JP2010536001A - シリコンベース電子回路を乾燥させるための装置および方法 - Google Patents

Abstract

シリコンベース電子回路（３０）、とりわけ光起電力セルを乾燥させるための装置（１０）は入口アパーチャー（１９）と出口アパーチャー（２１）とを設ける乾燥チャンバ（４６）を有する乾燥オーブン（２０）と、移動手段（１４）とを備えている。ここで、入口アパーチャー（１９）は、該シリコンベース電子回路（３０）が、少なくとも１つの乾燥サイクルにさらされるように導入可能であり、出口アパーチャー（２１）は、該シリコンベース電子回路（３０）が除去可能であり、またこの乾燥チャンバ（４６）において該シリコンベース電子回路（３０）を乾燥可能な乾燥手段（５０）が配置されている。また、移動手段（１４）は、該入口アパーチャー（１９）と該出口アパーチャー（２１）との間の進行方向（Ｘ）に、該乾燥チャンバ（４６）内で該シリコンベース電子回路（３０）を移動させることができる。該移動手段（１４）は、複数のサポート部材（１２）が搭載可能な閉リング手段（２２）を備え、各サポート部材（１２）は、上下に重ねて配置されている複数のサポート要素（１６）を備え、各サポート部材（１２）上には、該シリコンベース電子回路のうちの１つが位置決め可能である。起動手段（２５）は、該乾燥サイクルの期間と関連付けられた、該乾燥チャンバ（４６）の内側の既定の進行速度を該サポート部材（１２）に伝えるように、該閉リング手段（２２）に連結されている。
【選択図】 図１

Description

発明の分野

本発明は、光起電力セルに限られないが、とりわけこのような単一層または多層のシリコンベース電子回路を焼成または乾燥させるための装置および方法に関する。

発明の背景

光起電力セルに限られないが、とりわけこのようなシリコンまたは酸化アルミニウムベースの単一層または多層の電子回路が知られている。

このタイプの光起電力セルは概して約１６ｃｍ×１６ｃｍのサイズを有しているが、これより小型であってもよく、また普通は、既知のタイプの適切な乾燥装置での乾燥にさらされる。

既知の乾燥装置は、既定の温度に保たれた乾燥チャンバ、または明確かつ分化した温度で２つ以上の連続ゾーンが設けられた、ほぼ直線の開発品のオーブンを備える。この場合、各ゾーンは特定の温度を有しており、かつこれと連続したゾーンは、必要な乾燥および／または焼成サイクルと関連付けられた温度を有している。

電子回路が１つずつ順次堆積されている（通常はリンクによるが、他のタイプでもよい）コンベヤベルトがオーブンに入り、連続的に進行し、乾燥および／または焼成される回路を、通常は約４５分間の既定の乾燥サイクルを遂行するために必要な時間だけオーブンに留まらせる。

これらの既知の装置の欠点の１つは、サイズが限定されること、また約２０ｃｍ×２０ｃｍの各電子回路の平面バルク全体を想定すると、毎時数百個の範囲に生産性が限定されるということである。

反対に、例えば毎時１０００〜３０００個の高い生産性を得るために、装置は、例えば２００〜６００メートルと非常に長く、また例えば毎分４〜１３メートルの非常に速い回路移送速度でなければならないので、経済的ではなく、また実際に達成不可能である。

さらに、ベルトに沿って電子回路が移動する相当速度は、極めて軽量な回路はベルトから外れてしまう危険性を伴う。これを防止するために、ベルトと関連した吸引デバイスを使用することが知られており、これは、電子回路をベルトに付着させたまま保つ一方、オーブンをさらに複雑かつ高価なものにしてしまう。

本出願の欧州特許１，０４１，８６５号より、その内部で回路が断続的速度で徐々に進められる乾燥オーブンを有する多層電子回路を生産するためのデバイスも知られている。しかしながら、この既知のオーブンは高い生産性を得ることはできない。

したがって、本発明の目的は、当該技術状態の欠点を克服することと、毎時数千個の範囲の高い生産性を可能にするが、それほど大きなスペースを占めず、場合によっては通常サイズの業務用倉庫に適うシリコンベース電子回路用乾燥装置を達成することと、焼成に必要な熱を低下させることと、必要な材料を削減することと、バルクおよび構造の複雑さを低減することと、乾燥および／または焼成サイクルを改良することである。

出願人は、当該技術状態の欠点を克服し、かつこれらおよび他の目的および利点を得るために、本発明を考案、テストおよび具現化した。

本発明は独立請求項に記載され、かつ特徴付けられているが、従属請求項は本発明の他の特徴や主要な本発明の概念の変形について説明している。

上述の目的によると、シリコンベース電子回路、とりわけ光起電力セル用の乾燥装置は、乾燥オーブンを備え、この乾燥オーブンは、入口アパーチャーと出口アパーチャーとを設けた乾燥チャンバを有し、これを介して該シリコンベース電子回路が、少なくとも１つの乾燥サイクルにさらされるように、乾燥チャンバに導入可能であり、出口アパーチャーは、これを介して該シリコンベース電子回路が除去可能であり、またこの乾燥チャンバにおいて、該シリコンベース電子回路を乾燥させることができる乾燥手段が配置されている。該乾燥装置はまた、該入口アパーチャーと該出口アパーチャーの間の進行方向において、該乾燥チャンバ内で該シリコンベース電子回路を移動させることができる移動手段を備えている。

本発明の特徴によると、該移動手段は、複数のサポート部材が搭載可能な閉リング手段を備え、各サポート部材は、上下に重ねて配置された複数のサポート要素を備え、各サポート部材の上には該シリコンベース電気回路の１つが位置決め可能である。さらに、起動手段が、該乾燥サイクルの期間と関連付けられた該乾燥チャンバ内部の既定の進行速度を該サポート部材に伝えるために、該閉リング手段に連結されている。

好都合なことに、各サポート部材は、約４０〜６０、あるいはこれ以上の多数の電子回路を搬送することができる。

したがって、本発明による該乾燥装置は毎時数千個の範囲の高い生産性を有しており、これは、１回の乾燥サイクルの期間に対応する時間で、当該技術状態の装置によって許容されるよりも多くの複数のシリコンベース電子回路が乾燥されるからである。

さらに、本発明による該装置はほとんど空間をとらないが、これは、生産性を高めるために、非常に長いまたは平行な焼成ラインを実施する必要がないからである。

このように、乾燥に必要な熱、必要な材料、総バルクおよび構造の複雑さもまた低下され、該乾燥および／焼成サイクルが改良される。

好都合なことに、該乾燥チャンバは、約８メートル〜１２メートルの長さを有しており、約４０〜５０分の乾燥時間で毎分約１６〜３０ｃｍの回路移送速度を有する。

本発明によると、該オーブンは比較的短いため、例えば毎分１６センチメートル〜毎分３０センチメートルの低移動速度が定められているが、いずれの場合でも、備えられている該サポート部材ゆえに高い生産性が維持されている。

本発明によって許容された低進行速度と、該サポート部材の移動が均一であることとによると、オペレータは容易かつ瞬時に該サポート部材を該移動手段にロードすることができる。

本発明の好都合な実施形態は、好都合なことに相互に所定の間隔だけ離れており、かつ連続して配置されている複数のプレートが該閉リング手段に搭載されることと、この上に該サポート部材が位置決めされることによって、入口から出口に延びるコンベヤベルトとして機能することができる。代替的に、適したコンベヤベルトや移動マットを使用することができる。

好都合なことに、該サポート部材は、ラック型または櫛を備えたタイプであり、そのサポート要素は、処理される該シリコンベース電子回路のサイズと整合したサイズを有している。

変形例によると、該サポート部材は、該閉リング手段の長さに直交する方向で２つ１組で結合されている。本変形例によると、該サポート部材は、該オーブン内側に循環空気が入るのを容易にするために、ベースから最上部まで互いに間隔をあけて広がっている。好都合なことに、この場合、該シリコンベース電子回路を該サポート要素上で平衡に保つことができる該サポート部材に沿ってサポートバーが提供されており、これによって該シリコンベース電子回路が落下するのを防止する。

別の変形例によると、該サポート部材は、該閉リング手段の長さに直交する方向で、３つで結合されている。この変形例によると、該中央サポート部材は、トランスポーター上に垂直に位置決めされており、該２つのサポート部材は、該ベースから該最上部に向かって広がるように間隔があけられている。

別の変形例によると、該サポート部材は、これらを該トランスポート連鎖に対して持ち上げるように保持するチャネルに配置されている。

該チャネルは、両側および上部の双方に加熱流体を循環させるための穴を有しており、また、該トランスポートチェーンの縁部と略平行であり、かつ該加熱流体の移送を容易にするように開放されているヘッドを有している。

別の変形例によると、該オーブンは、分化された乾燥温度を有する複数のゾーンまたはセクションに分割されている。各ゾーンは、１つの入口ドアと、これを介して該コンベヤベルトが徐々に進行する対応した出口ドアとを有する。さらに、各ゾーンは、該セクションにその瞬間に存在するサポート部材と温度を有し、これらは、調整されて備えられている該乾燥および／または焼成サイクルと整合している。

本発明によるシリコンベース電子回路乾燥方法は、該シリコンベース電子回路が各サポート部材の該サポート要素上に位置決めされる第１のステップと、該サポート部材が該乾燥オーブン内側の該移動手段によって移動される第２のステップと、該サポート部材に含まれている該シリコンベース電子回路の該乾燥サイクルが実施される第３のステップと、該サポート部材が該移動手段によって該乾燥オーブンの外側に移動される第４のステップとを備えている。

本発明のこれらおよび他の特徴は、添付の図面を参照して非制限的例として与えられている実施形態の優先的形態についての以下の説明から明らかになる。
本発明にしたがった乾燥装置の側面図である。 図１のII-IIの断面図である。 図１の拡大詳細図である。 図１の装置の一部の図である。 装置が部分的に開放されている、図２の拡大詳細図である。 図１の装置の断面図である。 図１の装置の３次元図である。 図７の拡大詳細図である。

実施形態の優先的形態の詳細な説明

図１を参照すると、乾燥装置１０は、図８に見られ、かつ平面サイズが約１６ｃｍ×１６ｃｍの光起電力セル用シリコンウェーハ３０を乾燥させるためのサイクルを実施するための、ほぼ直線の開発品の乾燥オーブン２０を備えている。

このオーブンは、乾燥チャンバ４６を画成するために、オーブン２０の内側を外側から熱的に絶縁する壁１２３（図７）をサポートするサポートフレーム２３によって形成されている。

チャンバ４６は、既定の乾燥サイクルにより乾燥されるオーブン２０の内側にウェーハ３０が挿入可能な入口１９と、乾燥されたウェーハが除去可能な出口２１とを有する。

チャンバ４６の内側において、入口１９と出口２１との間に、乾燥ユニット５０が順次配置されている（図２）。

乾燥ユニット５０の各々は、従来のように、空気を外側から吸引する吸引デバイス１５と、備えられている乾燥サイクルと整合して空気を加熱したり、場合によってはこの熱力学特性を変更したりする加熱デバイス１１と、乾燥空気をウェーハ３０に送ることによって、乾燥空気の既定の循環および／または再循環を画成する、これもまた乾燥サイクルのタイプと整合した吹き出し（ｓｏｕｆｆｌａｇｅ）デバイス１７とを備えている。

ウェーハ３０の出入りのために、アパーチャー１３１を設ける固定壁３１が入口１９に設けられており、関連するアパーチャーが出口２１に設けられている。

固定壁３１の代替物として、自動開閉式であり、かつ好都合なことには乾燥サイクルおよびウェーハ３０の挿入について時間計測および調整されたシャッター型ドアが入口１９に提供可能であり、対応するドアが出口２１に設けられてもよい。

添付の図面に示されているオーブン２０は、異なる温度で、入口１９と出口２１との間に順次配置されている乾燥ゾーン３２、３４、３６、３８、４２、４４に分割され、ウェーハ３０がさらされる乾燥温度プロファイルを決定する。各乾燥ゾーンは、相対的乾燥ユニット５０を設ける。好都合なことに、種々のゾーン３２、３４、３６、３８、４２、４４の間に、ゾーン間の熱分散を減らすために自動的に開く中間分離ドアが設けられてもよい。

本発明もまた、内側で乾燥温度が一定に維持されるオーブンに適用されることが明らかである。

装置１０はまた、既定の進行方向Ｘと、矢印Ｆ（図１）で示されている方向に沿って、オーブン２０の内側で入口１９と出口２１との間でウェーハ３０を移動させることができる移動ユニット１４（図１、図２、図３および図７）をサポートするためのもう１つのサポートフレーム１３を備えている。

とりわけ、移動ユニット１４は、以下の説明により詳細に示されているように、複数のプレート２４（図２）を備え、この各々にはラック型または櫛型コンテナ１２が搭載されており（図１、図２、図３、図４、図５、図６および図７）、また複数のプレート２４は入口１９と出口２１の間を自動的に移動される。

コンテナ１２は、ウェーハ３０が挿入可能な２つの側部を開放したままにするために（図４）、２つの側方の壁１１２、２１２と、最上部表面４１２と、ベース表面５１２とによって形成されている。このために、各コンテナ１２は、コンテナ１２の両方の壁１１２、２１２の最上部にペアで配置されている複数のサポートガイド１６（図４）を備え、この上には、ウェーハ３０を載せることができる。このように、ウェーハ３０は、乾燥空気が通過できるようにするために、また同時に高いパッキング密度で乾燥サイクルごとに高い生産性を有するように、相互に離れており、好都合なことに平行に、コンテナ１２内に積層されて位置決めされている。事実、例えばここに示されている解決策では、各コンテナ１２は約５０個またはこれ以上のウェーハ３０を含むことが可能である。

各コンテナ１２は、コンテナ１２（図２）の進行方向Ｘに直交するＹ軸に対して、例えば約０°〜１０°の既定の角度αだけ傾斜されるように位置決めされる。

この傾斜は空気の循環において、より高い有効性、ひいてはより高い乾燥効率を可能にする。

このように傾斜されているコンテナ１２からウェーハ３０が落下するのを防止するために、ベース５１２から、最上部４１２（図４）に、コンテナ１２の全高に沿って配置されているサポートバー３１２が備えられ、この上にウェーハ３０が載せられる。

オーブン２０に沿ってコンテナ１２を自動的に変位させるために、移動ユニット１４の各プレート２４は、ブラケット２６（図２および図５）によって、主に進行方向Ｘの長さに延びている閉リングやコンベヤベルトチェーン２２（図１、図３、図６および図７）に連結されている。

リング型チェーン２２は、ハブ２８、１２８によって、フレーム１３と関連した適切なサポート２９、１２９（図３および図８）に回転可能に搭載されている２つの歯付きホイール１８、１１８と結合され、第１のホイール１８はオーブン２０の出口２１に配置され、第２のホイール１１８はオーブン２０の入口１９に配置されている。歯付きホイール１８は、ハブ２８に連結されているトランスミッションチェーン２７（図３）によってモータ２５により直接回転させられるのに対して、歯付きホイール１１８はリング型チェーン２２によって回転駆動される。したがって、モータ２５は、乾燥サイクルの期間と関連付けられた既定の進行速度をコンテナ１２に付与するために、チェーン２２に連結されている。

１つの乾燥サイクルが完了すると、つまりコンテナ１２と、この中に含まれているウェーハ３０とが入口１９から出口２１に移送されると、各プレート２４は、コンテナ１２が再度ロードされるように、チェーン２２によって強いられた閉じられた環状経路に沿って入口１９に自動的に戻る。

ここに示されている解決策では、各プレート２４と、相対的ブラケット２６との間に、穴付き壁１２４が垂直に配置されて設けられ（図２、図５および図８）るので、これは、コンテナ１２の進行方向Ｘに直交するチャネル２２４（図８）を、この方向に横断した平行な空気の循環を容易にするように画成する。

チェーン２２がオーブン２０の内側に沿ってコンテナを移送する速度は、設けられている乾燥サイクルのタイプに関連付けられる。このように、本発明は、既定の一定速度で、あるいは増減する既定の速度傾向や加速および減速の組み合わせなどにしたがって移動を実現するように、異なる温度で１つ以上の乾燥ゾーン３２、３４、３６、３８、４２、４４に応じた所定期間の停止や断続的進行を実現することを可能にする。

乾燥サイクル中にモータ２５によって与えられる進行速度、可能な入口、出口および中間ドアの開閉、および乾燥ユニット５０の機能は好都合なことに、選択された乾燥サイクルにしたがって、図示されていない電子型制御ユニットによって自動的に制御される。

したがって、本発明によるウェーハ３０の乾燥方法は、各コンテナ１２の相対的ガイド１６上に載るウェーハ３０を挿入することと、例えばオペレータによって手動で、あるいはローディングロボットによって、「オンザフライ」、つまり連続シーケンスで、あるいはチェーン２２の可能な停止中に、オーブン２０の入口１９に対応してロードされた複数のコンテナ１２、好ましくは上述のように傾斜して配置されている２つのコンテナ１２をプレート２４ごとに位置決めするか、図示されていない変形例によって、３つのコンテナ１２を、１つを中央に２つを側部に傾斜させて位置決めすることを提供する。

引き続き、各コンテナ１２はオーブン２０の内側で連続的に移動され、これに応じてもう１つのプレート２４が、２つ以上のコンテナ１２を上部にロードするために入口１９で使用可能にされる。コンテナ１２にロードされているウェーハ３０は選択された乾燥サイクルにさらされ、最終的には、出口２１を通してオーブン２０から取り出される。入口１９に準備されている各プレート２４上にコンテナ１２をロードすることによって、オーブン２０は、連続的に動作して、生産性の高い所定の乾燥サイクルによってウェーハ３０を乾燥させることができる。

例えば、長さ約１０メートル、乾燥時間約４５分、連続移動速度毎分約２２ｃｍ、各々が約２５ｃｍ×２５ｃｍの平面バルクを有する対のコンテナ１２を使用し、高さが約６０ｃｍ、５０個のウェーハが上部に配置されている乾燥チャンバ４６では、毎時約５３００個の生産性を有する。さらに、移動速度は比較的遅く、移送時の不要な振動を防止するために、コンテナ１２の高さと適合する。

パーツおよび／またはステップの修正および／または追加は、本発明の分野および主旨から逸脱することなく、上述のようなシリコンベース電子回路を乾燥させるための装置および方法になされてもよいことも明らかである。

本発明は具体例を参照して説明されてきたが、当業者は、請求項に記載されているような特徴を有する、シリコンベース電子回路を乾燥させるための装置および方法の多数の他の同等な形態を達成することができ、これらの全ては、このように規定された保護範囲内にあることも明らかである。

１０…乾燥装置、１２…コンテナ、１４…移動手段、１６…サポートガイド、１８、１１８…歯付きホイール、１９…入口アパーチャー、２０…乾燥オーブン、２１…出口アパーチャー、２２…コンベヤベルトチェーン、２４…プレート、２５…モータ、２６…ブラケット、２８、１２８…ハブ、３０…シリコンウェーハ、３１…固定壁、３２、３４、３６、４８、４２、４４…ゾーン、４６…乾燥チャンバ、５０…乾燥ユニット、１１２、２１２…壁、１２４…穴付き壁、１３１…アパーチャー、４１２…最上部表面、５１２…ベース表面。

Claims (20)

1. シリコンベース電子回路（３０）、とりわけ光起電力セルの乾燥装置であって、
   −前記シリコンベース電子回路（３０）が、少なくとも１つの乾燥サイクルにさらされるように内部に導入可能な入口アパーチャー（１９）と、前記シリコンベース電子回路（３０）が取外し可能であり、またこの乾燥チャンバ（４６）において前記シリコンベース電子回路（３０）を乾燥可能な乾燥手段（５０）が配置されている出口アパーチャー（２１）とを設ける乾燥チャンバ（４６）を有する乾燥オーブン（２０）と、
   −前記入口アパーチャー（１９）と前記出口アパーチャー（２１）との間の進行方向（Ｘ）に、前記乾燥チャンバ（４６）の内側で前記シリコンベース電子回路（３０）を移動させることができる移動手段（１４）であって、複数のサポート部材（１２）が搭載可能な閉リング手段（２２）を備える移動手段（１４）であり、各サポート部材が、上下に重ねて配置されている複数のサポート要素（１６）を備え、各サポート部材には前記シリコンベース電子回路（３０）のうちの１つが位置決め可能である移動手段（１４）と、を備え、起動手段（２５）が、前記乾燥サイクルの期間と関連付けられた前記乾燥チャンバ（４６）の内側の既定の進行速度を前記サポート部材（１２）に伝えるために前記閉リング手段（２２）に連結されている乾燥装置。
2. 前記閉リング手段（２２）に搭載されている複数のサポートプレート（２４）を備え、各サポートプレート（２４）には前記サポート部材（１２）のうちの少なくとも１つが位置決め可能である、請求項１に記載の装置。
3. 前記サポート部材（１２）が、前記サポートプレート（２４）の各々に横方向に隣接して、ペアで位置決めされている、請求項２に記載の装置。
4. 前記サポート部材（１２）が、前記進行方向（Ｘ）に直交した軸（Ｙ）に対して既定の角度（α）だけ傾斜して位置決めされている、請求項３に記載の装置。
5. 前記サポート部材（１２）が、前記サポートプレート（２４）の各々に横方向に隣接して３つで位置決めされている、請求項２に記載の装置。
6. 前記サポート部材（１２）の最初の２つが、前記進行方向（Ｘ）に直交する軸（Ｙ）に対して既定の角度（α）だけ傾斜して位置決めされており、前記サポート部材（１２）の３つ目が前記最初の２つのサポート部材（１２）間の中央に垂直に位置決めされている、請求項５に記載の装置。
7. 前記サポートプレート（２４）の各々が、空気が通過するチャネル（２２４）を画成する２つの相対的垂直壁（１２４）を有する、請求項２に記載の装置。
8. 各サポート部材（１２）は、総数約４０〜６０個のシリコンベース電子回路（３０）を、相互に離れた前記サポート要素（１６）上にサポートすることができる、請求項１〜７のいずれか一項に記載の装置。
9. 入口アパーチャー（１９）と出口アパーチャー（２１）間の前記乾燥チャンバ（４６）の長さが約８〜１２メートルである、請求項１〜８のいずれか一項に記載の装置。
10. 前記乾燥サイクルの期間が約４０〜５０分である、請求項１〜９のいずれか一項に記載の装置。
11. 前記閉リング手段（２２）の進行速度が、毎分約１６センチメートル〜毎分約３０センチメートルである、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の装置。
12. 前記サポート部材が、前記シリコンベース電子回路（３０）をロードするための少なくとも１つの開放側部を有し、かつ前記シリコンベース電子回路（３０）がロードされる内側容積を画成するコンテナ（１２）であり、前記サポート要素は、前記シリコンベース電子回路（３０）が前記コンテナ（１２）の前記内側容積の内側に積層されるように、相互から所定の距離で前記コンテナ（１２）の高さに沿って、前記コンテナ（１２）の前記内側容積に配置されている複数のガイド（１６）からできている、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の装置。
13. シリコンベース電子回路（３０）が、少なくとも１つの乾燥サイクルにさらされるように導入可能な入口アパーチャー（１９）、前記シリコンベース電子回路（３０）が取外し可能であり、また前記シリコンベース電子回路（３０）を乾燥可能な乾燥手段（５０）が配置されている出口アパーチャー（２１）を設ける乾燥チャンバ（４６）を有する乾燥オーブン（２０）と、前記入口アパーチャー（１９）と前記出口アパーチャー（２１）との間の進行方向（Ｘ）に、前記乾燥チャンバ（４６）の内側で前記シリコンベース電子回路（３０）を移動させることができる移動手段（１４）において、シリコンベース電子回路（３０）、とりわけ光起電力セルを乾燥させるための方法であって、
    前記シリコンベース電子回路（３０）が、上下に重ねて配置されているサポート要素（１６）上に１つずつ位置決めされている複数のサポート部材（１２）に挿入され、前記サポート部材（１２）が前記移動手段（１４）の閉リング手段（２２）に搭載される第１のステップと、
    前記閉リング手段（２２）が、前記乾燥サイクルの期間と関連付けられた前記乾燥チャンバ（４６）の内側の既定の進行速度を各サポート部材（１２）に伝えるように、起動手段（２５）によって駆動される第２のステップと、
    前記サポート部材（１２）に挿入されている前記シリコンベース電子回路（３０）の前記乾燥サイクルが実現される、前記第２のステップと関連付けられた第３のステップと、
    前記サポート部材（１２）の各々が、前記乾燥オーブン（２０）の外側に前記移動手段（１４）によって移動される第４のステップと、
    を備える方法。
14. 前記サポート部材（１２）は、約４０〜６０個の多数のシリコンベース電子回路（３０）を前記サポート要素（１６）上に、互いに離してサポートすることができる、請求項１３に記載の方法。
15. 前記乾燥サイクルの期間が約４０〜５０分である、請求項１３または１４に記載の方法。
16. 前記進行速度が略一定である、請求項１３、１４または１５に記載の方法。
17. 前記進行速度が、毎分約１６センチメートル〜毎分３０センチメートルである、請求項１６に記載の方法。
18. 前記進行速度は、ほぼ一定の加速を伴う、請求項１３、１４または１５に記載の方法。
19. 前記進行速度の傾向が、一定の加速部分と一定の減速部分とを備える、請求項１３、１４または１５に記載の方法。
20. 前記進行速度が断続的である、請求項１３、１４または１５に記載の方法。

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