TW201830156A - 馬達總成、微影裝置及器件製造方法 - Google Patents

馬達總成、微影裝置及器件製造方法 Download PDF

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Abstract

本發明描述一種用於在一驅動方向上驅動一物件之馬達總成，該馬達總成包含： -複數個線性馬達，每一馬達經組態以在該驅動方向上產生一驅動力，該等線性馬達中之每一者包含： ○ 一第一電磁總成及一第二電磁總成，該第二電磁總成經組態以與該第一電磁總成合作以用於產生該驅動力；其中該第一電磁總成與該第二磁性總成面向彼此且界定彼此之間在垂直於該驅動方向之一方向上的一間隙； -一第一介面，其用於將該等第一電磁總成連接至一共同部件； -一第二介面，其用於將該等第二電磁總成連接至待驅動之該物件； 其中該等第一電磁總成及該等第二電磁總成在垂直於該驅動方向之該方向上經堆疊，且其中該第一介面及該第二介面中之至少一者經組態以實現該等各別第一電磁總成與該等第二電磁總成之間在垂直於該驅動方向之該方向上的一相對位移。

Description

馬達總成、微影裝置及器件製造方法
本發明係關於一種馬達總成、一種微影裝置及一種用於製造器件之方法。
微影裝置為將所要圖案施加至基板上(通常施加至基板之目標部分上)之機器。微影裝置可用於例如積體電路(IC)之製造中。在彼情況下，圖案化器件(其替代地被稱作光罩或倍縮光罩)可用以產生待形成於IC之個別層上之電路圖案。可將此圖案轉印至基板(例如矽晶圓)上之目標部分(例如包含晶粒之部分、一個晶粒或若干晶粒)上。通常經由成像至提供於基板上之輻射敏感材料(抗蝕劑)層上來進行圖案之轉印。一般而言，單一基板將含有經順次地圖案化之鄰近目標部分之網路。已知的微影裝置包括：所謂的步進器，其中藉由一次性將整個圖案曝光至目標部分上來輻照每一目標部分；及所謂的掃描器，其中藉由在給定方向(「掃描」方向)上經由輻射光束而掃描圖案同時平行或反平行於此方向而同步地掃描基板來輻照每一目標部分。亦有可能藉由將圖案壓印至基板上而將圖案自圖案化器件轉印至基板。為了相對於基板準確地定位圖案化器件，將圖案化器件及基板安裝於物件台上，該等物件台係由例如包括平面或線性電磁馬達之定位器件而位移。為了滿足產出量期望值，常常預期此類馬達之高力密度。如當前可用之電磁馬達仍可具有低於期望值的力密度。
將需要提供一種相比於已知電磁馬達具有一改良之力密度的馬達總成。 根據本發明之一態樣，提供一種用於在一驅動方向上驅動一物件之馬達總成，該馬達總成包含： - 複數個線性馬達，每一馬達經組態以在該驅動方向上產生一驅動力，該等線性馬達中之每一者包含： o 一第一電磁總成及一第二電磁總成，該第二電磁總成經組態以與該第一電磁總成合作以用於產生該驅動力；其中該第一電磁總成與該第二磁性總成面向彼此且界定彼此之間在垂直於該驅動方向之一方向上的一間隙； - 一第一介面，其用於將該等第一電磁總成連接至一共同部件； - 一第二介面，其用於將該等第二電磁總成連接至待驅動之該物件； 其中該等第一電磁總成及該等第二電磁總成在垂直於該驅動方向之該方向上經堆疊，且其中該第一介面及該第二介面中之至少一者經組態以實現該等各別第一電磁總成與該等第二電磁總成之間在垂直於該驅動方向之該方向上的一相對位移。 根據本發明之另一態樣，提供一種用於在一驅動方向上驅動一物件之馬達總成，該馬達總成包含： - 一第一電磁總成及一第二電磁總成，其中該第二電磁總成包含一第一電磁子總成及一第二電磁子總成，該第一電磁子總成經組態以與該第一電磁總成合作以用於在該驅動方向上產生一第一驅動力，且該第二電磁子總成經組態以與該第一電磁總成合作以用於在該驅動方向上產生一第二驅動力；其中該第一電磁子總成面向該第一電磁總成之一第一表面，藉此界定該第一電磁總成與該第二電磁總成之間在垂直於該驅動方向之一方向上的一第一間隙；其中該第二電磁子總成面向該第一電磁總成之一第二表面，藉此界定該第一電磁總成與該第二電磁總成之間在垂直於該驅動方向之該方向上的一第二間隙； - 一第一介面，其用於將該第一電磁總成連接至一共同部件或待驅動之該物件中的一者； - 一第二介面，其用於將該第二電磁總成連接至該共同部件或待驅動之該物件中的另一者； 其中該第一電磁總成、該第一電磁子總成及該第二電磁子總成在垂直於該驅動方向之該方向上經堆疊，且其中該第二介面經組態以實現該第一電磁子總成與該第二電磁子總成之間在垂直於該驅動方向之該方向上的一相對位移。 根據本發明之又一態樣，提供一種微影裝置，其包含： - 一照明系統，其經組態以調節一輻射光束； - 一支撐件，其經建構以支撐一圖案化器件，該圖案化器件能夠在該輻射光束之橫截面中向該輻射光束賦予一圖案以形成一經圖案化輻射光束； - 一基板台，其經建構以固持一基板；及 - 一投影系統，其經組態以將該經圖案化輻射光束投影至該基板之一目標部分上， 其中該微影裝置進一步包含如前述技術方案中任一項的用於定位該支撐件或該基板台之一馬達總成。 根據本發明之又一態樣，提供一種器件製造方法，該方法包含使用根據本發明之一微影裝置將一經圖案化輻射光束投影至一基板上。
圖1示意性地描繪根據本發明之一實施例之微影裝置。該微影裝置包含照明系統IL、支撐結構MT、基板台WT及投影系統PS。照明系統IL經組態以調節輻射光束B。支撐結構MT經建構以支撐圖案化器件MA，且連接至經組態以根據某些參數來準確地定位該圖案化器件MA之第一定位器件PM。基板台WT經建構以固持基板W (例如抗蝕劑塗佈晶圓)，且連接至經組態以根據某些參數來準確地定位該基板W之第二定位器PW。投影系統PS經組態以將由圖案化器件MA賦予至輻射光束B之圖案投影至基板W之目標部分C (例如包含一或多個晶粒)上。 照明系統IL可包括用於導向、塑形或控制輻射的各種類型之光學組件，諸如折射、反射、磁性、電磁、靜電或其他類型之光學組件，或其任何組合。 照明系統IL自輻射源SO接收輻射光束B。舉例而言，當輻射源SO為準分子雷射時，輻射源SO及微影裝置可為單獨實體。在此等狀況下，不認為輻射源SO形成微影裝置之部分，且輻射光束B係憑藉包含例如合適導向鏡及/或光束擴展器之光束遞送系統BD而自輻射源SO傳遞至照明系統IL。在其他狀況下，舉例而言，當輻射源SO為水銀燈時，輻射源SO可為微影裝置之整體部分。輻射源SO及照明系統IL連同光束遞送系統BD在需要時可被稱作輻射系統。 照明系統IL可包含用於調整輻射光束之角強度分佈之調整器AD。通常，可調整照明系統IL之光瞳平面中之強度分佈的至少外部徑向範圍及/或內部徑向範圍(通常分別被稱作σ外部及σ內部)。另外，照明系統IL可包含各種其他組件，諸如積光器IN及聚光器CO。照明系統IL可用以調節輻射光束B，以在其橫截面中具有所要均一性及強度分佈。 本文中所使用之術語「輻射光束」涵蓋所有類型之電磁輻射，包括紫外線(UV)輻射(例如具有為或為約365奈米、355奈米、248奈米、193奈米、157奈米或126奈米之波長)及極紫外線(EUV)輻射(例如具有在5奈米至20奈米之範圍內之波長)，以及粒子束，諸如離子束或電子束。 支撐結構MT支撐圖案化器件MA，亦即，承載圖案化器件MA之重量。支撐結構MT以取決於圖案化器件MA之定向、微影裝置之設計及其他條件(諸如圖案化器件MA是否被固持於真空環境中)之方式來固持該圖案化器件MA。支撐結構MT可使用機械、真空、靜電或其他夾持技術以固持圖案化器件MA。支撐結構MT可為例如框架或台，其可根據需要而固定或可移動。支撐結構MT可確保圖案化器件MA (例如)相對於投影系統PS處於所要位置。 本文中所使用之術語「圖案化器件」應被廣泛地解譯為係指可用以在輻射光束之橫截面中向輻射光束賦予圖案以便在基板W之目標部分C中產生圖案的任何器件。應注意，舉例而言，若被賦予至輻射光束B之圖案包括相移特徵或所謂的輔助特徵，則該圖案可不確切地對應於基板W之目標部分C中之所要圖案。通常，被賦予至輻射光束B之圖案將對應於目標部分C中產生之器件(諸如積體電路)中之特定功能層。 圖案化器件MA可為透射的或反射的。圖案化器件之實例包括光罩、可程式化鏡面陣列，及可程式化LCD面板。光罩在微影中係熟知的，且包括諸如二元、交變相移及衰減相移之光罩類型，以及各種混合式光罩類型。可程式化鏡面陣列之一實例使用小鏡面之矩陣配置，該等小鏡面中之每一者可個別地傾斜以便使入射輻射光束在不同方向上反射。傾斜鏡面在由鏡面矩陣反射之輻射光束B中賦予圖案。 本文中所使用之術語「投影系統」應被廣泛地解譯為涵蓋適於所使用之曝光輻射或適於諸如浸潤液體之使用或真空之使用之其他因素的任何類型之投影系統，包括折射、反射、反射折射、磁性、電磁及靜電光學系統，或其任何組合。 如此處所描繪，微影裝置屬於透射類型(例如使用透射光罩)。替代地，微影裝置可屬於反射類型(例如使用如上文所提及之類型之可程式化鏡面陣列，或使用反射光罩)。 微影裝置可屬於具有兩個(雙載物台)或多於兩個基板台(及/或兩個或多於兩個光罩台)之類型。在此等「多載物台」機器中，可並行地使用額外台，或可在一或多個台上進行預備步驟，同時將一或多個其他台用於曝光。一額外台可經配置以固持至少一個感測器，而非固持基板W。該至少一個感測器可為用以量測投影系統PS之屬性之感測器、用以偵測圖案化器件MA上之標記相對於感測器之位置的感測器，或可為任何其他類型之感測器。該額外台可包含例如用於清潔投影系統PS或微影裝置之任何其他部分之清潔器件。 微影裝置亦可屬於如下類型：其中基板W之至少一部分可由具有相對高折射率之液體(例如水)覆蓋，以便填充投影系統PS與基板W之間的空間。亦可將浸潤液體施加至微影裝置中之其他空間，例如圖案化器件MA與投影系統PS之間的空間。浸潤技術在此項技術中被熟知用於增加投影系統之數值孔徑。本文中所使用之術語「浸潤」不意謂諸如基板W之結構必須浸沒於液體中，而是僅意謂液體在曝光期間位於投影系統PS與基板W之間。 輻射光束B入射於被固持於支撐結構MT上之圖案化器件MA上，且係由該圖案化器件MA而圖案化。在已橫穿支撐結構MT的情況下，輻射光束B傳遞通過投影系統PS，投影系統PS將該光束聚焦至基板W之目標部分C上。憑藉第二定位器PW及位置感測器IF (例如干涉器件、線性編碼器或電容性感測器)，可準確地移動基板台WT，例如以便使不同目標部分C定位於輻射光束B之路徑中。相似地，第一定位器PM及另一位置感測器(其未在圖1中被明確地描繪)可用以例如在自光罩庫之機械擷取之後或在掃描期間相對於輻射光束B之路徑來準確地定位圖案化器件MA。一般而言，可憑藉形成第一定位器PM之部分之長衝程模組及短衝程模組來實現支撐結構MT之移動。長衝程模組提供支撐結構MT遍及大範圍以有限準確度移動(粗略定位)，而短衝程模組提供支撐結構MT相對於長衝程模組遍及小範圍以高準確度移動(精細定位)。相似地，可使用形成第二定位器PW之部分之長衝程模組及短衝程模組來實現基板台WT之移動。在步進器(相對於掃描器)之狀況下，支撐結構MT可僅連接至短衝程致動器，或可固定。在一實施例中，根據本發明之微影裝置可包含作為第一定位器PM抑或第二定位器PM之部分的根據本發明之馬達總成。詳言之，根據本發明之馬達總成可有利地被應用為用於使支撐結構MT遍及比較大範圍移動的長衝程移動器。 可使用光罩對準標記M1、M2及基板對準標記P1、P2來對準圖案化器件MA及基板W。儘管如所說明之基板對準標記P1、P2佔據專用目標部分，但該等標記可位於目標部分C之間的空間中。當基板對準標記P1、P2位於目標部分C之間的空間中時，該等基板對準標記P1、P2被稱為切割道對準標記。相似地，在多於一個晶粒提供於圖案化器件MA上之情形中，光罩對準標記M1、M2可位於該等晶粒之間。 所描繪裝置可用於以下模式中之至少一者中： 在第一模式(步進模式)中，在將被賦予至輻射光束B之整個圖案一次性投影至目標部分C上時，使支撐結構MT及基板台WT保持基本上靜止(亦即，單次靜態曝光)。接著，使基板台WT在X及/或Y方向上移位，使得可曝光不同目標部分C。在步進模式中，曝光場之最大大小限制單次靜態曝光中所成像之目標部分C之大小。 在第二模式(掃描模式)中，在將被賦予至輻射光束B之圖案投影至目標部分C上時，同步地掃描支撐結構MT及基板台WT (亦即，單次動態曝光)。可藉由投影系統PS之放大率(縮小率)及影像反轉特性來判定基板台WT相對於支撐結構MT之速度及方向。在掃描模式中，曝光場之最大大小限制單次動態曝光中之目標部分C之寬度(在非掃描方向上)，而掃描運動之長度判定目標部分C之高度(在掃描方向上)。 在第三模式中，在將被賦予至輻射光束B之圖案投影至目標部分C上時，使支撐結構MT保持基本上靜止，從而固持可程式化圖案化器件MA，且移動或掃描基板台WT。在此模式中，通常使用脈衝式輻射源且在基板台WT之每一移動之後或在掃描期間之順次輻射脈衝之間根據需要而更新可程式化圖案化器件MA。此操作模式可易於應用於利用可程式化圖案化器件(諸如上文所提及之類型之可程式化鏡面陣列)之無光罩微影。 微影裝置進一步包括控制所描述之致動器及感測器之控制單元。控制單元亦包括用以實施與微影裝置之操作相關之所要計算的信號處理及資料處理能力。實務上，控制單元將被實現為許多子單元之系統。每一子單元可處置微影裝置內之組件之即時資料獲取、處理及/或控制。舉例而言，一個子單元可專用於第二定位器PW之伺服控制。單獨子單元可處置短衝程模組及長衝程模組，或不同軸線。另一子單元可專用於位置感測器IF之讀出。微影裝置之總控制可受到中央處理單元控制，中央處理單元與子單元通信、與操作員通信，且與微影製造程序中涉及之其他裝置通信。 亦可使用上文所描述之使用模式之組合及/或變化或完全不同之使用模式。 本發明係關於馬達總成，其可例如應用於微影裝置中以用於使物件台位移或定位物件台，物件台例如用於固持圖案化器件或基板之物件台。 各種類型之線性馬達已經應用以驅動此等物件台。已知電磁馬達通常包括第一電磁總成，該第一電磁總成經組態以與第二電磁總成合作以用於在驅動方向上產生驅動力。作為一實例，第一電磁總成可例如為包含永久磁體陣列之磁體總成，該陣列在驅動方向上延伸，而第二電磁總成可例如為包含線圈陣列之線圈總成，其例如安裝至諸如鐵磁性部件之磁性部件。在此配置中，線圈總成之線圈通常經建構及配置以面對磁體總成之永久磁體，藉以例如憑藉預負載空氣軸承或其類似者而維持線圈總成與磁體總成之間的間隙(在垂直於平行於線圈總成或磁體總成之外部表面之平面的方向上)。 圖2a及圖2b示意性地展示此等線性馬達。圖2a示意性地展示包含線圈總成210及磁體總成220之線性馬達200的橫截面圖。線圈總成210包含安裝於部件210.4上(例如鐵磁性部件)之三個線圈210.1、210.2及210.3之陣列。磁體總成220包含安裝於部件220.2 (例如鐵磁性部件)上之交變磁化永久磁體220.1陣列。如所展示，線圈總成之線圈210.1、210.2及210.3面向磁體總成之磁體且分離達距離d，該距離d被稱作氣隙、馬達間隙或間隙。距離d另外被稱作間隙d。在操作期間，線圈總成210之線圈具備電流，該電流與由永久磁體220.1產生之磁場相互作用以便產生力，例如在驅動方向(例如Y方向)上之力。在如所展示之實施例中，線圈總成210可例如連接至待在驅動方向(亦即，Y方向)上位移之物件(圖中未繪示)。為了維持磁體總成220與線圈總成210之間的間隙d，可提供軸承，諸如預負載氣體軸承(圖中未繪示)。 在如圖2b中所展示之替代配置中，線性馬達250可具有磁體總成260，該磁體總成可連接至待例如在Y方向上移動之物件，而馬達250之線圈總成270保持靜止(例如安裝至框架)，或經組態以歸因於施加於其上之反作用力而在相對方向上位移，此配置被稱為平衡塊配置。 如圖2a及圖2b中所展示之此類馬達(亦即，具有面向單一線圈總成之單一磁體總成之馬達)通常被稱作單邊線性馬達。 已提議對此類馬達之不同改良以便增加馬達之力密度。在本發明之涵義內，線性馬達之力密度係指每公斤移動馬達質量之可用功率，該移動馬達質量係指連接至待位移之物件之馬達部分(線圈總成抑或磁體總成)之質量。 為了增加如圖2a及圖2b中所展示之線性馬達之效能，例如提議增大如由線圈總成所感知之磁場。此可例如藉由由兩個磁體總成圍封一線圈總成來完成，如例如圖3中所展示。圖3示意性地展示沿著如此項技術中已知之線性馬達之線A-A'截得的YZ橫截面圖，及沿著如此項技術中已知之該線性馬達之線B-B'截得的XZ橫截面圖。馬達300包含一線圈總成310 (包含在驅動方向(亦即，Y方向)上彼此鄰近地配置之三個線圈)及提供於線圈總成310之相對側上之一對磁體總成320.1及320.2，例如相似於圖2a之磁體總成210。藉此可增大如由線圈總成310所感知之磁場。替代地，可提供由兩個線圈總成圍封之一磁體總成。在此馬達中，吾人可識別在垂直於驅動方向之方向(該圖中之Z方向)上之兩個間隙，亦即，線圈總成310與磁體總成320.1之間的間隙d1及線圈總成310與磁體總成320.2之間的間隙d2。在如所展示之實施例中，磁體總成320.1、320.2安裝於部件330上，該部件330經組態以保持磁體總成320.1、320.2隔開，使得實現線圈總成310與磁體總成320.1之間的間隙d1及與磁體總成320.2之間的間隙d2。部件330可進一步用以在Y方向上使磁體之位置同步且將該等位置保持實質上恆定。此類馬達亦可被稱作雙邊線性馬達或U形通道馬達。 相比於如圖2a及圖2b中所展示之設計，此馬達之力密度得以改良，但可獲得之改良仍相當有限。 可獲得改良相當有限的原因中之一者在於：相比於單邊線性馬達，可難以(若非不可能)將此雙邊線性馬達之兩個間隙(例如如圖3中所展示之間隙d1、d2)維持在所要限度內。就此而言，可指出，線性馬達之力密度受到磁體總成與線圈總成之間的間隙d強烈影響。詳言之，關於馬達之力密度，有利的是維持線圈總成與磁體總成之間的間隙d儘可能地小。 熟習此項技術者應瞭解，可憑藉預負載軸承準確地控制單邊線性馬達中之磁體總成與線圈總成之間的間隙d，且將其保持至比較小值。圖4示意性地展示包括此軸承之單邊線性馬達400在垂直於驅動方向之平面中的橫截面圖。圖4示意性地展示線圈總成410及磁體總成420。線圈總成410包含安裝至鐵磁性部件410.2之線圈410.1，而磁體總成420包含安裝至例如鐵磁性部件之部件420.2之永久磁體420.1。圖4進一步示意性地展示軸承430，該軸承經組態以維持線圈總成及磁體總成在Z方向(亦即，垂直於驅動方向)上隔開，藉此產生線圈總成410之線圈410.1與磁體總成420之磁體420.1之間的間隙d。此軸承430可例如為例如由永久磁體420.1與鐵磁性部件410.2之間的吸引力預負載之預負載空氣軸承。藉此，可產生在Z方向上具有比較高勁度(例如1e8 N/m至1e9 N/m)且使能夠應用比較小氣隙或間隙d之軸承。詳言之，使用此類預負載軸承，可實現例如為0.5毫米或更小之間隙d。 在如例如圖3中所展示之雙邊線性馬達之狀況下，線圈總成與線圈總成之兩側上之磁體總成之間的間隙d1、d2之大小取決於該等磁體總成彼此分離之距離，且因此取決於該等磁體總成相對於彼此被安裝之方式。就此而言，提出歸因於在安裝磁體總成時之機械容許度及可得到準確性，間隙d1及d2通常將大於可應用於單邊線性馬達中之間隙d。用於d1及d2之典型值可例如在1毫米至1.5毫米之範圍內。 為了進一步改良線性馬達中之力密度，本發明提供包含複數個磁體總成之馬達總成，該複數個磁體總成經組態以與各別複數個線圈總成合作以產生用於驅動諸如物件台之物件之驅動力，藉以可較準確地控制合作之磁體總成與線圈總成之間的間隙。詳言之，根據本發明之馬達總成可被認為係進行合作以在驅動方向上產生力的複數個第一及第二電磁總成之堆疊配置。在此配置中，每一對第一電磁總成及合作之第二電磁總成可被認為係馬達總成之線性馬達，在該等總成之間在垂直於驅動方向之方向上具有間隙。根據本發明，提供用於維持每一對第一電磁總成與合作之第二電磁總成之間的間隙之軸承。應注意，在本發明之涵義內，對電磁總成之參考可指例如包含永久磁體陣列之磁體總成，抑或例如包含線圈陣列之線圈總成。根據本發明，第一電磁總成連接至第一介面，該第一介面經組態以將第一電磁總成連接至待驅動之物件，而第二電磁總成連接至第二介面，該第二介面經組態以將第二總成連接至例如框架或基座或平衡塊配置之共同部件。 根據本發明，第一介面及第二介面中之至少一者經組態以實現各別第一電磁總成與第二電磁總成之間在垂直於驅動方向之方向上的相對位移。第一介面530可經組態以實現第一電磁總成之間的相對位移。第二介面540可經組態以實現第二電磁總成之間的相對位移。結果，可較容易維持且可獨立控制配置於每一對合作電磁總成之間的間隙。 圖5示意性地展示根據本發明之一實施例之馬達總成的橫截面圖。該馬達總成500包含第一線性馬達，該第一線性馬達包含經建構及配置以與第一線圈總成522合作之第一磁體總成512。該總成500進一步包含第二線性馬達，該第二線性馬達包含經建構及配置以與第二線圈總成524合作之第二磁體總成514。在如所展示之實施例中，磁體總成512、514各自包含永久磁體512.1、514.1之陣列，該等永久磁體在垂直於圖式平面之方向上彼此鄰近地配置且安裝至各別部件512.2及514.2。在如所展示之實施例中，線圈總成522、524各自包含線圈522.1、524.1之陣列，該等線圈在垂直於圖式平面之方向上彼此鄰近地配置且安裝至例如鐵磁性部件之各別部件522.2、524.2。該馬達總成500進一步包含第一介面530，該第一介面經建構以將磁體總成512、514連接至物件550，該物件例如待在例如垂直於圖式平面之驅動方向上驅動之物件台。該馬達總成500進一步包含第二介面540，第二介面在如所展示之實施例中經建構以剛性地耦接線圈總成522、524。此介面540可進一步耦接至框架或其他靜止結構或可耦接至平衡塊。 在如所展示之實施例中，介面530經組態以實現線圈總成522、524相對於彼此在垂直於驅動方向之方向上(詳言之在Z方向上)之位移。更具體言之，在如所展示之實施例中，介面530包含用於將磁體總成連接至物件550之片彈簧530.1及530.2。如圖5中示意性地展示之馬達總成之實施例進一步包含：第一軸承562，其經建構及配置以維持第一磁體總成512與第一線圈總成522隔開；及第二軸承564，其經建構及配置以維持第二磁體總成514與第二線圈總成524隔開。此類軸承可例如為預負載空氣軸承或其類似者。憑藉此等軸承，可在操作期間維持磁體總成512與合作之線圈總成522之間的間隙d1及磁體總成514與合作之線圈總成524之間的間隙d2。 相比於如圖3中示意性地所展示之雙邊線性馬達，如圖5中示意性地所展示之馬達總成500使能夠控制磁體總成與合作之線圈總成之間的間隙d1、d2且將其保持為比較小，而無關於線圈總成522、524彼此隔開地被安裝所隔之距離。歸因於介面530之可撓性，該介面實現在Z方向上磁體總成512及514相對於彼此之位移，該等磁體總成512、514被賦能獨立地「遵循」各別線圈總成522、524之Z位置，因此使能夠維持磁體總成512、514與合作之線圈總成522、524之間的準確及小間隙d1、d2。以不同方式表達，倘若在線圈總成522、524之間在Z方向上的距離將沿著Y方向(該Y方向垂直於XZ平面)變化，則歸因於在Z方向上磁體總成512、514之位移或可位移性，仍可維持間隙d1及d2。在Z方向上之線圈總成之間的距離沿著Y方向之變化因此將僅引起磁體總成512、514之間的間隙d3變化。 圖6示意性地展示根據本發明之馬達總成600的較詳細橫截面圖。圖6示意性地描繪馬達總成600，該馬達總成具有第一線性馬達，該第一線性馬達包含經建構及配置以與第一線圈總成622合作之第一磁體總成612。該總成600進一步包含第二線性馬達，該第二線性馬達包含經建構及配置以與第二線圈總成624合作之第二磁體總成614。在如所展示之實施例中，磁體總成612、614各自包含永久磁體陣列612.1、614.1，永久磁體陣列612.1、614.1在垂直於圖式平面之方向上彼此鄰近地配置且安裝至各別部件612.2及614.2。在如所展示之實施例中，部件612.2及614.2為輕量結構，其具有在內部具有加強肋片的敞開箱結構(參見例如接下來的內容)。圖6之橫截面圖例如展示敞開箱結構化部件612.2及614.2之底部B、該等結構之側壁S及一些加強肋片R。此類敞開箱結構612.2、614.2可例如憑藉自鋁件(例如鋁5083)研磨來加工。此材料具有比較低密度、具有相對高疲乏強度及良好的加工屬性。在如所展示之實施例中，磁體陣列612.1、614.1部分地嵌入於結構612.2、614.2之底部B中。在如所展示之實施例中，線圈總成622、624各自包含在垂直於圖式平面之方向上彼此鄰近地配置之線圈622.1、624.1之陣列。在如所展示之實施例中，線圈陣列622.1、624.1分別安裝於線圈單元622.3、624.3中，該等線圈單元622.3、624.3被安裝至線圈總成622之部件622.4及線圈總成624之部件624.4，藉以該等部件622.4及624.4可充當平衡塊。在如所展示之實施例中，線圈總成622及624進一步具備鐵磁性部件(亦被稱作護鐵) 622.2、624.2，該等鐵磁性部件用於導引在操作期間由磁體陣列之磁體及線圈陣列之線圈產生之磁場。該馬達總成600進一步包含第一介面630，該第一介面經建構以將磁體總成612、614連接至物件650，該物件例如待在例如垂直於圖式平面之驅動方向上驅動之物件台。該馬達總成600進一步包含第二介面640，第二介面在如所展示之實施例中經建構以剛性地耦接線圈總成622、624。此介面640可進一步耦接至框架或其他靜止結構，其可耦接至平衡塊或其可構成平衡塊或其部分。為了實現磁體總成及介面630相對於線圈總成在Y方向上(亦即垂直於圖式平面)之位移，在介面中提供孔隙640.1，該孔隙在Y方向上延伸。 在如所展示之實施例中，介面630經組態以實現線圈總成622、624相對於彼此在垂直於驅動方向之方向上(詳言之在Z方向上)之位移。更具體言之，在如所展示之實施例中，介面630包含用於將磁體總成連接至物件650之片彈簧630.1及630.2。在如所展示之配置中，片彈簧630.1及630.2提供在磁體總成612、614與物件650之間在Z方向上的可撓性連接，同時提供在X方向上及在垂直於圖式之XZ平面之驅動方向(亦即Y方向)上的實質上剛性連接。在一較佳實施例中，將片彈簧630.1、630.2在平面中提供通過磁體陣列612.1、614.1之力心CoF，如由點線所指示。在如所展示之實施例中，敞開箱結構化部件612.2之底部B亦與片彈簧630.1共面。如圖6中示意性地展示之馬達總成之實施例進一步包含：第一軸承662，其經建構及配置以維持第一磁體總成612與第一線圈總成622隔開；及第二軸承664，其經建構及配置以維持第二磁體總成514與第二線圈總成524隔開。此類軸承可例如為預負載空氣軸承或其類似者。該等軸承可例如包括諸如空氣之氣體被供應通過之多孔軸承墊。在如所展示之實施例中，在磁體總成612、614之磁體陣列與線圈總成之各別護鐵622.2、624.2之間將出現吸引力。此吸引力可充當軸承662、664之預負載。 圖7示意性地展示圖6之結構614.2之俯視圖(亦即，在XY平面中之視圖)。如可看到，該結構具有具側壁S及加強肋片R的敞開箱結構。點線710示意性地指示安裝至該結構以便獲得圖6之磁體總成614的磁體陣列614.1之位置。圖7亦展示連接至結構614.2之片彈簧630.2。在一實施例中，片彈簧630.2及結構614.2可經加工為單一片件，例如自鋁片件材料開始。 圖7亦示意性地展示結構614.2中用於容納至軸承664之氣體供應件的4個孔隙720。在如所展示之實施例中，由於使用4個軸承墊，故軸承664在運行表面624.6 (參見圖6)上之定位係超定的。為了減輕或克服此情形，可有利的是將結構614.2設計為圍繞Y軸或X軸或其兩者具有比較低抗扭勁度。敞開箱結構可尤其適合於提供圍繞Y軸及X軸之比較低抗扭勁度。替代地，可較佳的是將該結構設計為圍繞該軸線具有比較高彎曲勁度。 如已經在圖5及圖6中所說明，根據本發明之馬達總成之構造實現對合作之線圈總成與磁體總成之間的間隙之獨立控制。 在圖5及圖6中，此獨立控制係藉由磁體總成相對於彼此在垂直於驅動方向之方向(亦即，圖5及圖6中之Z方向)上之可撓性安裝來實現，該驅動方向為Y方向，其垂直於圖式平面。 以下圖展示實現對合作之線圈總成與磁體總成之間的間隙之相同獨立控制的一些替代配置。 圖8示意性地展示根據本發明之另一實施例之馬達總成800。在如所展示之實施例中，馬達總成包含磁體總成812之兩個磁體陣列812.1、812.3，該等磁體陣列被安裝於磁體總成之共同結構812.2上，該磁體總成憑藉例如剛性連接件之介面830而安裝至物件850，例如待驅動之物件或框架或平衡塊。馬達總成800進一步包含兩個線圈總成822、824，該兩個線圈總成各自包含一線圈陣列822.1、824.1，該等線圈陣列被安裝至線圈陣列822、824之各別部件822.2、824.2。在如所展示之實施例中，線圈總成822、824憑藉包含一對片彈簧840之介面而安裝至物件860。片彈簧實現線圈總成822、824相對於彼此在Z方向上之位移。圖8進一步示意性地展示用於維持線圈總成822與各別合作之磁體陣列812.1之間的間隙d1及線圈總成824與各別合作之磁體陣列812.3之間的間隙d2之軸承862及864。 圖9示意性地展示根據本發明之馬達總成之又一實施例。在如所展示之實施例中，馬達總成900包含經組態以與兩個線圈總成922、924合作之兩個磁體總成912、914。在如所展示之橫截面圖中，磁體總成912、914及線圈總成922、924在Z方向上交替地配置。在如所展示之實施例中，線圈總成922、924憑藉例如實質上剛性連接件之介面940而安裝至物件950。磁體總成912、914憑藉介面930而連接至物件960，該介面930使磁體總成912、914能夠相對於彼此在所指示之Z方向上位移。在如所展示之實施例中，磁體總成912、914憑藉片彈簧930.1、930.2而連接至物件960。結果，軸承962及964可將線圈總成922與各別合作之磁體陣列912之間的間隙d1及線圈總成924與各別合作之磁體陣列914之間的間隙d2維持至所要值。在如所展示之實施例中，物件950可例如為待驅動之物件或框架或平衡塊中之一者，而物件960可為待驅動之物件或框架或平衡塊中之另一者。 在如圖5至圖9中所展示之實施例中，連接線圈總成或磁體總成(一般而言為第一電磁總成或第二電磁總成)之介面中的一者經組態以實現各別線圈總成或磁體總成之間在垂直於驅動方向之方向上的相對位移。 圖10示意性地展示其中兩個介面實現附接之電磁總成之此類相對位移的實施例。在如所展示之實施例中，馬達總成1000包含經組態以與兩個線圈總成1022、1024合作之兩個磁體總成1012、1014。在如所展示之橫截面圖中，磁體總成1012、1014及線圈總成1022、1024在Z方向上交替地配置。在如所展示之實施例中，線圈總成1022、1024憑藉介面1040而安裝至物件1050。例如，介面1040提供線圈總成1024與物件1050之間的實質上剛性連接件1040.1，及線圈總成1022與物件1050之間在Z方向上具可撓性的可撓性連接件1040.2。可撓性連接件1040.2可例如為進行組態以使線圈總成1022能夠相對於線圈總成1024在Z方向上位移的片彈簧。磁體總成1012、1014憑藉介面1030而連接至物件1060，該介面1030使磁體總成能夠相對於彼此在所指示之Z方向上位移。在如所展示之實施例中，磁體總成1012、1014分別憑藉實質上剛性連接件1030.1及片彈簧1030.2而連接至物件1060。結果，軸承1062及1064可將線圈總成1022與各別合作之磁體陣列1012之間的間隙d1及線圈總成1024與各別合作之磁體陣列1014之間的間隙d2維持至所要值。在如所展示之實施例中，物件1050可例如為待驅動之物件或框架或平衡塊中之一者，而物件1060可為待驅動之物件或框架或平衡塊中之另一者。 為了實現合作之磁體總成與線圈總成之間的間隙(在垂直於驅動方向之方向上)之準確且獨立控制，根據本發明之馬達總成在線圈總成或磁體總成之間提供使其能夠相對於彼此在垂直於驅動方向之方向上位移的一或多個介面。圖11示意性地展示此類介面之各種實施例。圖11之(a)示意性地展示憑藉兩個片彈簧1150將將兩個磁體總成1110及1120連接至物件1140之介面1130，該等片彈簧提供在Z方向上之可撓性連接，藉此使磁體總成1110及1120能夠相對於彼此在Z方向上位移。另外，片彈簧1150在驅動或驅動方向(亦即，垂直於圖式之XZ平面之Y方向)上係實質上剛性的，亦即，具有比較高勁度。圖11之(b)展示一替代配置，藉以磁體總成1110、1120憑藉介面1130而安裝至物件1140，該介面1130包含將磁體總成1120連接至物件1140之片彈簧1130.1及將磁體總成1110連接至磁體總成1120之可撓性連接器1130.2，例如彈簧型連接件。為了維持磁體總成1110及1120在Y方向上之適當相對位置，片彈簧1130.1及可撓性連接件1130.2兩者應在驅動方向(亦即，Y方向)上係實質上剛性的。圖11之(c)示意性地展示又一替代方案，藉以磁體總成1110及1120憑藉例如彈簧型連接件之可撓性連接器1130.1、1130.2而連接至介面1130之實質上剛性部件1130.3，該等可撓性連接器實現磁體總成相對於部件1130.3在Z方向上之位移，且因此使磁體總成能夠相對於彼此在Z方向上位移。為了維持磁體總成1110及1120在Y方向上之適當相對位置，可撓性連接件1130.1、1130.2應在驅動方向(亦即，Y方向)上係實質上剛性的。可進一步指出，關於圖11中之配置(a)，可將額外彈簧配置於總成1110、1120之間，例如以提供在Z方向上之預負載力，以用於預負載軸承。 應注意，同樣配置可經應用以使如應用之線圈總成能夠相對於彼此在垂直於驅動方向之方向上位移。另外，亦可應用如圖10中所展示的藉以電磁總成中之一者剛性地連接之介面配置。 如所展示之馬達總成各自包含與兩個各別磁體總成合作之兩個線圈總成。如熟習此項技術者將清楚的是，根據本發明之馬達總成亦可裝備有多於兩個線圈總成及合作之磁體總成。 在本發明中，實現對線性馬達之合作之線圈總成與磁體總成之間的間隙(常常被稱作空氣間隙)之準確控制。根據本發明之馬達總成之磁體總成或線圈總成或此兩者在垂直於驅動方向之方向上被堆疊。在目前為止所展示之實施例中，總成配置於平行於XY平面之平面中，亦即，總成之線圈或磁體在XY平面中延伸，該等總成在垂直於該等XY平面之方向上被堆疊。在本發明之含義內，在某一方向上經堆疊之總成之配置暗示該等總成重疊，亦即，在該方向(例如Z方向)上配置於彼此之頂部上。另外，存在於合作之線圈總成與磁體總成之間的間隙被認為在與該等總成被堆疊所處之方向相同的方向上。因此，倘若總成之磁體及線圈實質上在XY平面中延伸，則在以上描述中所提及之間隙為在Z方向(亦即，垂直於XY平面)上延伸之間隙。 在目前為止所展示之實施例中，馬達總成具有相同數目個線圈總成及磁體總成。然而，可提及，在本發明內，具有不同數目個線圈總成及磁體總成，同時仍提供實現對線圈總成與磁體總成之間的間隙之獨立控制之優點的馬達總成係可行的。可例如自圖8中所展示之實施例導出此類馬達總成之實例。該圖8之實施例中，磁體陣列812.1及812.3被安裝至同一結構812.2。作為所展示配置之替代方案，可應用單磁體陣列，該單磁體陣列與兩個線圈陣列合作。圖12中示意性地展示此實施例。 圖12示意性地展示用於在驅動方向(亦即，垂直於圖式之XZ平面之Y方向)上驅動物件之馬達總成之實施例的橫截面圖。馬達總成1200包含第一電磁總成1210及第二電磁總成1220。第二電磁總成1220包含第一電磁子總成1222，該第一電磁子總成經組態以與第一電磁總成1210合作以用於在驅動方向上產生第一驅動力。第二電磁子總成1224經組態以與第一電磁總成1210合作以用於在驅動方向上產生第二驅動力。在如所展示之實施例中，第一電磁總成1210包含在驅動方向(亦即Y方向)上配置的永久磁體陣列1210.1。該磁體陣列被安裝至磁體支撐結構1210.2，例如用於固持磁體陣列1210.1之非磁性結構。第二電磁總成之第一子總成1222及第二子總成1224各自包含安裝至各別護鐵1222.2、1224.2之各別線圈陣列1222.1、1224.1。在如所展示之實施例中，第一電磁子總成1222 (尤其是該子總成1222之線圈陣列)面向第一電磁總成1210之第一表面1210.3，藉此界定第一電磁總成1210與第二電磁總成1220之間在垂直於驅動方向之方向(亦即Z方向)上的第一間隙d1。另外，第二電磁子總成1224 (尤其是該子總成1224之線圈陣列1224.1)面向第一電磁總成1210之第二表面1210.4，藉此界定第一電磁總成1210與第二電磁總成1220之間在垂直於驅動方向之方向上的第二間隙d2。馬達總成1200進一步具備軸承1250，該等軸承用於維持第一電磁總成1210與子總成1222之間的間隙d1及與子總成1224之間的間隙d2。如所展示之配置進一步包含第一介面1230及第二介面1240。第一介面1230係用於將第一電磁總成1210連接至物件1260，該物件亦即，共同部件或待驅動之物件中之一者。第二介面1240係用於將第二電磁總成1220連接至物件1270，該物件亦即，共同部件或待驅動之物件中之另一者。在如所展示之實施例中，第二介面包含剛性部件1240.1及可撓性連接件1240.2。可撓性連接件1240.2將子總成連接至剛性部件1240.1以使得實現第一電磁子總成與第二電磁子總成之間在垂直於驅動方向之方向上的相對位移。在如所展示之實施例中，線圈總成1222、1224可被認為共用磁體總成1210。如熟習此項技術者將理解，亦可設計藉以兩個磁體總成將共用一線圈總成之替代實施例。 在如所展示之實施例中，磁體總成包含經組態以在Y方向上產生空間上交變磁場之永久磁體陣列。此磁場分佈可例如由例如圖2a中所展示之磁體陣列220.1產生。替代陣列亦可例如包括海爾貝克(Hallbach)陣列。 在如所展示之實施例中，線圈總成可例如包含在驅動方向上鄰近地配置之線圈陣列，陣列例如圖2a及圖2b中所展示。替代地，線圈陣列之線圈可在Y方向上部分地重疊或可圍繞鐵磁性軛環之鐵磁性齒狀物而捲繞。 儘管如所展示之馬達總成之實施例聚焦於實現物件之線性位移的馬達總成，但應主張，相同原理亦可應用於旋轉馬達總成或平面馬達中。 儘管在本文中可特定地參考微影裝置在IC製造中之使用，但應理解，本文中所描述之微影裝置可具有其他應用，諸如製造整合式光學系統、用於磁疇記憶體之導引及偵測圖案、平板顯示器、液晶顯示器(LCD)、薄膜磁頭等。熟習此項技術者將瞭解，在此等替代應用之內容背景中，可認為本文中對術語「晶圓」或「晶粒」之任何使用分別與更一般之術語「基板」或「目標部分」同義。可在曝光之前或之後在例如塗佈顯影系統(通常將抗蝕劑層施加至基板且顯影經曝光抗蝕劑之工具)、度量衡工具及/或檢測工具中處理本文所提及之基板W。在適用情況下，可將本文中之揭示內容應用於此等及其他基板處理工具。另外，可將基板W處理多於一次，例如以便產生多層IC，使得本文中所使用之術語基板W亦可指已經含有多個經處理層之基板。 儘管上文可特定地參考在光學微影之內容背景中對本發明之實施例之使用，但應瞭解，本發明可用於其他應用(例如壓印微影)中，且在內容背景允許之情況下不限於光學微影。在壓印微影中，圖案化器件MA中之構形(topography)界定產生於基板上之圖案。可將圖案化器件之構形壓入被供應至基板之抗蝕劑層中，在基板上，抗蝕劑係藉由施加電磁輻射、熱、壓力或其組合而經固化。在抗蝕劑固化之後，將圖案化器件MA移出抗蝕劑，從而在其中留下圖案。 雖然上文已描述本發明之特定實施例，但應瞭解，可以與所描述方式不同之其他方式來實踐本發明。舉例而言，本發明可採取如下形式：電腦程式，其含有描述如上文所揭示之方法的機器可讀指令之一或多個序列；或資料儲存媒體(例如，半導體記憶體、磁碟或光碟)，其具有儲存於其中之此電腦程式。 以上描述意欲為說明性，而非限制性的。因此，對於熟習此項技術者而言將顯而易見，可在不脫離下文所闡明之申請專利範圍之範疇的情況下對所描述之本發明進行修改。
200‧‧‧線性馬達
210‧‧‧線圈總成
210.1‧‧‧線圈
210.2‧‧‧線圈
210.3‧‧‧線圈
210.4‧‧‧部件
220‧‧‧磁體總成
220.1‧‧‧交變磁化永久磁體
220.2‧‧‧部件
250‧‧‧線性馬達
260‧‧‧磁體總成
270‧‧‧線圈總成
300‧‧‧馬達
310‧‧‧線圈總成
320.1‧‧‧磁體總成
320.2‧‧‧磁體總成
330‧‧‧部件
400‧‧‧單邊線性馬達
410‧‧‧線圈總成
410.1‧‧‧線圈
410.2‧‧‧鐵磁性部件
420‧‧‧磁體總成
420.1‧‧‧永久磁體
420.2‧‧‧部件
430‧‧‧軸承
500‧‧‧馬達總成
512‧‧‧第一磁體總成
512.1‧‧‧永久磁體
512.2‧‧‧部件
514‧‧‧第二磁體總成
514.1‧‧‧永久磁體
514.2‧‧‧部件
522‧‧‧第一線圈總成
522.1‧‧‧部件
522.2‧‧‧部件
524‧‧‧第二線圈總成
524.1‧‧‧部件
524.2‧‧‧部件
530‧‧‧第一介面
530.1‧‧‧片彈簧
530.2‧‧‧片彈簧
540‧‧‧第二介面
550‧‧‧物件
562‧‧‧第一軸承
564‧‧‧第二軸承
600‧‧‧馬達總成
612‧‧‧第一磁體總成
612.1‧‧‧永久磁體陣列
612.2‧‧‧敞開箱結構化部件
614‧‧‧第二磁體總成
614.1‧‧‧永久磁體陣列
614.2‧‧‧敞開箱結構化部件/結構
622‧‧‧第一線圈總成
622.1‧‧‧線圈
622.2‧‧‧鐵磁性部件/護鐵
622.3‧‧‧線圈單元
622.4‧‧‧部件
624‧‧‧第二線圈總成
624.1‧‧‧線圈
624.2‧‧‧鐵磁性部件/護鐵
624.3‧‧‧線圈單元
624.4‧‧‧部件
624.6‧‧‧運行表面
630‧‧‧第一介面
630.1‧‧‧片彈簧
630.2‧‧‧片彈簧
640‧‧‧第二介面
640.1‧‧‧孔隙
650‧‧‧物件
662‧‧‧第一軸承
664‧‧‧第二軸承
710‧‧‧點線
720‧‧‧孔隙
800‧‧‧馬達總成
812‧‧‧磁體總成
812.1‧‧‧磁體陣列
812.2‧‧‧結構
812.3‧‧‧磁體陣列
822‧‧‧線圈總成
822.1‧‧‧線圈陣列
822.2‧‧‧部件
824‧‧‧線圈總成
824.1‧‧‧線圈陣列
824.2‧‧‧部件
830‧‧‧介面
840‧‧‧片彈簧
850‧‧‧物件
860‧‧‧物件
862‧‧‧軸承
864‧‧‧軸承
900‧‧‧馬達總成
912‧‧‧磁體總成
914‧‧‧磁體總成
922‧‧‧線圈總成
924‧‧‧線圈總成
930‧‧‧介面
930.1‧‧‧片彈簧
930.2‧‧‧片彈簧
940‧‧‧介面
950‧‧‧物件
960‧‧‧物件
962‧‧‧軸承
964‧‧‧軸承
1000‧‧‧馬達總成
1012‧‧‧磁體總成
1014‧‧‧磁體總成
1022‧‧‧線圈總成
1024‧‧‧線圈總成
1030‧‧‧介面
1030.1‧‧‧實質上剛性連接件
1030.2‧‧‧片彈簧
1040‧‧‧介面
1040.1‧‧‧實質上剛性連接件
1040.2‧‧‧可撓性連接件
1050‧‧‧物件
1060‧‧‧物件
1062‧‧‧軸承
1064‧‧‧軸承
1110‧‧‧磁體總成
1120‧‧‧磁體總成
1130‧‧‧介面
1130.1‧‧‧片彈簧/可撓性連接器/可撓性連接件
1130.2‧‧‧可撓性連接器/可撓性連接件
1130.3‧‧‧實質上剛性部件
1140‧‧‧物件
1150‧‧‧片彈簧
1200‧‧‧馬達總成
1210‧‧‧第一電磁總成
1210.1‧‧‧永久磁體陣列
1210.2‧‧‧磁體支撐結構
1222‧‧‧第一電磁子總成
1222.1‧‧‧線圈陣列
1222.2‧‧‧護鐵
1224‧‧‧第二電磁子總成
1224.1‧‧‧線圈陣列
1224.2‧‧‧護鐵
1230‧‧‧第一介面
1240‧‧‧第二介面
1240.1‧‧‧剛性部件
1240.2‧‧‧可撓性連接件
1250‧‧‧軸承
1260‧‧‧物件
1270‧‧‧物件
AD‧‧‧調整器
B‧‧‧輻射光束(圖1)/底部(圖6)
BD‧‧‧光束遞送系統
C‧‧‧目標部分
CO‧‧‧聚光器
CoF‧‧‧力心
d‧‧‧距離/間隙
d1‧‧‧第一間隙
d2‧‧‧第二間隙
d3‧‧‧間隙
IF‧‧‧位置感測器
IL‧‧‧照明系統
IN‧‧‧積光器
M1‧‧‧光罩對準標記
M2‧‧‧光罩對準標記
MA‧‧‧圖案化器件
MT‧‧‧支撐結構
P1‧‧‧基板對準標記
P2‧‧‧基板對準標記
PM‧‧‧第一定位器件/第一定位器
PS‧‧‧投影系統
PW‧‧‧第二定位器
R‧‧‧加強肋片
S‧‧‧側壁
SO‧‧‧輻射源
W‧‧‧基板
WT‧‧‧基板台
現在將參考隨附示意性圖式而僅作為實例來描述本發明之實施例，在該等圖式中，對應元件符號指示對應部分，且在該等圖式中： - 圖1描繪根據本發明之一實施例之微影裝置。 - 圖2a及圖2b描繪如在此項技術中已知的線性馬達之橫截面圖。 - 圖3描繪如在此項技術中已知的雙邊線性馬達之橫截面圖。 - 圖4描繪如在此項技術中已知的線性馬達之橫截面圖，其包括軸承。 - 圖5描繪根據本發明之馬達總成之第一實施例的橫截面圖。 - 圖6描繪根據本發明之馬達總成之第二實施例的橫截面圖。 - 圖7描繪根據本發明之馬達總成之實施例之磁體支撐結構的平面圖。 - 圖8描繪根據本發明之馬達總成之第三實施例的橫截面圖。 - 圖9描繪根據本發明之馬達總成之第四實施例的橫截面圖。 - 圖10描繪根據本發明之馬達總成之第五實施例的橫截面圖。 - 圖11 (包含圖11之(a)、圖11之(b)及圖11之(c))描繪如可應用於本發明中之可撓性介面配置的不同橫截面圖。 - 圖12描繪根據本發明之馬達總成之第六實施例的橫截面圖。

Claims (13)

  1. 一種用於在一驅動方向上驅動一物件之馬達總成，該馬達總成包含： 複數個線性馬達，每一馬達經組態以在該驅動方向上產生一驅動力，該等線性馬達中之每一者包含： 一第一電磁總成及一第二電磁總成，該第二電磁總成經組態以與該第一電磁總成合作以用於產生該驅動力；其中該第一電磁總成與該第二磁性總成面向彼此且界定彼此之間在垂直於該驅動方向之一方向上的一間隙； 一第一介面，其用於將該等第一電磁總成連接至一共同部件； 一第二介面，其用於將該等第二電磁總成連接至該物件； 其中該等第一電磁總成及該等第二電磁總成在垂直於該驅動方向之該方向上經堆疊，且其中該第一介面及該第二介面中之至少一者經組態以實現該等各別第一電磁總成與該等第二電磁總成之間在垂直於該驅動方向之該方向上的一相對位移。
  2. 如請求項1之馬達總成，其中該等線性馬達中之每一者包含用於在操作期間維持該間隙之一軸承。
  3. 如請求項1或2之馬達總成，其中該等第一電磁總成中之至少一者憑藉一或多個片彈簧而連接至該共同部件。
  4. 如請求項1或2之馬達總成，其中該等第二電磁總成中之至少一者憑藉一或多個片彈簧而連接至該物件。
  5. 如請求項1或2之馬達總成，其中該等線性馬達中之每一者之該第一電磁總成包含一線圈總成，且其中該等線性馬達中之每一者之該第二電磁總成包含一磁體總成。
  6. 如請求項5之馬達總成，其中該線圈總成包含在該驅動方向上彼此鄰近地配置之一線圈陣列。
  7. 如請求項6之馬達總成，其中該磁體總成包含經組態以在該驅動方向上產生一空間上變化之磁場之一永久磁體陣列。
  8. 如請求項7之馬達總成，其中該磁體總成包含該永久磁體陣列安裝至之一磁體支撐結構。
  9. 如請求項8之馬達總成，其中該磁體支撐結構具有一敞開箱結構。
  10. 一種用於在一驅動方向上驅動一物件之馬達總成，該馬達總成包含： 一第一電磁總成及一第二電磁總成，其中該第二電磁總成包含一第一電磁子總成及一第二電磁子總成，該第一電磁子總成經組態以與該第一電磁總成合作以用於在該驅動方向上產生一第一驅動力，且該第二電磁子總成經組態以與該第一電磁總成合作以用於在該驅動方向上產生一第二驅動力；其中該第一電磁子總成面向該第一電磁總成之一第一表面，藉此界定該第一電磁總成與該第二電磁總成之間在垂直於該驅動方向之一方向上的一第一間隙；其中該第二電磁子總成面向該第一電磁總成之一第二表面，藉此界定該第一電磁總成與該第二電磁總成之間在垂直於該驅動方向之該方向上的一第二間隙； 一第一介面，其用於將該第一電磁總成連接至一共同部件或待驅動之該物件中的一者； 一第二介面，其用於將該第二電磁總成連接至該共同部件或待驅動之該物件中的另一者； 其中該第一電磁總成、該第一電磁子總成及該第二電磁子總成在垂直於該驅動方向之該方向上經堆疊，且其中該第二介面經組態以實現該第一電磁子總成與該第二電磁子總成之間在垂直於該驅動方向之該方向上的一相對位移。
  11. 如請求項10之馬達總成，其包含用於在操作期間維持該第一間隙及該第二間隙之一軸承總成。
  12. 一種微影裝置，其包含： 一照明系統，其經組態以調節一輻射光束； 一支撐件，其經建構以支撐一圖案化器件，該圖案化器件能夠在該輻射光束之橫截面中向該輻射光束賦予一圖案以形成一經圖案化輻射光束； 一基板台，其經建構以固持一基板；及 一投影系統，其經組態以將該經圖案化輻射光束投影至該基板之一目標部分上， 其中該微影裝置進一步包含一如前述請求項中任一項的用於定位該支撐件或該基板台之馬達總成。
  13. 一種器件製造方法，該方法包含使用一如請求項12之微影裝置將一經圖案化輻射光束投影至一基板上。
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