JP2010539674A - エネルギー粒子ビームを使用した基板の表面処理方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
Description
12 イオンビーム
14、28 ターゲット
16、42 ビーム
18、21、44 基板
20、55、100 固定具
26、30、32、66 特徴
38、94 処理領域
40 処理装置
45 軸
46 真空チャンバ
48 真空ポンプ
49 長寸法
50、80、82、90 ソース
52 シールド
54、84、86 開口部
56、120 回転ステージ
58、140 並進ステージ
59 中心線
60、62 縁部
68、70 側壁
71 層
92 円弧
102 線形アクチュエータ
104 駆動機構
105、106 固定レール
107、108 ベアリング
110 駆動出力
112 ベローズ
121 プラズマブリッジニュートライザー
Claims (19)
- 長寸法を有し、該長寸法の少なくとも一部分にわたって実質的に均一な束分布にビームを分布するように構成された前記エネルギー粒子ビームを放射するソースと、
前記ソースを含有し、前記ビームが前記基板に衝突する処理区域を含む真空チャンバと、
方位軸の周りで異なる角度方向に基板を割り出すように構成され、前記基板を支持する第1ステージ及び各々の前記異なる角度方向を有して前記処理区域を通って、前記第1ステージが基板を割り出すために使用する前記処理区域外部の停止領域まで前記基板を並進させることが可能であり、前記第1ステージを前記ソースに対して並進させる第2ステージを備え、前記真空チャンバ内部に前記ソースから離間されて配置された固定具と、
を備えた基板をエネルギー粒子ビームで処理するためのシステム。 - 前記第2ステージが、前記処理区域内で前記ソースの前記長寸法に対して直線的に前記基板を並進させるように構成されていることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 前記第2ステージが、前記処理区域内での移動方向が前記ソースの前記長寸法に対して実質的に垂直であるような曲率半径を有する円弧において基板を並進させるように構成されていることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 前記基板に対するイオンビームの平均入射角を変更するために、前記ソースが、前記ソースの前記長寸法に対して実質的に垂直な円弧において前記基板に対して移動するように構成されていることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 入射角を画定するために、前記方位軸が前記エネルギー粒子ビームの方向に対して傾斜するように、前記ソースの前記長軸と整列されたピボット軸の周りで前記第1ステージを傾斜するように構成された第3ステージをさらに備えることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- (a)その長寸法の少なくとも一部分にわたって実質的に均一な束分布を有するエネルギー粒子ビームを提供する段階と、
(b)前記基板上の前記特徴を、前記ビームの前記長寸法に対して第1固定角度方向に向ける段階と、
(c)前記ビームに対して前記基板を並進させる段階と、
(d)前記並進の少なくとも一部分の間に、前記基板を処理区域においてエネルギー粒子ビームに露光する段階と、
を含む複数の特徴を備えた基板の処理方法。 - 前記特徴を前記ビームの前記長寸法に対して第2固定角度方向に再配向するために、角度増分だけ方位軸の周りで前記基板を割り出す段階と、
段階(c)及び(d)を有限回数反復する段階と、
をさらに含むことを特徴とする請求項6に記載の方法。 - 前記特徴を第2固定角度方向に再配向するために前記基板を前記方位軸の周りで割り出す前及びその間に、前記処理区域の外側の位置に前記基板を並進させることを特徴とする請求項7に記載の方法。
- 前記角度増分が30°、60°または90°であることを特徴とする請求項7に記載の方法。
- 前記角度増分が、360°の2分の1未満である整数分数であることを特徴とする請求項7に記載の方法。
- 前記ビームに対して前記基板を並進させる段階が、
前記処理区域を通って直線的に前記基板を移動させる段階と、
反対方向の移動の間に、前記基板が前記処理区域において前記エネルギー粒子ビームに露光されるように、前記基板の直線的移動を逆方向にする段階と、
をさらに含むことを特徴とする請求項6に記載の方法。 - 前記直線的移動を逆方向にする段階の前に、前記方位軸の周りで前記基板を割り出すことを特徴とする請求項11に記載の方法。
- 前記ビームに対して前記基板を並進させる段階が、
前記基板を回転する前に前記基板の移動を停止する段階をさらに含むことを特徴とする請求項11に記載の方法。 - 前記ビームに対して前記基板を並進させる段階が、
前記処理区域を通る平面的動作において移動させる段階をさらに含むことを特徴とする請求項6に記載の方法。 - 前記特徴を前記ビームの前記長寸法に対して複数の角度方向に再配向するために、角度増分だけ方位軸の周りで前記基板を割り出す段階と、
段階(c)及び(d)を複数の角度方向毎に反復する段階と、
をさらに含むことを特徴とする請求項6に記載の方法。 - 前記特徴の各々が第1及び第2側壁を備え、
各特徴の前記第1及び第2側壁に隣接する基板の対称処理形状を提供するために十分な回数前記基板を回転し、段階(c)及び(d)を対応して複数回反復する段階を更に含むことを特徴とする請求項6に記載の方法。 - 前記基板を前記エネルギー粒子ビームに露光する段階が、
前記エネルギー粒子ビームで前記基板をエッチングする段階をさらに含むことを特徴とする請求項6に記載の方法。 - 前記基板を前記エネルギー粒子ビームに露光する段階が、
前記エネルギー粒子ビームで前記基板上に被膜を堆積する段階をさらに含むことを特徴とする請求項6に記載の方法。 - 前記基板の方位軸と前記エネルギー粒子ビームとの間で入射角を設定するために、前記エネルギー粒子ビームの前記長寸法と実質的に平行な軸の周りで前記基板を傾斜させる段階をさらに含むことを特徴とする請求項6に記載の方法。
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