JP2010533639A - 局所可逆ガラススエリングのための方法 - Google Patents
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Abstract
Description
810nmの波長において、また組成3については1550nmに対しても、かなり高いバンプが達成されたガラス組成を、下の表Iに挙げてある。1550nmの波長が、この波長で透明な、シリコンのような基板で覆われたガラス上にバンプを形成するために望ましい。この波長は、1.5μmエルビウムファイバレーザで発生される主波長である。この形態のレーザを用いて、バンプ高を上げ下げできる能力を実証した。
エルビウムドープファイバレーザからの1510nm光を用いて、表Iの組成3に対応するガラス材料の表面上70μm±100nmの高さにバンプを隆起させることにした。図6及び7のデータと同様のデータに依存して、4.25Wの初期ドーズエネルギーを選択した。次いで、4.25Wを1秒間照射する間、レーザ出力をガラス表面上または僅かにガラス表面下に集束させて0.2〜0.4mm径のスポットにし、初期バンプを形成した。
第2の実施例は、バンプ高目標値が40μmであった、図6に示されるデータによって代表される。この場合も、図6及び7に提示されるデータを見ることが第1ショットについて与えられるレーザパルスエネルギーの選択の手引きとして役立つ。本実施例においては、2.72ジュールのパルスを選択した。このパルス印加により−所望より高い−40.9μmのバンプが得られた。小サイズのバッチでガラスを作製したから、脈理(不均一性)が多く見られた。この場合も、バンプ高を上下に調整できる本発明の能力により、高品質で均質な試料は必要とされない。バンプ高が所望の値より高いから、バンプ高を下げ調整するために第1ショットより低いエネルギーの次のドーズが必要である。2.63Jの第2のパルスでバンプ高を調整して〜40.45μmまで下げた。最後に、2.54Jの第3ショットにより、バンプ高は、所望のターゲット高範囲内の、39.9μmになった。
18 光
20 ガラス材料表面
22 隆起表面構造
26 加熱素子
28 表面リード
30 ボンディングワイア
40 x-y可動ステージ装置
42 可動ステージ
50 レーザ装置
52 光学系
60 測定装置
62,63 測定ビーム
70 コントローラ
80 マウント構造体
90 摩擦プローブ
110 自動表面テキスチャー形成システム
Claims (10)
- 目標範囲内の高さを有する隆起構造を、ガラス材料の表面上に、形成する方法において、前記方法が、
(1)表面を有するガラス材料を提供する工程、
(2)前記ガラス材料の局所膨張をおこさせる量のエネルギーを、前記表面または前記表面下の場所において、前記場所において前記表面上に構造を隆起させるために、局所的に前記ガラス材料に供給する工程、
(3)前記隆起構造の高さまたは前記隆起構造の高さの時間経過にともなう推移を検出する工程、
(4)(a)前記高さが前記目標範囲より下であるかまたは前記目標範囲より下の値に近づきつつあれば、より多くの量のエネルギーを前記場所において前記ガラス材料に供給する工程、
(b)前記高さが前記目標範囲より上であるかまたは前記目標範囲より上の値に近づきつつあれば、より少ない量のエネルギーを前記場所において前記ガラス材料に供給する工程、及び
(5)前記高さを前記目標範囲内に入れるために、必要に応じて、前記工程(3)及び(4)を反復する工程、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記高さが少なくとも10μmであり、前記目標範囲が±500nm以下であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記目標範囲が±200nm以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の方法。
- 前記目標範囲が±100nm以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の方法。
- 前記高さが少なくとも30μmであることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の方法。
- 前記高さが少なくとも80μmであることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の方法。
- 前記エネルギーのドーズが、電磁放射、化学反応及び摩擦の内の1つ以上によって供給されることを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載の方法。
- 前記工程(2)〜(5)を自動的に実施する工程をさらに含むことを特徴とする請求項1から7のいずれか1項に記載の方法。
- (1)前記表面または前記表面下の場所において、ある量のエネルギーを局所的に前記ガラス材料に供給する工程、及びより多くの量のエネルギーを前記場所において前記ガラス材料に供給する工程、及びより少ない量のエネルギーを前記場所において前記ガラス材料に供給する工程が、合わせて、可変であるが連続のエネルギードーズを前記ガラス材料に供給する工程をなす、または
(2)前記表面または前記表面下の場所において、ある量のエネルギーを局所的に前記ガラス材料に供給する工程、及びより多くの量のエネルギーを前記場所において前記ガラス材料に供給する工程、及びより少ない量のエネルギーを前記場所において前記ガラス材料に供給する工程が、それぞれ、不連続のエネルギードーズを前記ガラス材料に供給する工程をなす、
ことを特徴とする請求項1から8のいずれか1項に記載の方法。 - 製品において、請求項1から9のいずれか1項に記載の方法によって作製されることを特徴とする製品。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015048253A (ja) * | 2013-08-30 | 2015-03-16 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | レーザ光によるガラス基板加工方法及び加工装置 |
JP2015527276A (ja) * | 2012-05-29 | 2015-09-17 | コーニング インコーポレイテッド | 成長制限されたガラス凸型スペーサを用いた薄板ガラス製品の製造 |
JP2018521950A (ja) * | 2015-07-24 | 2018-08-09 | コーニング インコーポレイテッド | ガラス物品上のガラス突起及びレーザー誘起成長法 |
JP2018528142A (ja) * | 2015-07-24 | 2018-09-27 | コーニング インコーポレイテッド | ガラス物品にガラス突起をレーザー誘起成長させるための制御方法 |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8821999B2 (en) * | 2008-11-05 | 2014-09-02 | Corning Incorporated | Vacuum-insulated glass windows with glass-bump spacers |
KR20140004759A (ko) | 2011-02-17 | 2014-01-13 | 타이코 일렉트로닉스 레이켐 비브이비에이 | 커넥터를 광 섬유에 부착하는 휴대용 디바이스 |
US8679599B2 (en) * | 2011-03-29 | 2014-03-25 | Corning Incorporated | Light-weight strengthened, low-emittance vacuum insulated glass (VIG) windows |
CN104070608B (zh) * | 2013-03-27 | 2016-09-21 | 斯克林集团公司 | 石平台、其加工方法、制造方法以及基板处理装置 |
US9422187B1 (en) | 2015-08-21 | 2016-08-23 | Corning Incorporated | Laser sintering system and method for forming high purity, low roughness silica glass |
US11420293B2 (en) | 2016-05-26 | 2022-08-23 | Corning Optical Communications LLC | Methods of ferrule reshaping for correcting core-to-ferrule concentricity errors, and optical fiber cable assemblies related to such methods |
US10336644B2 (en) | 2016-05-26 | 2019-07-02 | Corning Optical Communication Llc | Methods of ferrule reshaping for correcting core-to-ferrule concentricity errors, and optical fiber cable assemblies related to such methods |
US10180544B2 (en) | 2016-11-17 | 2019-01-15 | Corning Optical Communications LLC | Micro-optical systems and assemblies using glass tubes and methods of forming same |
US20200277225A1 (en) * | 2016-11-18 | 2020-09-03 | Corning Incorporated | Methods of forming laser-induced attributes on glass-based substrates using mid-ir laser |
EP3541763A1 (en) | 2016-11-18 | 2019-09-25 | Corning Optical Communications LLC | Laser bonded transparent glass-based articles and methods of making the same |
US10564354B2 (en) | 2016-12-21 | 2020-02-18 | Corning Optical Communications LLC | Flexible glass optical-electrical interconnection device and photonic assemblies using same |
US10578811B2 (en) | 2017-11-29 | 2020-03-03 | Corning Optical Communications LLC | Methods of forming ferrules for optical fiber connectors, and optical fiber cable assemblies related to such methods |
US11768334B2 (en) | 2021-06-24 | 2023-09-26 | Corning Research & Development Corporation | Lensed optical fiber connector with dust insensitive alignment features |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07182655A (ja) * | 1993-11-10 | 1995-07-21 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 脆性表面のテクスチャ加工方法及びこの方法により加工された磁気データ記憶ディスク |
JPH1045426A (ja) * | 1995-10-31 | 1998-02-17 | Ohara Inc | 磁気情報記憶媒体用ガラスセラミック基板およびその製造方法 |
JPH1196533A (ja) * | 1997-07-24 | 1999-04-09 | Hitachi Ltd | 磁気ディスク用ガラス基板,磁気ディスク、及び磁気ディスク装置 |
JP2003307602A (ja) * | 2002-04-18 | 2003-10-31 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 平板レンズおよび平板レンズアレイの製造方法 |
JP2005258233A (ja) * | 2004-03-15 | 2005-09-22 | Japan Science & Technology Agency | マイクロレンズ作成方法およびその装置、その方法によって作成した光学素子 |
JP2005338281A (ja) * | 2004-05-25 | 2005-12-08 | Sony Corp | 薄膜デバイスの製造方法およびガラス基板の貼り合わせ方法 |
JP2008175856A (ja) * | 2007-01-16 | 2008-07-31 | Seiko Epson Corp | 基板構造、基板の分割方法、電気光学装置の製造方法 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3589486B2 (ja) * | 1994-06-29 | 2004-11-17 | 株式会社町田製作所 | マイクロレンズの製造方法 |
US5528922A (en) * | 1994-12-27 | 1996-06-25 | International Business Machines Corporation | Method of making disk bumps with laser pulses for calibrating PZT sliders |
US5586040A (en) * | 1995-01-27 | 1996-12-17 | International Business Machines Corporation | Process and apparatus for controlled laser texturing of magnetic recording disk |
US5604635A (en) * | 1995-03-08 | 1997-02-18 | Brown University Research Foundation | Microlenses and other optical elements fabricated by laser heating of semiconductor doped and other absorbing glasses |
US6287663B1 (en) * | 1995-10-31 | 2001-09-11 | Kabushiki Kaisha Ohara | Glass-ceramic substrate for a magnetic information storage medium |
TW445243B (en) | 1995-10-31 | 2001-07-11 | Ohara Kabushiki Kaisha | A glass-ceramic substrate for a magnetic disk and a method for manufacturing the same |
JPH09237419A (ja) * | 1996-02-29 | 1997-09-09 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体の製造方法 |
US6207926B1 (en) * | 1997-01-15 | 2001-03-27 | Seagate Technology Llc | Fiber optic laser texturing with optical probe feedback control |
US5965215A (en) * | 1997-01-15 | 1999-10-12 | Seagate Technology, Inc. | Method for laser texturing a landing zone and a data zone of a magnetic recording medium |
US5951891A (en) * | 1997-03-24 | 1999-09-14 | International Business Machines Corporation | Optical apparatus for monitoring profiles of textured spots during a disk texturing process |
US6577472B2 (en) * | 1997-07-24 | 2003-06-10 | Hitachi, Ltd. | Glass substrate for a magnetic disk, a magnetic disk which can be formed with a stable texture |
JPH1158056A (ja) * | 1997-08-12 | 1999-03-02 | Nec Corp | レーザテクスチャー加工装置 |
US6068891A (en) * | 1997-08-15 | 2000-05-30 | Komag, Inc. | Method for laser texturing a glass ceramic substrate and the resulting substrate |
US6388229B1 (en) * | 1999-08-13 | 2002-05-14 | International Business Machines Corporation | Method for laser texturing magnetic recording disk |
US6570840B1 (en) * | 2000-04-26 | 2003-05-27 | Optical Disc Corporation | Figure of merit in optical recording structures |
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2007
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-
2008
- 2008-07-15 TW TW097126876A patent/TWI464128B/zh not_active IP Right Cessation
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07182655A (ja) * | 1993-11-10 | 1995-07-21 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 脆性表面のテクスチャ加工方法及びこの方法により加工された磁気データ記憶ディスク |
JPH1045426A (ja) * | 1995-10-31 | 1998-02-17 | Ohara Inc | 磁気情報記憶媒体用ガラスセラミック基板およびその製造方法 |
JPH1196533A (ja) * | 1997-07-24 | 1999-04-09 | Hitachi Ltd | 磁気ディスク用ガラス基板,磁気ディスク、及び磁気ディスク装置 |
JP2003307602A (ja) * | 2002-04-18 | 2003-10-31 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 平板レンズおよび平板レンズアレイの製造方法 |
JP2005258233A (ja) * | 2004-03-15 | 2005-09-22 | Japan Science & Technology Agency | マイクロレンズ作成方法およびその装置、その方法によって作成した光学素子 |
JP2005338281A (ja) * | 2004-05-25 | 2005-12-08 | Sony Corp | 薄膜デバイスの製造方法およびガラス基板の貼り合わせ方法 |
JP2008175856A (ja) * | 2007-01-16 | 2008-07-31 | Seiko Epson Corp | 基板構造、基板の分割方法、電気光学装置の製造方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015527276A (ja) * | 2012-05-29 | 2015-09-17 | コーニング インコーポレイテッド | 成長制限されたガラス凸型スペーサを用いた薄板ガラス製品の製造 |
JP2015048253A (ja) * | 2013-08-30 | 2015-03-16 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | レーザ光によるガラス基板加工方法及び加工装置 |
JP2018521950A (ja) * | 2015-07-24 | 2018-08-09 | コーニング インコーポレイテッド | ガラス物品上のガラス突起及びレーザー誘起成長法 |
JP2018528142A (ja) * | 2015-07-24 | 2018-09-27 | コーニング インコーポレイテッド | ガラス物品にガラス突起をレーザー誘起成長させるための制御方法 |
US11247939B2 (en) | 2015-07-24 | 2022-02-15 | Corning Incorporated | Glass bumps on glass articles and methods of laser-induced growth |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8397537B2 (en) | 2013-03-19 |
TWI464128B (zh) | 2014-12-11 |
EP2176182A1 (en) | 2010-04-21 |
CN101784497A (zh) | 2010-07-21 |
WO2009011675A9 (en) | 2010-03-18 |
KR20100057609A (ko) | 2010-05-31 |
TW200916425A (en) | 2009-04-16 |
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