JP2010532080A - パターン化された層を基板上に形成する方法 - Google Patents
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Abstract
Description
1) マッシュの製造用には、薄膜技術が用いられる。これは、フォトリソグラフィーの使用及び高価な機械での長い蒸着時間に起因して、かなり高価になる。
2) グリッド製造用には厚膜技術が用いられ、これは追加の製造ステップをディスプレーの製造に加える。このように、パターン化された金属被覆の製作は、複雑で高価であるという欠点を伴う。
− パターンを規定するための第1のパターニング手段を供するステップと、
− 第1の層を基板の表面上に供するステップと、
− パターニング手段を用いて第1の層を押印することによって、第1の層に凹部のパターンを供するステップと、
− 第1の層を硬化させるステップと、
− 第1の層の表面を親水性にするために、第1の表面処理を第1の層上に実施するステップと、
− 複数の前記凹部間の表面部分を含み、凹部自体は除いたサブエリアを疎水性にするために、第2の表面処理を第1の層の表面の選択されたサブエリア上に実施するステップと、
− 導電性のパターン材を凹部に蒸着するステップと、
を含んでいる。
− 有極性の分子を含む第2の層を、第1の層上に蒸着するステップと、
− 疎水性のあるサブエリアから凹部へと浸透した第2の層が乾燥するのを可能にするステップと、
を含む。
− マスクされていないエリアを供して、第1の層及び第2の層をマスキングするステップと、
− 第3の層を、マスクされていないエリアに蒸着するステップと、
を更に含んでいる。
− 押印ステップの前に、少なくとも部分的にゾル-ゲル材に反応を起こさせるステップを、
更に含んでいる。
− 前駆体が、無電解金属の蒸着のために核形成部位に変換する処理を行うステップと、
− 薄い無電解金属層を当該核形成部位上に蒸着するステップと、
が実行される。
− 有機発光素子を形成するために、有機層をパターン層上に蒸着するステップ、
を含んでいる。
− 有機発光素子を形成するために、正孔注入材料を有する有機層をパターン層上に蒸着するステップ、
を含んでいる。従って、導電性のグリッドパターンと組み合わされた正孔注入材料がOLEDの分路として働くので、第3の導電層が取り除かれ、これ故、陽極の充分な導電率を供する。第3の導電層が取り除かれることにより、OLEDの高い光効率が実現されるので、これは好都合である。更に、プロセス・ステップの量が減じられる場合、生産コストが減じられる。
− 有機光起電力素子を形成するために、有機層30を前記パターン層上へ蒸着するステップ、
を含んでいる。
− 有機光起電力素子を形成するために、正孔注入材料を有する有機層をパターン層上へ蒸着するステップ、
を含む。ここで、導電性のグリッドパターンと組み合わせられた正孔注入材料が光起電力素子の分路として働くので、第3の導電層が取り除かれ、これ故、陽極の充分な導電率を供する。第3の導電層が取り除かれることにより、光起電力素子の高い光効率が実現されるので、これは好都合である。更に、プロセス・ステップの量が減じられる場合、生産コストが減じられる。
Claims (26)
- インプリント・プロセスを用いてパターン化された層を基板上に形成する方法であって、
− パターンを規定するために、第1のパターニング手段を供するステップと、
− 第1の層を前記基板の表面上に供するステップと、
− 前記第1の層に前記パターニング手段をインプリントすることによって、前記第1の層に凹部のパターンを供するステップと、
− 前記第1の層を硬化させるステップと、
− 前記第1の層の表面を親水性にするために、第1の表面処理を前記第1の層上に実施するステップと、
− 前記凹部間の表面部分を含み、前記凹部は除いたサブエリアを疎水性にするために、第2の表面処理を前記第1の層の表面の選択されたサブエリア上に実施するステップと、
− 前記凹部に導電性のパターン材を蒸着するステップと、
を含む、方法。 - 前記第1の層を硬化させた後にバリア層を供するステップを更に含む、請求項1に記載の方法。
- 前記パターン材を前記凹部に蒸着するステップは更に、
− 有極性の分子を含む第2の層を、前記第1の層上に蒸着するステップと、
− 前記疎水性があるサブエリアから前記凹部へと再分散された前記第2の層が乾燥するのを可能にするステップと、
を少なくとも1回実行するステップを含む、請求項1又は請求項2に記載の方法。 - 前記第1の層と前記第2の層とを、マスキングされていないエリアを供してマスキングするステップと、
第3の層を、前記マスキングされていないエリア上に蒸着するステップと、
を更に含む、請求項3に記載の方法。 - 前記マスキングするステップがシャドウマスクによって行われる、請求項4に記載の方法。
- 前記第3の層が導電性である、請求項4又は請求項5に記載の方法。
- 前記第3の層を蒸着するステップが、錫/亜鉛溶液のスプレー熱分解を用いて行われる、請求項4乃至6のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第3の層を蒸着するステップが、スパッタリングによって行われる、請求項4乃至7のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第1の層が、ゾル-ゲル材である、請求項1乃至8のいずれか一項に記載の方法。
- 前記インプリントするステップの前に、少なくとも部分的に前記ゾル-ゲル材を反応させるステップ、
を更に含む、請求項9に記載の方法。 - 前記第1の層がポリマである、請求項1乃至8のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第1の表面処理は、UV-オゾン処理、プラズマ処理、及び湿式の化学的な酸化法のうちの一つである、請求項1乃至11のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第2の表面処理が、反応性の疎水性前駆体を塗布することによって行われる、請求項1乃至12のいずれか一項に記載の方法。
- 第2の材料を蒸着するステップが、スピン・コーティング、スプレー塗布、インクジェット噴射、又はドクター・ブレード方式の散布のうちの一つを用いて行われる、請求項1乃至13のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第2の層が金属を含んだ液体である、請求項1乃至14のいずれか一項に記載の方法。
- 前記金属を含んだ液体が、金属の前駆体及び金属のナノ粒子のうちの一つを含んでいる、請求項15に記載の方法。
- 前記金属を含んだ液体を乾燥させた後に、
− 前記前駆体が、無電解金属の蒸着のために、核形成部位に変換される処理を適用するステップと、
− 薄い無電解金属層を前記核形成部位上に蒸着するステップと、
を更に含む、請求項16に記載の方法。 - 前記薄い無電解金属層が鏡として働く、請求項17に記載の方法。
- 前記薄い無電解金属層が、金属の電気化学的成長のための成長層として使われている、請求項17に記載の方法。
- 前記パターニング手段がスタンプである、請求項1乃至19のいずれか一項に記載の方法。
- 請求項4に記載の方法を用いて、パターン層を基板上に形成するステップと、
有機発光素子を形成するために、有機層を前記パターン層上へ蒸着するステップと、
を含む、有機発光素子を製造する方法。 - 請求項3に記載の方法を用いて、パターン層を基板上に形成するステップと、
有機発光素子を形成するために、正孔注入材料を有する有機層を前記パターン層上に蒸着するステップと、
を含む、有機発光素子を製造する方法。 - 導電層を前記有機層上へ蒸着するステップ
を更に含む、請求項21又は請求項22に記載の有機発光素子を製造する方法。 - 請求項4に記載の方法を用いて、パターン層を基板上に形成するステップと、
有機光起電力素子を形成するために、有機層を前記パターン層上へ蒸着するステップと、
を含む、有機光起電力素子を製造する方法。 - 請求項3に記載の方法を用いて、パターン層を基板上に形成するステップと、
有機光起電力素子を形成するために、正孔注入材料を有する有機層を前記パターン層上に蒸着するステップと、
を含む、有機光起電力素子を製造する方法。 - 導電層を前記有機層上へ蒸着するステップを、
更に含む、請求項24又は請求項25に記載の有機光起電力素子を製造する方法。
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