JP2010530027A - 平板状ではないワークを選択的に表面処理するための方法 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (15)
- 第1のワーク(1)の上面(4)及び/又は下面(5)の少なくとも1つの金属化された領域(3)において、第1のワーク(1)を選択的に表面処理するための方法であって、第1のワーク(1)に、少なくとも1つの別のワーク(2)を、前記上面(4)及び下面(5)の一方において、少なくとも部分領域で、外部に対してシールするように解離可能に互いに結合させ、1つの処理段階で、前記結合によりカバーされていない領域を選択的に表面処理する形式のものにおいて、
少なくとも第1のワーク(1)を平板状に形成せず、少なくとも一方の側で、全面的に又は部分面的に、同様に又は異なるように金属化された又は金属化されていない領域(3)又は中空室又はこれらの組み合わせを設け、選択的表面処理の際に、少なくとも1つの別の金属的なコーティング又は別の金属的な被覆を取り付けることを特徴とする、選択的に表面処理するための方法。 - ワーク(1,2)の上面(4)及び下面(5)を、それぞれ異なる大きさの表面積を有するように形成する、請求項1記載の方法。
- 第1のワーク(1)の上記面の一方及び/又は別のワーク(2)の上記面の一方に偏平な表面を形成する、請求項1又は2記載の方法。
- 第1のワーク(1)に結合される少なくとも1つの別のワーク(2)を平板状に形成する、請求項1から3までのいずれか1項記載の方法。
- 選択的表面処理を、少なくとも1つの金属化された層における化学的及び/又は電気的な析出又はこれらの組み合わせによって行う、請求項1から4までのいずれか1項記載の方法。
- シールし、かつ再び解離可能な、第1のワーク(1)と少なくとも1つの別のワーク(2)との結合を、これにより第1のワーク(1)の少なくとも一方の表面が全面的に、又は部分的に、結合によりカバーされるように行う、請求項1から5までのいずれか1項記載の方法。
- ワーク(1,2)の少なくともいくつかを、金属、セラミック、ポリマ、又はこれらの組み合わせから製造する、請求項1から6までのいずれか1項記載の方法。
- 少なくとも第1のワーク(1)が、実装された又は実装されていない、導電性でないまたはほぼ導電性でない回路支持体であって、少なくとも1つの全面的な又は部分面的な金属被覆部(3)が少なくとも1つの表面に支持されている、請求項1から7までのいずれか1項記載の方法。
- 少なくとも第1のワーク(1)が、又は有利には別のワーク(2)も、セラミック・金属基板である、請求項1から8までのいずれか1項記載の方法。
- 少なくとも第1のワーク(1)の一個所に金属被覆部(3)を設け、該金属被覆部(3)をDCB(direct copper bonding / 直接的銅ボンディング)法又はAMB(active metal brazing / アクティブはんだ付け)法によってワーク(1,2)に結合する、請求項1から9までのいずれか1項記載の方法。
- 第1のワーク(1)と少なくとも1つの別のワーク(2)との再び解離可能な結合のために、フレーム状の又は平板状の結合部材を使用し、該結合部材は、第1のワーク(1)のカバーすべき表面のネガ輪郭に相応しており、前記結合部材に、別のワーク(2)を、付着性及び/又は接着性及び/又はシール性の材料を使用して、及び/又は負圧を使用して保持する、請求項1から10までのいずれか1項記載の方法。
- 同じ又は異なる選択的表面処理を、時間的に連続する複数の処理段階で行い、選択的表面処理の各処理段階の前に、両ワーク(1,2)を、処理すべきではない表面側で互いに密に結合させる、請求項1から11までのいずれか1項記載の方法。
- エッチングプロセスのような除去プロセスも含む、同じ又は異なる選択的表面処理の時間的に連続する複数の処理段階を、カバーされていない領域で行う、請求項1から12までのいずれか1項記載の方法。
- ワーク(1,2)を形状的に相応に配置することにより、同時的又は選択的に、少なくとも2つの異なる選択的表面処理を行う、請求項1から13までのいずれか1項記載の方法。
- 少なくとも1つのワーク(1,2)がセラミックのヒートシンクである、請求項1から14までのいずれか1項記載の方法。
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