JP2010514167A - 基板プロセス装置および方法 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図1
Description
本発明は、国防高等研究計画局(DARPA)から与えられた取り決めHR0011−06−3−0008に基づく政府の支援と共になされた。政府は本発明において所定の権利を有する。
(関連技術の相互参照)
本出願は、2007年、2月2日に出願の米国特許出願番号第11/670,896号の優先権の利益を主張し、この出願は、2006年12月18日に出願の同時係属中の仮特許出願番号第60/870,528号からの優先権の利益を主張し、それらの開示全体は引用することで本明細書において援用される。本出願は、2007年7月9日に出願の同時係属中の仮特許出願番号第60/948,667号の優先権の利益を主張し、その開示全体は引用することで本明細書において援用される。
Claims (110)
- 基板プロセス装置であって、
支持構造と、
第1のステージおよび第2のステージを有する可動式ステージとを備え、
前記第1のステージは1つ以上の基板を保持するように適合され、
前記第1のステージは前記第2のステージに対して略固定された位置および方向を有する第1の軸に対して移動するように適合され、
前記第2のステージは第2の軸に沿って前記支持構造に対して移動するように適合され、前記可動式ステージはまた、前記第1のステージおよび/または前記第1のステージの端部に隣接する前記第2のステージに取り付けられた1つ以上の磁気浮上(マグレブ)ユニットを有する、基板プロセス装置。 - 前記第1のステージは回転ステージであり、前記第2のステージはリニア平行移動ステージであり、
前記回転ステージは1つ以上の基板を保持するように適合され、
前記回転ステージは前記リニア平行移動ステージに対して略固定された位置および方向を有する回転軸周囲を回転するように適合され、
前記リニア平行移動ステージは平行移動軸に沿って前記支持構造に対して移動するように適合され、前記可動式ステージはまた、前記回転ステージおよび/または前記回転ステージの端部に隣接する平行移動ステージに取り付けられた1つ以上の磁気浮上(マグレブ)ユニットを有する、請求項1に記載の装置。 - 前記マグレブユニットは前記リニア平行移動ステージに実装される1つ以上の回転ステージマグレブユニットを備え、
前記装置は、前記回転ステージの周辺に取り付けられた前記回転軸と同軸の強磁性体リングをさらに備え、
前記マグレブユニットは力を前記強磁性体リングに付与するように構成される、請求項2に記載の装置。 - 前記回転ステージマグレブユニットは、垂直方向の力を前記強磁性体リングに付与するように適合された、1つ以上の回転ステージ垂直マグレブユニットを備える、請求項3に記載の装置。
- 前記マグレブユニットは、前記平行移動ステージを前記支持構造から浮遊させるように適合された1つ以上の平行移動ステージ垂直マグレブユニットを備える、請求項4に記載の装置。
- 前記支持構造は、前記可動式ステージを含むチャンバの蓋である、請求項5に記載の装置。
- 前記平行移動ステージ垂直マグレブユニットは、対応の回転ステージ垂直マグレブと近接した構成にて配置される、請求項5に記載の装置。
- 前記磁気浮上ユニットは前記平行移動ステージに取り付けられた1つ以上の回転ステージの半径方向のマグレブユニットを備え、前記回転ステージの半径方向のマグレブユニットは半径方向において、力を前記強磁性体リングに付与するように適合される、請求項3に記載の装置。
- 前記半径方向のマグレブユニットは、前記回転軸および前記平行移動軸の両方に対して直交するY方向において、力を前記強磁性体リングに付与するように適合された1つ以上のY半径方向のマグレブユニットを含む、請求項8に記載の装置。
- 前記Y方向において、力を前記平行移動ステージに付与するように適合された1つ以上の平行移動ステージのYマグレブユニットをさらに備える、請求項9に記載の装置。
- 前記平行移動ステージのYマグレブユニットは、対応の回転ステージのYマグレブユニットと近接した構成にて配置される、請求項10に記載の装置。
- 前記回転ステージは、磁気的に透明な材料からなる、請求項2に記載の装置。
- 計測対照フレームに対する、前記回転ステージおよび/またはリニアステージおよび/または基板処理ツールの位置における変化を検知するように適合された1つ以上の干渉計をさらに備える、請求項2に記載の装置。
- 前記計測対照フレームは、前記可動式ステージを含むチャンバの蓋に固定される、請求項13に記載の装置。
- 1つ以上の干渉計は1つ以上の微分干渉計を備える、請求項14に記載の装置。
- 前記1つ以上の干渉計は、光源と光学センサとの間における1つ以上の光学経路に沿って配置された干渉計を備え、前記1つ以上の光学経路は参照ビーム経路および測定ビーム経路を備え、
前記測定ビーム経路は、前記チャンバの蓋に実装された第1の参照ミラーと、前記回転ステージ、前記平行移動ステージ、または前記支持構造に対して略固定された位置にある、基板処理ツールに実装された第2の参照ミラーとの間における一部分を備える、請求項14に記載の装置。 - 前記第1の参照ミラーは前記平行移動軸および前記回転軸に平行に方向付けられたY参照ミラーである、請求項16に記載の装置。
- 前記1つ以上の干渉計は前記平行移動ステージに実装された干渉計を備え、
前記第2の参照ミラーは前記回転ステージに取り付けられた円柱状ミラーであり、
前記円柱状ミラーは前記回転軸に略同軸である円柱状反射表面を有する、請求項17に記載の装置。 - 前記円柱状反射表面は前記回転ステージの周辺に位置される、請求項18に記載の装置。
- 前記円柱状反射表面は前記回転ステージの半径よりも短い半径を有する、請求項18に記載の装置。
- 前記平行移動ステージに実装された前記干渉計は、ビームスプリッタと前記円柱状ミラーとの間に配置される波面補正光学装置を備え、前記波面補正光学装置は、前記円柱状反射表面において、前記測定ビームから光の反射を補正するように構成される、請求項18に記載の装置。
- 前記波面補正光学装置は、前記回転軸において、前記ビームスプリッタから平行光の焦点を合わせるように適合される、請求項21に記載の装置。
- 前記波面補正光学装置は、前記円柱状反射表面において、前記ビームスプリッタから平行光の焦点を合わせるように適合される、請求項21に記載の装置。
- 前記第1の参照ミラーは、前記回転軸に対して直交する方向に向けられたZ参照ミラーである、請求項16に記載の装置。
- 前記1つ以上の干渉計は、前記平行移動ステージに実装された干渉計を備え、
前記第2の参照ミラーは前記回転ステージに取り付けられるか、またはその一部であり、
前記第2の参照ミラーは前記回転軸に対して略直交する反射表面を備える、請求項24に記載の装置。 - 前記回転ステージによって支持された1つ以上の基板を処理するように適合された基板処理ツールをさらに備え、
光学カラムは、前記支持構造に対して略固定された位置にある、請求項2に記載の装置。 - 前記基板処理ツールは電子ビームの光学カラムを備える、請求項26に記載の装置。
- 前記回転ステージに取り付けられた中心回転子および前記リニアステージに取り付けられた固定子をさらに備え、
前記回転子および前記固定子は前記回転軸の周囲にある前記回転ステージに回転運動を分与するように適合され、
前記回転子および前記固定子は、前記回転ステージの重さを支持するように構成される、請求項2に記載の装置。 - 前記回転子および固定子は、前記回転子上の前記固定子によってもたらされた磁力が前記回転ステージの重さの全てまたは殆どを支持するのに十分であるように構成される、請求項28に記載の装置。
- 前記第1のステージは第1の平行移動ステージであり、前記第2のステージは第2の平行移動ステージであり、
前記第1の平行移動ステージは1つ以上の基板を保持するように適合され、
前記第1の平行移動ステージは前記第2の平行移動ステージに対して略固定された位置および方向を有する第1の軸に対して直線的に移動するように適合され、
前記第2の平行移動ステージは、前記第1の軸に対して傾いている第2の軸に沿って前記支持構造に対して平行移動するように適合され、
前記1つ以上の磁気浮上(マグレブ)ユニットは、前記第1の平行移動ステージおよび/または前記第1の平行移動ステージの端部に隣接する前記第2の平行移動ステージに取り付けられ、
前記マグレブユニットは、前記第1の平行移動ステージと前記第2の平行移動ステージとの間において磁力をもたらすように適合される、請求項1に記載の装置。 - 前記支持構造は前記X−Yステージを含むチャンバの蓋である、請求項30に記載の装置。
- 前記マグレブユニットは、前記第2の軸に平行する方向に沿って、前記第1の平行移動ステージと前記第2の平行移動ステージとの間に力を付与するように構成される1つ以上のマグレブユニットを備える、請求項30に記載の装置。
- 前記マグレブユニットは、前記第1および第2の軸に直交する方向において、前記第1の平行移動ステージと前記第2の平行移動ステージとの間に力を付与するように適合された1つ以上の垂直マグレブユニットを備える、請求項30に記載の装置。
- 前記マグレブユニットは、前記第1および第2の軸に直交する方向において、前記支持構造と前記第2の平行移動ステージとの間に力を付与することによって、前記支持構造から前記第2の平行移動ステージを浮遊させるように適合された1つ以上の垂直マグレブユニットを備える、請求項30に記載の装置。
- 前記支持構造は前記可動式ステージを含むチャンバの蓋である、請求項34に記載の装置。
- 前記第1および/または第2の平行移動ステージは磁気的に透明な材料からなる、請求項30の装置。
- 前記第1の平行移動ステージおよび/または第2の平行移動ステージおよび/または前記支持構造に対して略固定された、光学カラムの位置における変化を検知するように適合され、かつ計測対照フレームに対して、前記第1の平行移動ステージによって支持される1つ以上の基板へ放射を向けるように適合された、1つ以上の干渉計をさらに備える、請求項30に記載の装置。
- 前記計測対照フレームは、前記可動式ステージを含むチャンバの蓋に固定される、請求項37に記載の装置。
- 1つ以上の干渉計が1つ以上の微分干渉計を含む、請求項37に記載の装置。
- 前記1つ以上の干渉計は、光源と光学センサとの間における1つ以上の光学経路に沿って配置された干渉計を備え、前記1つ以上の光学経路は、参照ビーム経路および測定ビーム経路を備え、
前記測定ビーム経路は、前記チャンバの蓋に実装される第1の参照ミラーと、前記回転ステージ、前記平行移動ステージ、または基板処理ツールに実装される第2の参照ミラーとの間の一部分を備える、請求項37に記載の装置。 - 前記第1の参照ミラーは、前記第1および第2の軸と略平行に向けられたZ参照ミラーである、請求項40に記載の装置。
- 前記1つ以上の干渉計は、前記第2の平行移動ステージに実装された干渉計を備え、
前記第2の参照ミラーは前記第1の平行移動ステージに取り付けられ、
前記第2の参照ミラーは前記第1および第2の軸に対して略直交する反射表面を備える、請求項41に記載の装置。 - 前記第1の平行移動ステージによって支持された1つ以上の基板を処理するように適合された基板処理ツールをさらに備え、
前記光学カラムは、前記支持構造に対して略固定された位置にある、請求項30に記載の装置。 - 前記基板処理ツールは電子ビームの光学カラムを備える、請求項43に記載の装置。
- 支持構造と、
回転ステージおよびリニア平行移動ステージを有する回転−リニアステージであって、
前記回転ステージは複数の基板を保持するように適合され、
前記回転ステージは、前記リニア平行移動ステージに対して、略固定された位置および方向を有する回転軸の周囲を、連続した動きで回転するように適合され、
前記リニア平行移動ステージは平行移動軸に沿って、前記支持構造に対して移動するように適合される、回転−リニアステージと、
前記支持構造に対して略固定された位置にある、リソグラフィ、検査、または計測ツールと、
前記ツールに対する前記基板の位置を、所望の位置から10ナノメートル以内に制御するように適合される制御システムと
を備える、基板プロセス装置。 - 前記リソグラフィ、検査、または計測ツールは電子ビームの光学カラムを備える、請求項45に記載の装置。
- 前記制御システムは、前記回転ステージ、1つ以上の前記基板、および/または前記電子ビームの位置を検知するように適合される1つ以上のセンサを含み、
前記制御システムは、前記支持構造に対する前記回転ステージの位置を調節するように適合された1つ以上のアクチュエータを備え、
前記電子ビームの光学カラムは、ビーム偏向機構を備え、
前記制御システムは、前記1つ以上のアクチュエータに結合されたステージコントローラおよび前記ビーム偏向機構に結合されたビームコントローラを備え、
前記ステージコントローラは、ビーム−基板位置誤差の低周波数成分を補正するように適合され、前記ビーム偏向機構は前記ビーム−基板位置誤差の高周波数成分を補正するように適合される、請求項46に記載の装置。 - 前記回転ステージに取り付けられた中心回転子および前記リニアステージに取り付けられた固定子をさらに備え、
前記回転子および前記固定子は前記回転軸の周囲にある前記回転ステージに回転運動を分与するように適合され、
前記回転子および前記固定子は、前記回転ステージの重さを支持するように構成される、請求項45に記載の装置。 - 前記回転子および固定子は、前記回転子上の前記固定子によってもたらされた磁力が前記回転ステージの重さの全てまたは殆どを支持するのに十分であるように構成される、請求項48に記載の装置。
- 回転ステージ上に複数の基板を保持することと、
前記回転ステージを、リニア平行移動ステージに対して略固定された位置および方向を有する回転軸の周囲を連続した動きで回転させることと、
平行移動軸に沿って支持構造に対して前記リニア平行移動ステージを平行移動させることと、
前記支持構造に対して略固定された位置にあるリソグラフィ、検査、または計測ツールを用いて前記基板を処理することと、
前記ツールに対する前記基板の位置を、所望の位置から10ナノメートル以内に制御することと
を含む、基板処理方法。 - 前記ツールに対する前記基板の位置を制御することは、前記回転ステージに取り付けられた中心回転子および前記リニアステージに取り付けられた固定子を用いて、前記回転ステージの重さを支持することを含む、請求項50に記載の方法。
- 前記回転ステージの重さを支持することは、前記回転ステージの重さの全てまたはその殆どを支持するために、前記回転子と前記固定子との間の磁力を用いることを含む、請求項51に記載の方法。
- キャリアステージと、
1つ以上の基板を保持するように適合され、前記ステージに対して略固定された位置および方向を有する回転軸の周囲を、前記キャリアステージに対して回転するように適合された、回転ステージと、
所望の角速度にて前記回転ステージを維持するように適合され、および/または第1の角速度から第2の角速度へ、前記回転ステージを回転加速または回転減速するように適合された第1のモータと、
静止状態から前記第1の角速度へ、前記回転ステージを回転加速するように適合され、および/または、ゼロではない角速度から停止へ、前記回転ステージを回転減速するように適合された第2のモータと
を備える、基板プロセス装置。 - 前記第1のモータは、前記ステージに取り付けられた固定子および前記回転ステージに取り付けられた回転子を有する電気モータである、請求項53に記載の装置。
- 前記第2のモータは、前記ステージに取り付けられた固定子を有する電気モータであり、回転子および係合機構は、前記回転ステージまたは前記第1のモータの前記回転子に、前記第2のモータの前記回転子を選択的に係合するように構成される、請求項54に記載の装置。
- 前記係合機構は摩擦駆動を備える、請求項55に記載の装置。
- 前記摩擦駆動は、前記回転ステージを、前記回転ステージの縁に隣接して係合するように構成される、請求項56に記載の装置。
- 前記係合機構は、前記第2のモータのシャフトに取り付けられたクラッチプレートを備え、前記クラッチプレートおよび前記第1のモータの回転子は、相互に選択的な機械的係合のために構成される、請求項55に記載の装置。
- 前記係合機構は、前記クラッチプレート上の第1の接面および前記第1の回転子の回転子上の第2の接面を備える、請求項58に記載の装置。
- 前記係合機構は、前記第1および第2の接面を係合するために、前記クラッチプレートと前記第1のモータの前記回転子との間に相対的な軸方向運動を分与するように構成される、請求項59に記載の装置。
- 前記第1および第2の接面の一方が突起部を備え、前記第1および第2の接面の他方が、対応の凹部を備える、請求項59に記載の装置。
- 前記第1および第2のモータは、前記突起部と前記凹部とを係合するために、前記第1および第2の接面を互いに角度的に調整するように構成される、請求項59に記載の装置。
- 前記第1のモータおよび前記第2のモータは前記回転軸の周囲を回転するように構成される、請求項54に記載の装置。
- 前記第2のモータの前記回転子は前記回転ステージに取り付けられた導電性リングを備え、
前記導電性リングは前記回転軸と同軸であり、
前記第2のモータの前記固定子は、前記導電性リングにおいて、渦電流を誘発する回転磁気フラックスを生成するように構成され、
前記渦電流と前記回転フラックスとの間の作用が前記導電性リング上にトルクをもたらす、請求項63に記載の装置。 - 前記第1のモータは相対的に低いトルクリップルによって特徴付けられ、前記第2のモータは、前記第1のモータと比較して相対的に高いトルクリップルによって特徴付けられる、請求項53に記載の装置。
- 支持構造をさらに備え、
前記キャリアステージは、平行移動軸に沿って、前記支持構造に対して平行移動するように適合されたリニア平行移動ステージであり、前記回転ステージは、前記リニア平行移動ステージに沿って、前記支持構造に対して平行移動する、請求項53に記載の装置。 - 前記第1のモータは、前記キャリアステージに取り付けられた固定子および前記回転ステージに取り付けられた回転子を有する電気モータである、請求項66に記載の装置。
- 前記回転子および固定子は、前記回転子上の前記固定子によってもたらされた磁力が、前記回転ステージの重さの全てまたはその殆どを支持するのに十分である、請求項67に記載の装置。
- 前記第2のモータは前記支持構造に取り付けられ、前記装置は、前記第2のモータを、前記回転ステージまたは前記第1のモータの前記回転子に選択的に係合するように構成された係合機構をさらに備える、請求項67に記載の装置。
- 前記係合機構は磁気クラッチを備える、請求項69に記載の装置。
- 前記支持構造は、前記キャリアステージ、または前記キャリアステージおよび前記回転ステージを含むチャンバの蓋を支持するステージ基部である、請求項66に記載の装置。
- 前記回転ステージ、および/または前記回転ステージの端部に隣接する平行移動ステージに取り付けられた1つ以上の磁気浮上(マグレブ)ユニットをさらに備える、請求項66に記載の装置。
- 計測対照フレームに対する、前記回転ステージおよび/またはキャリアステージおよび/または基板処理ツールの位置における変化を検知するように適合された1つ以上のセンサをさらに備える、請求項53に記載の装置。
- 前記計測対照フレームは、前記キャリアステージ、および前記回転ステージ、または前記キャリアステージおよび回転ステージを含むチャンバを支持する基部に対して固定される、請求項73に記載の装置。
- 1つ以上のセンサは1つ以上の微分干渉計を含む、請求項73に記載の装置。
- 支持構造と、
回転ステージおよびリニア平行移動ステージを有する回転−リニアステージであって、
前記回転ステージは複数の基板を保持するように適合され、
前記回転ステージは、前記リニア平行移動ステージに対して、略固定された位置および方向を有する回転軸の周囲を、持続する運動にて回転するように適合され、
前記リニア平行移動ステージは平行移動軸に沿って、前記支持構造に対して平行移動するように適合される、回転−リニアステージと、
所望の角速度にて前記回転ステージを維持し、および/または第1の角速度から第2の角速度へ、前記回転ステージを加速または減速するように適合される第1のモータと、
静止状態から前記第1の角速度へ、前記回転ステージを加速し、および/またはゼロではない角速度から停止状態へ、前記回転ステージを減速するように適合される第2のモータと、
前記支持構造に対して略固定された位置にある、リソグラフィ、検査、または計測ツールと
を備える、基板プロセス装置。 - 前記リソグラフィ、検査、または計測ツールは、電子ビームのカラム、光学カラム、またはX線のカラムを備える、請求項76の装置。
- 前記ツールに対する前記基板の位置を、所望の位置から40ナノメートル以内に制御するように適合された制御システムをさらに備える、請求項76に記載の装置。
- 前記第1のモータは、前記キャリアステージに取り付けられた固定子および前記回転ステージに取り付けられた回転子を有する電気モータである、請求項76に記載の装置。
- 前記回転子および固定子は、前記回転子上の前記固定子によってもたらされた磁力が、前記回転ステージの重さの全てまたはその殆どを支持するのに十分であるように構成される、請求項79に記載の装置。
- 前記第2のモータは、前記キャリアステージに取り付けられた固定子を有する電気モータであり、回転子および係合機構は、前記第2のモータの前記回転子を、前記回転ステージまたは前記第1のモータの前記回転子に選択的に係合するように構成される、請求項79に記載の装置。
- 前記係合機構は摩擦駆動を備える、請求項81に記載の装置。
- 前記摩擦駆動は、前記回転ステージを、前記回転ステージの縁に隣接して係合するように構成される、請求項82に記載の装置。
- 前記係合機構は、前記第2のモータのシャフトに取り付けられたクラッチプレートを備え、前記クラッチプレートおよび前記第1のモータの回転子は、相互に選択的な機械的係合のために構成される、請求項83に記載の装置。
- 前記係合機構は、前記クラッチプレート上の第1の接面および前記第1の回転子の回転子上の第2の接面を備える、請求項84に記載の装置。
- 前記係合機構は、前記第1および第2の接面を係合するために、前記クラッチプレートと前記第1のモータの前記回転子との間に相対的な軸方向運動を分与するように構成される、請求項85に記載の装置。
- 前記第1および第2の接面の一方が突起部を備え、前記第1および第2の接面の他方が、対応の凹部を備える、請求項85に記載の装置。
- 前記第1および第2のモータは、前記突起部と前記凹部とを係合するために、前記第1および第2の接面を互いに角度的に調整するように構成される、請求項85に記載の装置。
- 前記第1のモータおよび前記第2のモータは前記回転軸の周囲を回転するように構成される、請求項76に記載の装置。
- 前記第2のモータの前記回転子は前記回転ステージに取り付けられた導電性リングを備え、
前記導電性リングは前記回転軸と同軸であり、
前記第2のモータの前記固定子は、前記導電性リングにおいて、渦電流を誘発する回転磁気フラックスを生成するように構成され、
前記渦電流と前記回転フラックスとの間の作用が前記導電性リング上にトルクをもたらす、請求項89に記載の装置。 - 前記第1のモータは相対的に低いトルクリップルによって特徴付けられ、前記第2のモータは、前記第1のモータと比較して相対的に高いトルクによって特徴付けられる、請求項90に記載の装置。
- 前記キャリアステージは、平行移動軸に沿って、前記支持構造に対して平行移動するように適合されたリニア平行移動ステージであり、前記回転ステージは、前記リニア平行移動ステージに沿って、前記支持構造に対して平行移動する、請求項76に記載の装置。
- 前記第1のモータは、前記キャリアステージに取り付けられた固定子および前記回転ステージに取り付けられた回転子を有する電気モータである、請求項92に記載の装置。
- 前記回転子および固定子は、前記回転子上の前記固定子によってもたらされた磁力が、前記回転ステージの重さの全てまたはその殆どを支持するのに十分であるように構成される、請求項93に記載の装置。
- 前記第2のモータは前記支持構造に取り付けられ、前記装置は、前記第2のモータを、前記回転ステージまたは前記第1のモータの前記回転子に選択的に係合するように構成された係合機構をさらに備える、請求項93に記載の装置。
- 前記係合機構は磁気クラッチを備える、請求項95に記載の装置。
- 前記支持構造は、前記キャリアステージ、または前記キャリアステージおよび前記回転ステージを含むチャンバを支持する基部である、請求項76に記載の装置。
- 前記回転ステージ、および/または前記回転ステージの端部に隣接する平行移動ステージに取り付けられた1つ以上の磁気浮上(マグレブ)ユニットをさらに備える、請求項76に記載の装置。
- 回転ステージ上に複数の基板を保持することと、
ブースタモータを用いて、静止状態から第1の角速度へ、キャリアステージに対して回転加速し、および/または、ゼロではない角速度から停止状態へ、前記回転ステージを減速することと、
所望の角速度にて前記回転ステージを維持し、および/または、相対的に低いトルクリップルによって特徴付けられる第1のモータを用いて、第1の角速度から第2の角速度へ、前記回転ステージを回転加速または回転減速することと、
支持構造に対して略固定された位置にあるリソグラフィ、検査、または計測ツールを用いて前記基板を処理しながら、平行移動軸に沿って前記支持構造に対してリニア平行移動ステージを平行移動することと、
を含む、基板処理方法。 - 前記ツールに対する前記基板の位置を、所望の位置から40ナノメートル以内に制御することをさらに含む、請求項99に記載の方法。
- 前記ツールに対する前記基板の位置を制御することは、前記回転ステージに取り付けられた中心回転子および前記リニア平行移動ステージに取り付けられた固定子を用いる前記回転ステージの重さを支持することを含む、請求項100に記載の方法。
- 前記回転ステージの重さを支持することは、前記回転ステージの重さの全てまたはその殆どを支持するために、前記回転子と前記固定子との間に磁力を用いることを含む、請求項101に記載の方法。
- 前記ブースタモータを前記回転ステージから選択的に係合および解除することをさらに含む、請求項99に記載の方法。
- 前記ブースタモータを選択的に係合および解除することは、前記ブースタモータの回転子と前記回転ステージとを同じ角速度で回転させることを含む、請求項103に記載の方法。
- 前記ブースタモータを選択的に係合および解除することは、前記回転ステージに対して前記ブースタモータの前記回転子を角度的に調整することをさらに含む、請求項104に記載の方法。
- 前記第1のモータは、キャリアステージに取り付けられた固定子および前記回転ステージに取り付けられた回転子を有する電気モータである、請求項99に記載の方法。
- 前記第2のモータは、前記リニア平行移動ステージに取り付けられた固定子を有する電気モータである、請求項106に記載の方法。
- 前記ブースタモータを用いて、静止状態から前記第1の角速度へ、前記回転ステージを回転加速し、および/またはゼロではない角速度から停止状態へ、前記回転ステージを減速することは、前記ブースタモータで前記回転ステージの縁に隣接する前記回転ステージに駆動力を付与することを含む、請求項99に記載の方法。
- 前記第1のモータおよび前記第2のモータは、前記回転軸の周囲を回転するように構成される、請求項99に記載の方法。
- 前記回転ステージを回転加速することは、回転磁気フラックスを、前記回転ステージに取り付けられた導電性リングに付与することを含み、
前記導電性リングは前記回転軸と同軸であり、
前記回転フラックスは前記導電性リングにおいて渦電流を誘発し、
前記渦電流と前記回転フラックスとの間における作用が前記導電性リング上にトルクをもたらして、前記回転ステージを回転加速する、請求項99に記載の方法。
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