JP2010531297A5 - - Google Patents
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Claims (19)
- 式3
式中、Aはアルコキシ基、アリールアルキルオキシ基、アリールオキシ基、アリールアルキル基、任意に置換されたアリール基または任意に置換されたヘテロアリール基を表し、Bは任意に置換されたアリール基または任意に置換されたヘテロアリール基を表し、かつR1およびR2は互いに独立して任意に置換されたアルキル基、アリールアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ハロアルキル基、任意に置換されたシクロアルキル基、任意に置換されたアルケニル基、任意に置換されたアルキニル基、任意に置換された複素環基、任意に置換されたアリール基、または任意に置換されたヘテロアリール基を表すが、R1およびR2は同じではなく、式中、R1およびR2に関連する不斉炭素原子における無水の立体配置が主にRである;
で表される鏡像異性体の豊富な化合物、あるいはその薬理学的に許容される塩、水和物、結晶形または非晶形であって、前記化合物が85%の鏡像異性体過剰率を有する、化合物。 - 少なくとも95%の鏡像異性体過剰率を有する請求項1に記載の化合物。
- 式中、Aは−OC(CH3)3、−OCH2Ph、任意に置換されたアリール基または任意に置換されたヘテロアリール基を表し、Bは任意に置換されたアリール基を表し、R1は任意に置換された(C1−C6)アルキル基、ヒドロキシ(C1−C4)アルキル基または任意に置換された(C2−C6)アルケニル基を表し、かつR2は任意に置換された(C1−C6)アルキル基、アリール(C1−C4)アルキル基、任意に置換された(C3−C7)シクロアルキル基または任意に置換されたアリール基を表す;
請求項1に記載の化合物。 - 式中、Aは
で表わされ;かつ
R3a、R3b、R3c、R3dおよびR3eは互いに独立して水素、ハロ基、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、アミノ基、任意に置換されたアルキル基、ハロアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アリールアルキル基、任意に置換されたシクロアルキル基、任意に置換されたアルケニル基、任意に置換されたアルキニル基、任意に置換されたアリール基、任意に置換されたヘテロアリール基、任意に置換された複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アリールアルキルオキシ基、アルキルチオ基、カルボキシアミド基、スルフォンアミド基、−CORc、−SO2Rd、−N(Re)CORf、−N(Re)SO2Rgまたは−N(Re)C=N(Rh)−アミノ基から選択され;または
R3aおよびR3bはまとまって、それらが付着する炭素原子と共に、シクロアルキル基または複素環基と融合した5、6、または7員環を形成するか;またはR3bおよびR3cはまとまって、それらが付着する炭素原子と共に、シクロアルキル基または複素環基と融合した5、6、または7員環を形成し;
R4a、R4b、R4c、R5a、R5b、R6a、R6b、およびR6cは互いに独立して水素、ハロ基、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、アミノ基、任意に置換されたアルキル基、ハロアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アリールアルキル基、任意に置換されたシクロアルキル基、任意に置換されたアルケニル基、任意に置換されたアルキニル基、任意に置換されたアリール基、任意に置換されたヘテロアリール基、任意に置換された複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アリールアルキルオキシ基、アルキルチオ基、カルボキシアミド基、スルフォンアミド基、−CORc、−SO2Rd、−N(Re)CORf、−N(Re)SO2Rgまたは−N(Re)C=N(Rh)−アミノ基から選択され;
XはOまたはSであり、
Bは
で表され;かつ
R3f、R3g、R3h、R3i、およびR3jは互いに独立して水素、ハロ基、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、アミノ基、任意に置換されたアルキル基、ハロアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アリールアルキル基、任意に置換されたシクロアルキル基、任意に置換されたアルケニル基、任意に置換されたアルキニル基、任意に置換されたアリール基、任意に置換されたヘテロアリール基、任意に置換された複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アリールアルキルオキシ基、アルキルチオ基、カルボキシアミド基、スルフォンアミド基、−CORc、−SO2Rd、−N(Re)CORf、−N(Re)SO2Rgまたは−N(Re)C=N(Rh)−アミノ基から選択され;または
R3fおよびR3gはまとまって、それらが付着する炭素原子と共に、シクロアルキル基または複素環基と融合した5、6、または7員環を形成するか;またはR3gおよびR3hはまとまって、それらが付着する炭素原子と共に、シクロアルキル基または複素環基と融合した5、6、または7員環を形成し;
式中、
Rcは水素、ヒドロキシ基、ハロアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アリールアルキル基、任意に置換されたアルキル基、任意に置換されたシクロアルキル基、任意に置換されたアルケニル基、任意に置換されたアルキニル基、任意に置換された複素環基、任意に置換されたアリール基、任意に置換されたヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、またはアリールアルキルオキシ基を表し;
Rdはハロアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アリールアルキル基、任意に置換されたアルキル基、任意に置換されたシクロアルキル基、任意に置換されたアルケニル基、任意に置換されたアルキニル基、任意に置換された複素環基、任意に置換されたアリール基または任意に置換されたヘテロアリール基を表し;
Reは水素、ハロアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アリールアルキル基、任意に置換されたアルキル基、任意に置換されたシクロアルキル基、任意に置換されたアルケニル基、任意に置換されたアルキニル基、任意に置換された複素環基、任意に置換されたアリール基または任意に置換されたヘテロアリール基を表し;
Rfは水素、ハロアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アリールアルキル基、任意に置換されたアルキル基、任意に置換されたシクロアルキル基、任意に置換されたアルケニル基、任意に置換されたアルキニル基、任意に置換された複素環基、任意に置換されたアリール基、任意に置換されたヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アリールアルキルオキシ基、またはアミノ基を表し;
Rgはハロアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アリールアルキル基、任意に置換されたアルキル基、任意に置換されたシクロアルキル基、任意に置換されたアルケニル基、任意に置換されたアルキニル基、任意に置換された複素環基、任意に置換されたアリール基、任意に置換されたヘテロアリール基、またはアミノ基を表し;
Rhは水素、アルキル基、アリール基、シアノ基、またはニトロ基を表す;
請求項3に記載の化合物。 - 式中、R1は(C1−C6)アルキル基、ヒドロキシ(C1−C4)アルキル基、または(C2−C4)アルケニル基を表し;かつ
R2は任意に置換された(C1−C6)アルキル基を表す;
請求項4に記載の化合物。 - (R)−N’−(1−tert−ブチル−ブチル)−N’−(3,5−ジメチル−ベンゾイル)−ヒドラジンカルボン酸ベンジルエステル;
(R)−N’−(1−tert−ブチル−ブチル)−N’−(3,5−ジメチル−ベンゾイル)−ヒドラジンカルボン酸tert−ブチルエステル;
(R)−N’−(1−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−ブチル)−N’−(3,5−ジメチル−ベンゾイル)−ヒドラジンカルボン酸ベンジルエステル;
(R)−3,5−ジメチル−安息香酸N−(1−tert−ブチル−ブチル)−N’−(2−エチル−3−メトキシ−ベンゾイル)−ヒドラジド;
(R)−3,5−ジメチル−安息香酸N’−ベンゾイル−N−(1−tert−ブチル−ブチル)−ヒドラジド;
(R)−3,5−ジメチル−安息香酸N−(1−tert−ブチル−ブチル)−N’−(2−メチル−ベンゾイル)−ヒドラジド;
(R)−3,5−ジメチル−安息香酸N−(1−tert−ブチル−ブチル)−N’−(2−メトキシ−ベンゾイル)−ヒドラジド;
(R)−3,5−ジメチル−安息香酸N−(1−tert−ブチル−ブチル)−N’−(2−フルオロ−ベンゾイル)−ヒドラジド;
(R)−3,5−ジメチル−安息香酸N−(1−tert−ブチル−ブチル)−N’−(2−クロロ−ベンゾイル)−ヒドラジド;
(R)−3,5−ジメチル−安息香酸N’−(2−ブロモ−ベンゾイル)−N−(1−tert−ブチル−ブチル)−ヒドラジド;
(R)−3,5−ジメチル−安息香酸N−(1−tert−ブチル−ブチル)−N’−(3−メチル−ベンゾイル)−ヒドラジド;
(R)−3,5−ジメチル−安息香酸N−(1−tert−ブチル−ブチル)−N’−(3−メトキシ−ベンゾイル)−ヒドラジド;
(R)−3,5−ジメチル−安息香酸N−(1−tert−ブチル−ブチル)−N’−(3−クロロ−ベンゾイル)−ヒドラジド;
(R)−3,5−ジメチル−安息香酸N−(1−tert−ブチル−ブチル)−N’−(4−メチル−ベンゾイル)−ヒドラジド;
(R)−3,5−ジメチル−安息香酸N−(1−tert−ブチル−ブチル)−N’−(4−エチル−ベンゾイル)−ヒドラジド;
(R)−3,5−ジメチル−安息香酸N−(1−tert−ブチル−ブチル)−N’−(4−メトキシ−ベンゾイル)−ヒドラジド;
(R)−3,5−ジメチル−安息香酸N−(1−tert−ブチル−ブチル)−N’−(4−クロロ−ベンゾイル)−ヒドラジド;
(R)−3,5−ジメチル−安息香酸N−(1−tert−ブチル−ブチル)−N’−(2,6−ジフルオロ−ベンゾイル)−ヒドラジド;
(R)−3,5−ジメチル−安息香酸N−(1−tert−ブチル−ブチル)−N’−(2,6−ジクロロ−ベンゾイル)−ヒドラジド;
(R)−3,5−ジメチル−安息香酸N−(1−tert−ブチル−ブチル)−N’−(3,4−ジメトキシ−ベンゾイル)−ヒドラジド;
(R)−3,5−ジメチル−安息香酸N−(1−tert−ブチル−ブチル)−N’−(3,5−ジフルオロ−ベンゾイル)−ヒドラジド;
(R)−3,5−ジメチル−安息香酸N−(1−tert−ブチル−ブチル)−N’−(3,5−ジメトキシ−4−メチル−ベンゾイル)−ヒドラジド;
(R)−3,5−ジメチル−安息香酸N−(1−tert−ブチル−ブチル)−N’−(4−メチル−ベンゾ[1,3]ジオキソール−5−カルボニル)−ヒドラジド;
(R)−3,5−ジメチル−安息香酸N−(1−tert−ブチル−ブチル)−N’−(5−メチル−2,3−ジヒドロ−ベンゾ[1,4]ジオキシン−6−カルボニル)−ヒドラジド;
(R)−3,5−ジメチル−安息香酸N−(1−tert−ブチル−ブチル)−N’−(5−エチル−2,3−ジヒドロ−ベンゾ[1,4]ジオキシン−6−カルボニル)−ヒドラジド;
(R)−3,5−ジメチル−安息香酸N−(1−tert−ブチル−ブチル)−N’−(ナフタレン−1−カルボニル)−ヒドラジド;
(R)−3,5−ジメチル−安息香酸N−(1−tert−ブチル−ブチル)−N’−(ナフタレン−2−カルボニル)−ヒドラジド;
(R)−3,5−ジメチル−安息香酸N−(1−tert−ブチル−ブチル)−N’−(チオフェン−2−カルボニル)−ヒドラジド;
(R)−3,5−ジメチル−安息香酸N−(1−tert−ブチル−ブチル)−N’−(2,5−ジメチル−フラン−3−カルボニル)−ヒドラジド;
(R)−3,5−ジメチル−安息香酸N−(1−tert−ブチル−ブチル)−N’−(2−クロロ−ピリジン−3−カルボニル)−ヒドラジド;
(R)−3,5−ジメチル−安息香酸N−(1−tert−ブチル−ブチル)−N’−(6−クロロ−ピリジン−3−カルボニル)−ヒドラジド;
(R)−3,5−ジメチル−安息香酸N−(1−tert−ブチル−ブチル)−N’−(3−メトキシ−2−メチル−ベンゾイル)−ヒドラジド;
(R)−3,5−ジメトキシ−4−メチル−安息香酸N−(1−tert−ブチル−ブチル)−N’−(3−メトキシ−2−メチル−ベンゾイル)−ヒドラジド;または
(R)−3,5−ジメチル−安息香酸N’−(4−エチル−ベンゾイル)−N−(1−フェネチル−ブト−3−エニル)−ヒドラジド
から選択される請求項1に記載の化合物。 - 少なくとも95%の鏡像異性体過剰率を有する(R)−3,5−ジメチル−安息香酸N−(1−tert−ブチル−ブチル)−N’−(2−エチル−3−メトキシ−ベンゾイル)−ヒドラジド、またはその薬理学的に許容される塩、水和物、結晶形または非晶形。
- 請求項1〜8のいずれか1項に記載の化合物と薬理学的に許容される担体とを含む医薬組成物。
- 式4
式中、Aはアリールアルキル基、任意に置換されたアリール基または任意に置換されたヘテロアリール基を表し、Bは任意に置換されたアリール基または任意に置換されたヘテロアリール基を表し、R2は任意に置換されたアルキル基、アリールアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ハロアルキル基、任意に置換されたシクロアルキル基、任意に置換されたアルケニル基、任意に置換されたアルキニル基、任意に置換された複素環基、任意に置換されたアリール基または任意に置換されたヘテロアリール基を表すが、R2は−CR8R9CHR10CR11R12と同じではなく、かつR8、R9、R10、R11、およびR12は互いに独立して水素、アルキル基、シクロアルキル基、複素環基、アリール基またはヘテロアリール基から選択され、式中、R2が付着する不斉炭素原子はRまたはS異性体のどちらかの鏡像異性体が豊富である;
で表される化合物を調製するための方法であって、
a)式5
で表される化合物と式6
R2HC=N−NH−CO2R7 式6
式中、XおよびYは互いに独立してO、あるいはRがアルキル基またはアリール基のNRであり、CaおよびCbは互いに独立してS立体配置の不斉炭素原子またはR立体配置の不斉炭素原子であり、R14およびR15は互いに独立してアルキル基またはアリール基であり、R13はハロ基、水素、アルキル基、アルコキシ基またはOSO2CF3であり、R7はアルキル基、アリールアルキル基またはアリール基であり、かつR2、R8、R9、R10、R11、およびR12は上記と同じ意味である;
で表される化合物を、式7
で表される化合物を形成するために反応させる工程と、
b)式8
で表される化合物を形成するため、式7で表される化合物を還元する工程と、
c)式9
で表される化合物を形成するため、式8で表される化合物を、式B−CO−LGで表され、LGが脱離基である化合物と反応させる工程と、
d)式10
で表される化合物を形成するため、式9で表される化合物のR7CO2−残基を除去する工程、および
e)式4で表される化合物を形成するため、式10で表される化合物を、式A−CO−LGで表され、LGが脱離基である化合物と反応させる工程とを含む方法。 - 式中、
R8、R9、R10、R11、およびR12が水素であり;
XがNRであり、かつRがメチル基であり;
YがOであり;
R 14 がメチル基であり;
R 15 がフェニル基であり;
C a およびC b のそれぞれがS立体配置であり;
Bが3,5−ジ−メチルフェニル基であり;
Aが2−エチル−3−メトキシフェニル基であり;
R 2 がtert−ブチル基である;
請求項10に記載の方法。 - ホスト細胞内で対象の遺伝子の発現を調節する方法であって、前記ホスト細胞が
i)DNA結合ドメイン、および
ii)グループH核内受容体リガンド結合ドメイン
を含む第1のポリペプチドをコードする第1のポリヌクレオチドを含む第1の組み換え遺伝子発現カセット、および
i)該DNA結合ドメインに結合可能な反応エレメント
ii)プロモーター、および
iii)該対象の遺伝子
を含む第2の組み換え遺伝子発現カセットを含み、
該方法が該ホスト細胞を請求項1〜8のいずれか1項に記載の化合物と接触させる工程を含み、ここで該対象の遺伝子の発現が調節される方法。 - トランスジェニック被験体における内在性または異種性遺伝子発現を調節するための組成物であって、当該組成物が有効量の請求項1ないし8のいずれか1項に記載の化合物を含み、前記被験体の細胞がエクジソン受容体複合体と、当該エクジソン受容体複合体に対するDNA結合配列とを含む組成物。
- 該被験体が植物である、請求項13に記載の組成物。
- 該被験体がヒトである、請求項13に記載の組成物。
- 前記細胞が自己細胞であり、当該自己細胞が前記エクジソン受容体複合体および該エクジソン複合体に対する前記DNA結合配列を含み、かつ前記細胞が前記被験体をトランスジェニックにするため前記被験体内へ移植される、請求項13に記載の組成物。
- トランスジェニック被験体におけるトランス遺伝子発現を調節するための組成物であって、ここで前記トランスジェニック被験体がトランス遺伝子発現の調節が可能な組み換えエクジソン受容体複合体を含み、前記組成物が有効量の請求項1〜8のいずれか1項に記載の化合物を含む組成物。
- ホスト細胞内で遺伝子発現を調節する方法であって、
(a)前記ホスト細胞内に遺伝子発現調節システムを導入する工程であって、該システムが
(i)前記ホスト細胞内で発現可能な第1の組み換え遺伝子発現カセットであって、
(a)その発現が調節されるべき遺伝子に結合する反応エレメントを認識するDNA結合ドメイン、および
(b)エクジソン受容体リガンド結合ドメイン
を含む第1のハイブリッドポリペプチドをコードするポリヌクレオチド配列を含む、該第1の組み換え遺伝子発現カセット、
(ii)前記ホスト細胞内で発現可能な第2の組み換え遺伝子発現カセットであって、
(a)トランス活性化ドメイン、および
(b)キメラレチノイドX受容体リガンド結合ドメイン
を含む第2のハイブリッドポリペプチドをコードするポリヌクレオチド配列を含む、該第2の組み換え遺伝子発現カセット、および
(iii)前記ホスト細胞内で発現可能な第3の組み換え遺伝子発現カセットであって、
(a)前記第1のハイブリッドポリペプチドのDNA結合ドメインにより認識される反応エレメント、
(b)前記第2のハイブリッドポリペプチドのトランス活性化ドメインにより活性化されるプロモーター、および
(c)その発現が調節されるべき遺伝子
を含むポリヌクレオチド配列を含む、該第3の組み換え遺伝子発現カセットを含む工程、および
(b)前記ホスト細胞内に請求項1〜8のいずれか1項に記載の化合物を導入する工程を具え、前記ホスト細胞内の前記遺伝子発現が調節される方法。 - ポリペプチドを産生するための方法であって、
(a)請求項1〜8のいずれか1項に記載の化合物への曝露に実質的に非感受性であるホスト細胞を選択する工程、
(b)前記ホスト細胞内へ
(i)DNAコンストラクトであって、
(a)前記ポリペプチドをコードする外因性遺伝子、および
(b)反応エレメント
を含み、前記外因性遺伝子が前記反応エレメントの制御下にあるコンストラクト、および
(ii)エクジソン受容体複合体であって、
a)前記反応エレメントに結合するDNA結合ドメイン、
b)前記化合物の結合ドメイン、
c)トランス活性化ドメインを含む複合体、を導入する工程、および
(c)前記化合物へ前記細胞を曝露する工程を具え、前記ポリペプチドが産生される方法。
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