記液晶に入射した場合に、液晶105の透過率が最大となるように1フィールド(T1+T2)に占める第1のフィールドの長さの割合T1/(T1+T2)を定めてもよい。
(5)上述した実施形態及び変形例では、各サブフィールドsf1〜sf24の長さが等しいものとして説明したが、サブフィールドの長さを重み付けし、これによって階調を表現してもよい。なお、極性反転のために用いる反転期間Taの直前のサブフィールドは、コモン電圧VCcomを書き込むのに必要な時間を割り当てればよい。
<4.電子機器>
次に、上述した実施形態および変形例に係る電気光学装置1を適用した電子機器について説明する。図8に、電気光学装置1を適用したモバイル型のパーソナルコンピュータの構成を示す。パーソナルコンピュータ2000は、表示ユニットとしての電気光学装置1と本体部2010を備える。本体部2010には、電源スイッチ2001及びキーボード2002が設けられている。
次に、上述した実施形態および変形例に係る電気光学装置1を適用した電子機器について説明する。図8に、電気光学装置1を適用したモバイル型のパーソナルコンピュータの構成を示す。パーソナルコンピュータ2000は、表示ユニットとしての電気光学装置1と本体部2010を備える。本体部2010には、電源スイッチ2001及びキーボード2002が設けられている。
図9に、電気光学装置1を適用した携帯電話機の構成を示す。携帯電話機3000は、複数の操作ボタン3001及びスクロールボタン3002、並びに表示ユニットとしての電気光学装置1を備える。スクロールボタン3002を操作することによって、電気光学装置1に表示される画面がスクロールされる。
図10に、電気光学装置1を適用した情報携帯端末(PDA:Personal Digital Assistants)の構成を示す。情報携帯端末4000は、複数の操作ボタン4001及び電源スイッチ4002、並びに表示ユニットとしての電気光学装置1を備える。電源スイッチ4002を操作すると、住所録やスケジュール帳といった各種の情報が電気光学装置1に表示される。
なお、電気光学装置1が適用される電子機器としては、図8〜図10に示すものの他、デジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器等などが挙げられる。そして、これらの各種電子機器の表示部として、前述した電気光学装置1が適用可能である。
尚、上述した第1乃至第3実施形態では、各サブフィールドの期間の長さを異ならせ、サブフィールドに重み付けを行った液晶表示装置について説明したが、本発明は、各サブフィールドの期間の長さを同一にした液晶表示装置に適用可能である。また、上述した第1乃至第3実施形態では、1つのフィールドにサブフィールドを8個、有する液晶表示装置について説明したが、本発明は、1つのフィールドにサブフィールドをN個(但し、Nは2以上の整数)、有する液晶表示装置に適用可能である。
本発明は電気光学装置の駆動方法、電気光学装置、並びに、電子機器に利用可能である。
1…電気光学装置、10…制御回路、20…メモリ、30…変換テーブル、100…表示パネル、105…液晶、108…共通電極、110…画素、112…走査線、114…データ線、116…トランジスタ、118…画素電極、120…液晶容量、130…走査線駆動回路、140…データ線駆動回路。
Claims (7)
- 複数の走査線と、複数のデータ線と、前記走査線と前記データ線との交差に対応して夫々設けられた複数の画素を備え、前記複数の画素の夫々は、画素電極、共通電極、前記画素電極と前記共通電極との間に挟持された液晶からなる液晶素子、並びに、前記画素電極と前記データ線との間に設けられ前記走査線を介して供給される走査信号によってオン状態及びオフ状態のうちいずれか一方の状態となるように制御されるスイッチング素子を夫々有する液晶装置であって、
フィールド期間を複数のサブフィールド期間で構成したとき、前記複数のサブフィールド期間は、複数の第1のサブフィールド期間と一又は複数の第2のサブフィールド期間からなり、
前記複数の第1のサブフィールド期間の各々において、前記スイッチング素子をオン状態とする走査信号を前記複数の走査線に順次供給して、前記走査線ごとに前記画素を選択すると共に、選択された画素の前記画素電極に表示すべき階調に応じた2値の信号電圧を書き込み、前記一又は複数の第2のサブフィールド期間の各々において、前記スイッチング素子をオン状態とする走査信号を前記複数の走査線に順次供給して、前記走査線ごとに前記画素を選択すると共に、選択された画素の前記画素電極に前記共通電極に供給している電圧を書き込む駆動手段と、
前記共通電極に、第1電圧と第2電圧とのうちいずれかを供給すると共に、前記第1のサブフィールド期間と前記第2のサブフィールド期間の間に設けられた反転期間において、前記共通電極に供給する電圧を前記第1電圧と前記第2電圧とのうち一方から他方へ切り替える極性反転手段とを備え、
前記第1のサブフィールドにおいてオン電圧とした場合に前記液晶の透過率が最大となるように、前記画素電極と前記共通電極との間の距離であるセル厚を設定した、
ことを特徴とする液晶装置。 - 前記駆動手段は、前記2値の信号電圧として前記第1電圧と前記第2電圧とのうち一方を前記画素に供給することを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。
- 前記液晶の配向特性は垂直配向であることを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶装置。
- 前記複数の画素の各々には、R色の光を透過するカラーフィルタ、B色の光を透過するカラーフィルタ、及びG色の光を透過するカラーフィルタのいずれかが設けられ、
前記セル厚は、前記G色の光が前記液晶に入射した場合に、前記液晶の透過率が最大となるように設定されることを特徴とする請求項1乃至3のうち1項に記載の液晶装置。 - 請求項1乃至4のうちいずれか1項に記載の液晶装置を備えたことを特徴とする電子機器。
- 複数の走査線と、複数のデータ線と、前記走査線と前記データ線との交差に対応して夫々設けられた複数の画素を備え、前記複数の画素の夫々は、画素電極、共通電極、前記画素電極と前記共通電極との間に挟持された液晶からなる液晶素子、並びに、前記画素電極と前記データ線との間に設けられ前記走査線を介して供給される走査信号によってオン状態及びオフ状態のうちいずれか一方の状態となるように制御されるスイッチング素子を夫々有する液晶装置の駆動方法であって、
フィールド期間を複数のサブフィールド期間で構成したとき、前記複数のサブフィールド期間は、複数の第1のサブフィールド期間と一又は複数の第2のサブフィールド期間からなり、
前記複数の第1のサブフィールド期間の各々において、前記スイッチング素子をオン状態とする走査信号を前記複数の走査線に順次供給して、前記走査線ごとに前記画素を選択すると共に、選択された画素の前記画素電極に表示すべき階調に応じた2値の信号電圧を書き込み、前記一又は複数の第2のサブフィールド期間の各々において、前記スイッチング素子をオン状態とする走査信号を前記複数の走査線に順次供給して、前記走査線ごとに前記画素を選択すると共に、選択された画素の前記画素電極に前記共通電極に供給している電圧を書き込み、
前記共通電極に、第1電圧と第2電圧とのうちいずれかを供給すると共に、前記第1のサブフィールド期間と前記第2のサブフィールド期間の間に設けられた反転期間において、前記共通電極に供給する電圧を前記第1電圧と前記第2電圧とのうち一方から他方へ切り替え、
前記画素電極と前記共通電極との間の距離であるセル厚に対して、前記第1のサブフィールド期間においてオン電圧とした場合に前記液晶の透過率が最大となるように、前記フィールド期間に占める前記第1のサブフィールド期間の長さの割合を定めた、
ことを特徴とする液晶装置の駆動方法。 - 前記複数の画素の各々には、R色の光を透過するカラーフィルタ、B色の光を透過するカラーフィルタ、及びG色の光を透過するカラーフィルタのいずれかが設けられ、
前記G色の光が前記液晶に入射した場合に、前記液晶の透過率が最大となるように前記フィールド期間に占める前記第1のフィールド期間の長さの割合を定めたことを特徴とする請求項6に記載の液晶装置の駆動方法。
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JP2009143010A JP2011002483A (ja) | 2009-06-16 | 2009-06-16 | 電気光学装置の駆動方法、電気光学装置、並びに、電子機器 |
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